Fabrication des modules
photovoltaique
Réaliser par:
CHEBBAH AMEL
KHAZNADJI MAROUANE
Plan du travail
1)Fabrication du module photovoltaique
Etape1: matiére premiere
Etape2: Cristallisation du silicium et la mise en forme
des plaques
Etape3: Fabrication d’un panneau photovoltaique
conclusion
2) dépos de couche mince
Etape1: définition d’une couche mince
Etape2: Croissance d’une couche mince
Etape3: Techniques d’élaboration en couches minces
conclusion
Fabrication du module
photovoltaique
ETAPE 1 : MATIERE PREMIERE
Le Silicium est donc la matiére premiere obtenu a partir de
la Silice (SiO2) contenue dans le quartz ,ce dernier par
réduction carbothérmique effectuée dans un four a Arc qui
vont extraire l'oxygéne de la Silice (SiO2) en chauffant le
quartz avec des éspesses contenant du carbone comme la
houille par exemple alors sous l'effet de la chaleur vont se
combiner avec l'oxygéne du quartz.
A la fin de ce processus on obtient du Silicium
Metallurgique (MG Si) qui n'est pas encore exploitable pour la
creation de panneau solaire
ETAPE 2 : CRISTALLISATION DU SILICIUM ET
LA MISE EN FORME DES PLAQUES
•Purificaction
Le silicium va être purifié par ce que il contient des impuretés et parmi
les méthode de purification utilisé :
séparation magnétique ( extraire les métaux comme FeO , Al2O3 ....ext)
ségrégation Plus solubles en phase liquide que solide, les impuretés vont se séparer et migrer
vers les zones se solidifiant en dernier
•Cristallisation
La technique de cristallisation consiste à solidifier progressivement le silicium
polycristalline fondu de manière contrôlée. C’est dans la charge de silicium en fusion que sera
ajouté l’élément dopant, généralement du bore qui donne un dopage de type p. Le matériau
présente au final un réseau cristallin
La solidification
donne des briques de silicium multicristallin (mc-Si)
obtenu par coulage en lingotière dans laquelle s’opère un
refroidissement lent, de l’ordre de quelques dizaines
d’heures(12heurs) les briques multicristallin sont après
la deusiéme étape découpés en tranches par un fil de
diamant, à une épaisseur d’environ 250 µm pour tirées
les plaques de Silicium avec les quelles sont faites les
cellules
Les technologies de dépôt
des couches minces de
silicium
• Les filières couches minces sont issues des technologies
du revêtement de différents supports (verre, métaux,
plastiques )
des accumulations de couches minces de quelques
microns d’épaisseur que l’on peut classer en trois
grandes catégories :
les cellules basées sur le silicium amorphe : ce sont les
cellules utilisées dans les calculatrices
les cellules basées sur du tellurure de cadmium :(TeCd)
les cellules basées sur un alliage de cuivre:de gallium et
de sélénium (Cu(In,Ga)Se2, noté CIGS
Il existe des versions de cellules couches minces au
silicium:
monojonction : jonction N ou P
multijonctions : où l’on superpose deux jonctions
simples pour augmenter le rendement, l’une qui fonctionne
bien aux courtes longueurs d’onde et l’autre aux grandes
longueurs d’onde. Cela permet d’atteindre des rendements
plus élevés (environ 10 %).
triple jonctions :sont réalisés en phase vapeur par
plasma permettent de déposer sélectivement du silicium
dopé n ou p (grâce à l’introduction d’un peu de phosphore
ou de bore respectivement) sur des substrats supports à
très basse température
ETAPE 3 : FABRICATION DUN
PANNEAU PHOTOVOLTAIQUE
(ENCAPSULATION)
Nous nous proposons dans le cadre de ce travail de
présenter le procédé d’encapsulation que nous avons mis en
œuvre l’hor de notre visite au centre de recherche a
HERACHPROCEDE DEVELOPPE
Le procédé d’encapsulation des cellules photovoltaïques
comprend 9 étapes principales comme illustré sur la figure
suivante :
Classifica Soudure
tion des conducteurs Mise en guirlande
cellules sur face avant
Inspection Terminaison
Mise en sandwich et test du circuit
électrique électrique
Traitement finition Caractérisation
Thermique I-V Test de
haute tension
En cite les plus importante étape précédente :
1. Soudure conducteur su face et avant
Une fois les cellules arrivées elles vont étre monté en séries et souder sur un
support (guirlande) avec des tapes(aluminium étané en cuivre) pour assuré une
meilleur conductivité
Exemple :
Le montage série de 36 cellules(0,5 volte pour 1céllule) en paralléle nous donne
un panneau d’un rendement de 18 volte
Figure :montage des cellules en série
sur une girlande
Figure : les tapes
Figure: souder les tapes avec les cellules
2)Mise en sandwich
le panneau sandwich est constitué de plusieurs couche de matériaux, en premier il
as le verre tremper (verre spécifique qui permet la transmission maximal et la nom
pert de la lumiére . Les toitures panneaux sandwichs sont composées aussi d’un
isolant thermique qui est le plus souvent constitué de mousse de polymair
rigide (UVA), Puis il est ensuite enveloppé de deux parements. Un parement
extérieur qui correspond à la partie qui recevra les éléments de couverture
Verre tremper
polymaire rigide(EVA)
les couches de sandwich dans un
panneau solaire
3)Traitement thérmique
le panneau sandwich vas t’étre presser dans une machine qui s’appel (presse time)
régler a une température minimale de 100°C pendant 2minutes puis le maitre dans un four
a une température de 164°C pendant 15minutes
Figure :presse time machine
Figure :un four
4)Finnition
La plupart des panneaux solaires de haute qualité comporteront un cadre en
aluminium anodisé et l'utilisation de ce matériau présente de nombreux avantages. Plus
important encore, il a la capacité de réfléchir plus de chaleur, et comme dérnier étape
ajouté une boite de jonction pour finalisé le travail
Figure :monté une boite de jonction Dans
un panneau photovoltaique
Figure : un panneau photovoltaique
Conclusion
Le panneau solaire photovoltaïque est une nouvelle
technologie qui utilise une énergie renouvelable, elle
est verte et gratuite. La demande mondiale
d'électricité augmente depuis ces 13 dernières années,
donc entraîne une augmentation de la production
d'électricité.
Cette technologie qui à de l'avenir dans le domaine de
l'écologie n'est pas encore mise au point fortement
dans notre pays mais elle est en pleine croissance et
elle s'améliore.
dépots de couches minces
Etape 1: définition
dune couche mince
Définition une couche mince est une fine pellicule d’un
matériau déposé sur un substrat, dont l’une des dimensions a été
fortement réduite de telle sorte que l’épaisseur s’exprime
habituellement en "nm". Cette faible distance entre les deux
surfaces limites entraîne une perturbation de la majorité des
propriétés physiques
Etape 2:Croissance
d’une couche mince
differente classification de couche minces
Revêtement :Modification des propriétés du substrat
Couches épaisses : Exploitation des propriétés du matériau de la couche
Couches fines : Modification des propriétés du matériau de la couche
Croissance d’une couche mince
1. mettre des atomes sur une surface
2. Formation d’une dispersion d’atomes: soit sous forme gazeuse
(évaporation) ou sous forme liquide (solution)
3. Transport de la dispersion d’atomes sur la surface: condensation
(pour la forme gazeuse) ou étalement (pour la forme liquide)
4. Organisation des atomes sur la surface: Adsorption, diffusion sur
la surface, physisorption ou chimisorption
5. Critère clé pour la formation d’une couche mince de haute
qualité: mobilité des atomes sur la surface lors de l’organisation
Etape3: Techniques
d’élaboration en
couches minces
La préparation d’une couche mince est une étape décisive parce que les
propriétés physiques du matériau en dépendent. Selon la nature du processus, les
techniques utilisées pour la synthèse de couches minces
peuvent être divisées en deux groupes : les processus chimiques et les processus
Physiques
Evaporation sous vide:
La technique d'évaporation thermique consiste simplement
à chauffer par effet Joule un matériau qui est vaporisé, va se
déposer sur les substrats. La charge du matériau à déposer est
placée dans un creuset (en tungstène)
Afin de contrôler l'épaisseur des couches déposées, on utilise
une balance à quartz. Le principe de celle-ci consiste à détecter
la dérive de la fréquence d'oscillation du quartz par la
modification de sa masse lors de la croissance de la couche
déposée
C'est donc une mesure électrique qu'il faut bien évidemment
étalonner. A chaque début d'expérience, la fréquence de
référence est redéfinie. En mesurant le décalage de fréquence en
fonction du temps.
La pulvérisation cathodique
Les systèmes de pulvérisation cathodique
bénéficient d'une très grande popularité en milieu
industriel et ils permettent le dépôt de n'importe
quel matériau solide à température ordinaire,
surtout des matériaux difficiles à évaporer.
la pulvérisation simple
l'atmosphère de la décharge est chimiquement neutre, On injecte
ensuite le gaz d'argon pur pour créer le plasma.
la pulvérisation réactive
réactive l'atmosphère du plasma est Dans chacun des cas, la cible
peut être constituée d'un élément simple ou bien composé
Il existe différents types de systèmes de pulvérisation
cathodique, suivant le mode de création du plasma ou la
nature de la cible (conductrice ou isolante) : diode à
courant continu (DC), diode à courant alternatif (RF
un schéma de principe
de la pulvérisation
cathodique diode
Conclusion
•Pour chaque application, il y a une forme de
couche mince et une technique de dépôt
adaptée.
•Les spécificités des couches minces liés à leur
épaisseur réduite sont à prendre en compte.
•Les couches minces élargissent le champ du
possible par rapport aux matériaux massifs
