Fassicule Examen Semi
Fassicule Examen Semi
Semi-conducteurs
AG
et
Électronique Analogique
(Examens Corrigés)
TH
année universitaire 2018-2019
AR
RIHANI Anis
LOUSSAIEF Noura
I-C
EN
[Link]@[Link]
1
TABLE DES MATIÈRES Département Ing. Info.
E
1 Devoir Surveillé 2013-14 2
AG
3 Examen de Rattrapage 2013-14 18
9
TH
Devoir Surveillé 2015-16
38
45
E
Exercice 1
On étudie un cristal de germanium que l’on veut utiliser en tant que cap-
teur résistif de température, c’est-à-dire thermistance. Le germanium est un
AG
élément de la colonne IV du tableau périodique situé en dessous du silicium.
I- Densités des électrons et des trous
La densité des électrons (respectivement des trous) d’un semi-conducteur ho-
mogène à l’équilibre thermodynamique peut être évaluée à partir de la den-
sité d’états Dn (E) (resp. Dv (E)) susceptibles d’être occupés par les électrons
(resp. par les trous), et d’autre part de la probabilité fn (E) (resp. fp (E)) d’oc-
cupation par un électron (resp. un trou). On définit les niveaux suivants : Ec
- fn (E) =
1 2m∗
1 2mp
TH
le niveau bas de la bande de conduction, Ev le niveau haut de la bande de
valence et EF le niveau de Fermi. On rappelle :
- Dn (E) = 2 ( 2n )3/2 (E − Ec )1/2
2π } ∗
- Dp (E) = 2 ( 2 )3/2 (Ev − E)1/2
2π }
1
E−EF
1+exp( KT )
1
- fp (E) =
AR
E −E
1+exp( F )
R ∞ √ KT−x π
On donne 0
xe dx =
2
1/ Exprimer la densité des électrons n dans la bande de conduction en fonc-
tion de la densité d’états et de la probabilité d’occupation.
2/ Montrer que la densité des électrons dans la bande de conduction peut se
mettre sous la forme n = Nc exp(−(Ec − EF )/KT ). Préciser les hypothèses
utilisées et déduire l’expression de Nc .
I-C
3/ Par analogie avec les électrons, montrer que la densité des trous dans la
bande de valence peut se mettre sous la forme p = Nv exp(−(EF − Ev )/KT ).
Déduire l’expression de Nv .
4/ Exprimer le produit des concentrations des électrons et des trous. Déduire
la densité des porteurs intrinsèques à l’équilibre thermodynamique.
5/ Exprimer le niveau de fermi intrinsèque EF i en fonction de Ec , Ev , Nc et
Nv .
EN
E
2-a/ On se place dans le domaine des températures faibles définit par T<Tmin
−EF
tel que np et exp( EaKT ) 1. Écrire l’équation de la neutralité électrique
et déterminer l’expression de la position du niveau de Fermi en fonction de
AG
Ev , Ea , Na , Nv et KT. En remplaçant EF par son expression, réécrire l’ex-
pression de p en fonction de Ev , Ea , Na , Nv et KT.
2-b/ On se place dans le domaine des températures moyennes définit par
Tmin<T<Tmax tels que tous les atomes accepteurs sont ionisés et np.
Écrire l’équation de la neutralité électrique et déterminer l’expression de la
position du niveau de Fermi en fonction de Ev , Na , Nv et KT.
2-c/ On se place dans le domaine des températures élevées définit par T>Tmax
tel que n=p=ni. Déterminer l’expression de la position du niveau de Fermi
TH
en fonction de Ec , Ev , Nc , Nv et KT.
3/ En appliquant la continuité de la concentration des trous avec la température,
déterminer les expressions de Tmin et de Tmax .
4/ Tracer l’allure de ln(p) en fonction de 1/T et définir les trois régimes
trouvés.
B/ Circuit stabilisateur
E
Le pont alimente maintenant une branche contenant une diode Zener placée
en série avec R0 comme l’indique la figure ci-dessous. La caractéristique de
la diode Zener en polarisation inverse est assimilée à une droite passant par
AG
les points : (Iz1 = −10mA; Vz1 = −5V ) et (Iz2 = −100mA; Vz2 = −5.9V ).
TH
a/ Représenter l’allure de la caractéristique I-V d’une diode Zener
AR
b/ Déterminer l’équation de la caractéristique de la diode Zener (lien entre
Uz et Iz ) en polarisation inverse et déduire la valeur de la tension Zener.
c/ Déterminer la valeur du courant qui traverse le circuit (on négligera la
résistance dynamique dans le montage équivalent).
I-C
EN
E
Exercice 1
I- Densités des électrons et des trous
1/ La densité des électrons dont l’énergie est comprise entre E et E+dE dans
AG
la bande de conduction (BC) est égale au nombre de places disponibles par
unités d’énergie et de volume, qui est la densité d’états Dn (E), multiplié par
la probabilité d’occupation d’une place par un électron, multiplié par dE :
dn = Dn (E)fn (E)dE
La densité des électrons s’obtient en intégrant entre le niveau bas de la BC
et l’infini :
TH R∞
n = Ec Dn (E)fn (E)dE
2/ Pour un semi-conducteur non dégénéré avec un niveau de Fermi EF suf-
fisamment loin des extrémités des bandes Ec et Ev (|E − EF | > 3KT ), la
probabilité d’occupation devient :
EF − E
fn (E) = exp( )
KT
AR
L’intégrale devient
R ∞ 1 2m∗n 3/2 EF − E
n= Ec 2
( 2 ) (E − Ec )1/2 exp( )dE
2π } KT
1
On pose x = E − Ec et β = KT
,
1 2m∗n 3/2 EF − Ec R ∞ 1/2
n= ( ) exp( ) 0 x exp(−βx)dx
I-C
2π 2 }2 KT
On pose y = βx,
1 2m∗n 3/2 EF − Ec 3/2 R ∞ √ −y
n= 2
( 2 ) exp( )β 0
ye dy
2π } ∗
KT
2m KT EF − Ec
= 41 ( n 2 )3/2 exp( )
π} KT
Sachant que chaque état peut contenir deux électrons de spins opposés, la
EN
−Ec
n = Nc exp( EFKT )
E
3/ Par analogie avec le cas des électrons, la densité des trous dans la (BV)
s’écrit
AG
EF − E
dp = Dp (E)fp (E)dE avec fp (E) = exp( )
∗
KT
1 2mp Ev − EF 3/2 R ∞ √ −y
⇒ p = 2 ( 2 )3/2 exp( )β 0
ye dy
2π } ∗
KT
2mp KT 3/2 Ev − Ef
⇒ p = 21 ( ) exp( )
π}2 KT
2m∗p KT 3/2
En posant Nv = 21 ( ) appelée densité effective des trous dans la
π}2
BV, on obtient
np = Nc Nv exp( EFKT
TH
−Ec −EF
)exp( EvKT
−EF
p = Nv exp( EvKT )
4/ Le produit des densités des porteurs de charges s’écrit
−Ec
) = Nc Nv exp( EvKT ) = Nc Nv exp( −E
KT
g
)
avec Eg est l’énergie du gap. Par définition la densité intrinsèque est la quan-
AR
tité
√ √ −Eg
ni = np = Nc Nv exp( 2KT )
5/ Pour un semi-conducteur intrinsèque la densité des électrons dans la BC
est égale à la densité des tous dans la BV, ce qui donne
−Ec −EF
Nc exp( EFKT ) = Nv exp( EvKT )
I-C
d’où
E
E −E
1+exp( aKT F )
AG
Pour T < Tmin et n p, on aura : Na− = p.
En remplaçant les deux membres de cette égalité par leurs expressions, on
obtient
−EF −EF
Na
Ea −EF = Nv exp( EvKT ) avec exp( EaKT )1
1+exp( KT
)
v −2EF
soit, exp( Ea +EKT )= Na
Nv
Ea +Ev KT Nv
⇒ EF = + ln N
TH 1/2
2
Ev −Ea
⇒ p = (Na Nv ) exp( 2KT )
2 a
2-b/ Pour Tmin < T < Tmax tels que tous les atomes accepteurs sont io-
AR
nisés (Na− = Na ) et n p, l’équation de la neutralité s’écrit : p = Na . En
remplaçant p par son expression, on aura
−EF
Na = Nv exp( EvKT Nv
) ⇒ EF = Ev + KT ln( N a
)
2-c/ Pour T > Tmax avec n = p = ni , on a
−Ec −EF
Nc exp( EFKT ) = Nv exp( EvKT )
Ec +Ev KT
⇒ EF = 2
+ 2
Ln( Nv
Nc
)
I-C
Nv
et pour T = T max
*) p(T −→ T max− ) = p(T −→ T max+ )
√ −Eg Eg
√
Nc Nv
⇒ Na = ni = Nc Nv exp( 2KTmax
) ⇒ exp( 2KTmax
)= Na
Eg
⇒ KTmax =
ln( NNc N2 v )
a
E
AG
TH
4/ on a :
AR
v −Ea
*) ln(p) = E2KT + 12 ln(Na Nv ) pour T < Tmin ⇒ ln(p) = f (1/T ) une droite
Ev −Ea
de pente 2K
*) ln(p) = ln(Na ) pour Tmin < T < Tmax
−Eg
*) ln(p) = 2KT + 21 ln(Nc Nv ) pour T > Tmax ⇒ ln(p) = f (1/T ) une droite
−Eg
de pente 2K
Exercice 2
I-C
E
AG
TH
c/ La tension V2 (t) est périodique de période T /2, donc
R T /2
V2moy = T1/2 0 V1 (t)dt (entre 0 et T/2 V1 (t) est positive)
AR
1
R T /2 V01 2V01
⇒ V2moy = T /2 0
V01 sinωtdt = π
[cos 2π t]0
T T /2
= π
B/ Circuit stabilisateur
a/
I-C
EN
E
tension Zener.
On a donc : r1z = ∆U ∆Iz
z
= −100+10
−5,9+5
10−3 = 10−1 Ω −1 ⇒ rz = 10Ω.
La tension zener s’obtient à partir de l’équation de la droite :
AG
Iz1 = Urz1
z
+ Vrzz ⇒ Vz = −Uz1 + rz Iz1 = 5 + 10(−10−2 ) = 4, 9V
c/ Puisque V2 est positive la diode est polarisée en inverse.
*) pour V2 < Vz = 4, 9V , la diode se comporte comme un interrupteur ouvert
et le courant est nul
*) pour V2 > Vz = 4, 9V , la diode se comporte comme une f.e.m Vz et en
négligeant la résistance dynamique de la diode, le montage équivalent devient
TH
AR
Le courant s’écrit
i(t) = V2R−V
0
z
= V01 |sin(ωt)|−V
R0
z
= im sin(ωt) avec im = 16,9−4,9
200
= 0, 06mA
I-C
EN
E
Exercice 1
On considère un matériau à base de Silicium (Si) dopé avec les densités
NA = 5.1018 cm−3 et ND = 1016 cm−3 . Supposons qu’à la température am-
AG
biante tous les dopants sont ionisés.
Calculer la densité de courant de dérive pour un champ appliqué de l’ordre
de 10V/cm. On donne µn = 1350 cm2 .V −1 .s−1 ; µp = 480 cm2 .V −1 .s−1 .
Exercice 2 Étude d’une jonction PN
1/ diode à l’équilibre thermique
On considère une diode à jonction PN à base de Silicium (Si). Dans le com-
partiment P (x < 0) la densité des accepteurs est : NA = 5.1018 cm−3 . Dans
TH
le compartiment N (x > 0) la densité des donneurs est : ND = 1016 cm−3 . On
note :
- Ef n et Ef p les positions des niveaux de Fermi dans les compartiments dopés
N et P, respectivement. Ef étant la position du niveau de Fermi à l’équilibre
thermodynamique.
- Ec le niveau bas de la bande de conduction et Ev le niveau haut de la bande
de valence.
AR
- ε(x) le champ électrique et Φ(x) le potentiel électrique dans le volume.
- xn la largeur de la zone de déplétion dans la région N et xp la largeur de
la zone de déplétion dans la zone P. W étant la largeur total de la zone de
déplétion.
- Φp0 et Φn0 les potentiels des zones neutres N et P, respectivement, à l’équilibre
thermodynamique.
1.1/ Tracer les digrammes énergétiques dans les deux compartiments au
moment du contact et à l’équilibre thermodynamique. Indiquer dans les dia-
I-C
E
totale W en fonction de q, ξ, NA , ND , et ΦD .
2/ diode polarisée en inverse
On polarise la diode en inverse sous une tension VA négative.
AG
2.1/ Schématiser comment la diode est polarisée par une source de tension.
2.2/ Donner, en la justifiant, la nouvelle expression de l’épaisseur totale de
la zone de charge d’espace.
Exercice 3 Électronique analogique
Soit le montage ci-dessous. Le signal d’entrée eg attaque la base du transistor ;
la sortie du montage se trouve au niveau du collecteur. On rappelle que tous
les condensateurs se comportent comme des courts-circuits à la fréquence
de travail. On donne : VCC = 15V , VBE0 = 0, 7V , β = 100, R1 = 10kΩ,
TH
R2 = 40kΩ, RE = 1kΩ, RC = 2kΩ, Rs = 10kΩ, Rg = 100Ω.
1/ Calculer le point de fonctionnement de coordonnées :(IC0 , VCE0 ).
2/ Donner le schéma équivalent en petits signaux.
AR
I-C
EN
E
Exercice 1
Le courant de dérive (ou d’entrainement ou drift) est donné par
AG
j = qµn nE + qµp pE
Lorsque tous les atomes accepteurs et donneurs sont ionisés on a : n = ND
et p = NA . Soit
j = qµn ND E + qµp NA E = qE(µn ND + µp NA )
A.N j = 1, 6.10−19 10(1350 × 1016 + 480 × 5.1018 ) = 3861, 6 A/cm−2
Exercice 2
TH
1/ diode à l’équilibre thermique
1.1/
AR
I-C
EN
E
des trous de la zone P vers la zone N d’autre part.
1.2/ Dans la zone N, on a
n −Ec i −Ec −EF i −EF i
n = ND = Nc exp( EFKT ) = ND exp( EFKT )exp( EF nKT ) = ni exp( EF nKT )
AG
ND
⇒ EF n = EF i + KT ln( ni )
Dans la zone P, on a
E −E −EF i E −E E −E
p = NA = Nc exp( vKT F p ) = NA exp( EvKT )exp( F iKT F p ) = ni exp( F iKT F p )
⇒ EF p = EF i − KT ln( NnAi )
Soit : qΦD = EF n − EF p = KT ln( NAnN2 D )
i
18 16
A.N ΦD = 26mV × ln( 5.10102010 ) ≈ 0, 8V
1.3.1/ La distribution des charges dans le volume s’écrit :
0 si x < −xp
ρ(x) = {
TH
−qNA si −xp < x < 0
qND si 0 < x < xn
0 si x > xn
*) pour x < −xp , ρ = 0 ⇒ ε = 0 R
*) pour −xp < x < 0, ε(x) = −qN ξ
A
dx = −qN
ξ
A
∂ε
, et le champ est donné par ∂x = ρξ .
−−→
1.4/ On a ~ε = −gradΦ ⇒ ε(x) = − ∂Φ
∂x
*) pour x < −xp , ε = 0 ⇒ Φ = Φp
E
ξ
qNA qNA
R
⇒ Φ(x) = ξ (x + xp )dx = 2ξ (x + xp )2 + c3
La condition au limite pour x = −xp donne : Φ(xp ) = Φp = c3
qNA
AG
⇒ Φ(x) = 2ξ
(x + xp )2 + Φp
*) pour x > xn , ε = 0 ⇒ Φ = Φn
*) pour 0 < x < xn , ε(x) = qNξ D (x − xn )
⇒ Φ(x) = − qNξ D (x − xn )dx = − qN
R
2ξ
D
(x − xn )2 + c4
La condition au limite pour x = xn donne : Φ(xn ) = ΦP = c4
⇒ Φ(x) = − qN
2ξ
D
(x − xn )2 + Φn
TH
AR
La continuité du potentiel en x = 0 s’écrit :
Φ(0) = qN
2ξ
xp + Φp = − qN
A 2
2ξ
D 2
xn + Φn
⇒ ΦD = Φn − Φp = 2ξ xp + qN
qNA 2
2ξ
D 2
xn
−qNA −qND
I-C
1.5/ On a : ξ
xp = ξ
xn
ND
⇒ NA xp = ND xn ⇒ xp = x
NA n
q NA +ND D
La largeur de la q
zone de déplétion est la somme de xn et xp :
E
W = xn + xp = 2ξq NNAA+NND
D
ΦD
2/ diode polarisée en inverse
2.1/
AG
TH
2.2/ En polarisation inverse le champ appliqué s’ajoute au champ interne et
la barrière de potentiel augmente à l’interface ce qui conduit à l’augmenta-
tion de la largeur de la zone de charge d’espace :
AR
q
2ξ NA +ND
W = q NA ND
(ΦD − VA ), VA < 0
E
AG
*) V cc = (RC + RE )IC0 + VCE0 ⇒ VCE0 = V cc − (RC + RE )IC0
TH
2/ montage en petits signaux
BE0
+βRE
AR
I-C
EN
E
Physique des semi-conducteurs
On considère un semi-conducteur de type N dont la densité d’états dans la
bande de conduction est donnée par
AG
gc (E) = Rc (E − Ec )1/2
avec Rc est une constante, E est l’énergie d’un état dans la bande de conduc-
tion et Ec est le niveau bas de la bande de conduction. On désigne par EF
l’énergie du niveau de Fermi et par Ed l’énergie du niveau donneur dans le
gap (Ed > EF ). La densité d’atomes donneurs dans le volume est Nd . On
donne les probabilités d’occupation d’un état d’énergie E de la bande de
TH
conduction, et d’un état d’énergie Ed du niveau donneur :
fn (E) = exp(−(E − EF )/KT )
fD (Ed ) = 1+ 1 exp((E 1−E )/KT )
2 d F
E
1/ Déterminer l’expression de Vs pendant l’alternance positive
2/ Déterminer l’expression de Vs pendant l’alternance négative
3/ Représenter en concordance de temps Ve (t) et Vs (t).
AG
4/ déduire l’allure de Vs en fonction de Ve .
TH
AR
I-C
EN
E
Physique des semi-conducteurs
1/
AG
R∞ R∞
n0 = Ec gc (E)fn (E)dE = Rc Ec (E − Ec )1/2 exp(−(E − EF )/KT )dE
R∞
= Rc exp(−(Ec − EF )/KT ) Ec (E − Ec )1/2 exp(−(E − Ec )/KT )dE
On pose y = E − Ec
R∞√
n0 = Rc exp(−(Ec − EF )/KT ) 0
yexp(−y/KT )dy
y
On pose x = kT
TH
n0 = Rc exp(−(E
√
π 3
3 R∞ √
c − EF )/KT )(kT ) 2 0 xe−x dx
= 2 Rc (kT ) 2 exp(−(Ec − EF )/KT )
Nc =
√
2
π 3
Rc (kT ) 2
AR
2/
Nd
ne = Nd × fD (Ed ) = 1
1+ 2
exp((Ed − EF )/KT )
2Nd c
E
−3
4-4/ Nd = eµ1e ρ = 1,6.10−19 ×1,5.10
1 16
3 ×7,35.10−2 = 5, 7.10 cm
Électronique analogique
1/ Pendant l’alternance positive D2 est bloquante et :
AG
*) D1 est bloquante si Ve < E1 ⇒ Vs = Ve
*) D1 est passante si Ve > E1 ⇒ Vs = E1
2/ Pendant l’alternance négative D1 est bloquante et :
*) D2 est bloquante si Ve > −E2 (ou |Ve | < E2 ) ⇒ Vs = Ve
*) D2 est passante si Ve < −E2 (ou |Ve | > E2 ) ⇒ Vs = −E2
3/
TH
AR
4/
I-C
EN
E
Exercice 1
On considère un semi-conducteur dopé P avec la densité Na d’accepteurs, et
dopé N avec la densité Nd de donneurs. Ce semi-conducteur, dont les deux
AG
types de dopages sont présents, est appelé semi-conducteur compensé. Soit
Ea le niveau énergétique des accepteurs introduit dans le gap et Ed le niveau
énergétique des donneurs introduit dans le gap. Pour simplifier on suppose
que les densités des centres ionisés sont donnés par
Na− = Na
1+exp((Ea −EF )/KT )
Nd
Nd+ = 1+exp((EF −Ed )/KT )
TH
I-1/ Représenter le diagramme des bandes du semi-conducteur compensé
I-2/ Écrire l’équation de la neutralité électrique
II- On suppose que tous les centres sont ionisés
II-1/ Réécrire l’équation de la neutralité
II-2/ Déterminer une équation de second degré en n
II-3/ Résoudre cette équation et déterminer n
II-4/ Déduire n et p dans les cas particuliers Na Nd (SC-P) et N a Nd
AR
(SC-N)
−EF i
III- Les centres ne sont pas tous ionisés. On posera : x = exp( EFKT ),
Ea −EF i EF i −Ed
α = exp( KT ) et β = exp( KT ). EF i étant le niveau de Fermi in-
trinsèque.
III-1 Déterminer une relation entre x, α, β, ni , Na et Nd
III-2 Déterminer EF pour x = 1 et Na = Nd . Interpréter le résultat.
Exercice 2
I-C
Corrigé du DS 2014-1015
E
Exercice 1
I-1/
AG
I-2/
TH n + Na− = p + Nd+
Na Nd
n+ E −E =p+ E −E
1+exp( aKT F ) 1+exp( FKT d )
on a :
−EF i
- n = ni exp( EFKT ) = ni x
EF i −EF
- p = ni exp( KT ) = nxi
−EF −EF i i −EF
- exp( EaKT ) = exp( EaKT )exp( EFKT ) = α/x
Ef −Ed Ef −EF i Ef i −Ed
- exp( KT ) = exp( KT )exp( KT ) = βx.
EN
E −E −EF i E i −Ed
avec x = exp( fKT F i ) ; α = exp( EaKT ) et β = exp( fKT )
l’équation de neutralité devient
Na ni Nd
ni x + 1+α/x
= x
+ 1+βx
E
⇒ (Ea − EF i ) = (EF i − Ed ) ⇒ EF = EF i = Ea +E 2
d
.
Le semi-conducteur se comporte comme un semi-conducteur intrinsèque avec
un niveau de Fermi fixe situé à égales distances entre les niveaux donneur et
AG
accepteur.
Exercice 2
1/ D est bloquée si Ve (t) > E et elle se comporte comme un interrupteur
ouvert ⇒ Vs (t) = E.
D est passante si Ve (t) < E et elle se comporte comme un interrupteur fermé
⇒ Vs (t) = Ve (t).
2/
TH
AR
3/ Pour t ∈ [0, t1 ] et t ∈ [t2 , T ], D est passante et on a
Ve (t) + Ri(t) − E = 0 ⇒ i(t) = (E − Ve (t))/R
pour t ∈ [t1 , t2 ] D est bloquée et le courant est nul
RT Rt RT
4/ imoy = T1 0 i(t)dt = T1 0 1 i(t)dt + T1 t2 i(t)dt
avec Ve (t1 ) = E ⇒ t1 = (T /2π) arcsin(E/Vm ) et t2 = T /2 − t1
I-C
ce qui donne
Rt R T E Vm
imoy = 1/T 0 1 ( E R
− Vm
R
sinωt)dt + 1/T ( − R sinωt)dt
t2 R
= T R (t1 + T − t2 ) − 2π R ([cosωt]t1 + [cosωt]tT2 )
E T Vm 0
E
Exercice 1 Étude d’une diode à jonction PN
1- Diode à l’équilibre thermodynamique
AG
On considère une jonction abrupte qui sépare deux régions dopées P et N.
Soit Na la densité des atomes accepteurs dans la zone P et Nd la densité des
atomes donneurs dans la zone N. On prendra la position de la jonction pour
origine de l’axe des x.
1-1/ Tracer les diagrammes des bandes en énergie au moment du contact et à
l’équilibre thermodynamique (tracé des bandes de conduction et de valence,
des niveaux de Fermi et du niveau intrinsèque le long de la jonction).
1-2/ Expliquer qualitativement l’établissement de la barrière de potentiel
TH
dans une jonction PN à l’équilibre thermodynamique.
1-3/ Établir l’expression donnant le potentiel de diffusion ΦD en fonction
des densités des dopants Na et Nd et de la densité intrinsèque ni .
1-4/ Établir les expressions du champ électrostatique dans les différentes
régions côté P et côté N. On prendra pour conditions aux limites (−xp ) =
(xn ) = 0 avec xp et xn sont les largeurs de la zone déplétion dans la région
P et la région N, respectivement. Tracer l’allure du champ en fonction de x
AR
et déterminer l’expression donnant sa valeur maximale.
1-5/ Établir l’expression du potentiel de diffusion ΦD en fonction du champ
maximum εmax et de l’épaisseur de la zone de charge d’espace W.
1-6/ Établir l’expression donnant l’épaisseur de la zone de charge d’espace
totale W et celles donnant ses extensions xp et xn (respectivement dans les
régions P et N) en fonction de ΦD .
2- Diode polarisée en inverse
On polarise la diode en inverse sous une tension V négative.
I-C
Exercice 2
L’étude porte sur la caractérisation du circuit de la figure ci-dessous. Le tran-
sistor est de type 2N 1711 (β = 150). Le composant CG est un condensateur
EN
de liaison.
Étude en régime continu
1/ Calculez la valeur de la résistance RB nécessaire pour que la tension VCE0
soit égale à 10V (VBE0 = 0.6V ).
Étude en régime dynamique (signaux faibles aux fréquences moyennes)
On donne rbe = 750Ω
2/ Dessinez le schéma équivalent.
E
AG
TH
3/ Calculez les gains en tension AV 1 = VS1 /Vg et AV 2 = VS2 /Vg .
AR
I-C
EN
E
Exercice 1
1-1/
AG
TH
1-2/ La diffusion des électrons vers le compartiment P et des trous vers le
compartiment N conduit à l’apparition d’une charge d’espace à l’interface.
AR
Cette charge créée un champ électrostatique qui s’oppose à la diffusion des
charges. Le potentiel électrostatique qui en résulte forme une barrière de
potentiel qui bloque la diffusion.
1-3/ Dans la zone N, on a
n −Ec i −Ec −EF i −EF i
n = ND = Nc exp( EFKT ) = Nc exp( EFKT )exp( EF nKT ) = ni exp( EF nKT )
ND
⇒ EF n = EF i + KT ln( ni )
Dans la zone P, on a
E −E −EF i E −E E −E
p = NA = Nv exp( vKT F p ) = Nv exp( EvKT )exp( F iKT F p ) = ni exp( F iKT F p )
I-C
⇒ EF p = EF i − KT ln( NnAi )
Soit :
EF n −EF p
ΦD = q
= KT
q
ln( NAnN2 D )
i
ξ ξ
constante.
La continuité de ε(x) pour x = −xp permet de calculer c1 : ε(−xp ) =
− −qN
ξ
A
xp + c1 = 0 ⇒ c1 = − qNξ A xp
⇒ ε(x) = −qN ξ
A
(x + xp )
*) pour x > xn , ρ = 0 ⇒ ε =R 0
*) pour 0 < x < xn , ε(x) = qNξ D dx = qNξ D x + c2 avec c2 est une constante.
E
c2 = 0 ⇒ c2 = − qNξ D xn
⇒ ε(x) = qNξ D (x − xn )
Le champ est maximal pour x = 0, et sa continuité à cette position s’écrit :
AG
ε(0) = −εmax = −qN ξ
A
xp = −qN
ξ
D
xn
−−→
1-5/ On a ~ε = −gradΦ ⇒ ε(x) = − ∂Φ ∂x
TH
En remarquant que l’intégrale n’est autre que l’aire de la surface limitée par
la courbe du champ (triangle), on aura
AR
R xn ∂Φ R xn
−xp ∂x
dx = − −xp
ε(x)dx ⇒ Φ(xn ) − Φ(−xp ) = − (xn −(−xp2))(−ε(0))
⇒ ΦD = xn +x2p ε(0)) = W ε2max
1-6/ La continuité du champ pour x = 0 donne
−qNA
ξ
xp = −qN
ξ
D
xn ⇒ NA xp = ND xn
1 2
ΦD = W ε2max = qN
2ξ
A
xp (xn + xp ) = qN
2ξ
D
xn (xn + xp )
2ξΦD NA NA 2ξΦD
(1) ⇒ xp (xn + xp ) = qNA ⇒ xp ( ND xp + xp ) = x2p ( N D
+ 1) = qNA
I-C
q
⇒ xp = 2ξΦ D ND
qNA NA +ND
2ξΦD 2ξΦD
(2) ⇒ xn (xn + xp ) = qND
⇒ xn ( ND
x + xn ) = x2n ( N
NA n
D
NA
+ 1) = qND
q
⇒ xn = 2ξΦ D NA
qND NA +ND
Enfin
EN
q q q q
W = xn + xp = 2ξΦq D ( NNAA+N/ND
D
+ ND /NA
NA +ND
) = 2ξ(NA +ND )
qNA ND
ΦD
2- Diode polarisée en inverse
2-1 Lorsqu’on polarise en inverse une jonction PN le champ appliqué s’ajoute
au champ interne qui s’oppose à la diffusion. La barrière de potentiel aug-
menteqainsi que la largeur de la zone de déplétion
2ξ(NA +ND )
W = qNA ND
(ΦD −V)
E
zone déplétion
Ct = | ∂Q
∂V
p
| = | ∂Q
∂V
n ∂
| = | ∂V ∂
(qNA xp S)| = | ∂V (qND xn S)|
avec S est l’aire
qde la surface de séparationq entre les zones N et P à l’interface.
AG
qNA S 2ξ ND 1 qN S 2ξ NA √ 1
⇒ Ct = 2 √
qNA NA +ND ΦD −V
= 2 D
qND NA +ND ΦD −V
Exercice 2
1/ En régime continu le circuit équivalent est
TH
AR
On a pour VCE = VCE0 = 10V :
*) dans la maille contenant le collecteur et l’émetteur (à droite)
Vcc = (RC + RE )IC0 + VCE0 ⇒ IC0 = βIB0 = VRccC−V CE0
+RE
A.N. IC0 = 20−10
1+1
5
= 5mA et IB0 = 150 1
= 30 mA
*) dans la maille contenant la base et l’émetteur (à gauche)
Vcc = RB IB0 + VBE0 + RE IC0 ⇒ RB = Vcc −VBE0 −RE IC0
IB0
I-C
A.N RB = 10−0,6−5
1/30
= 30 × 4.4 = 132KΩ
2/ le circuit en régime dynamique ainsi que le montage de thévenin équivalent
sont donnés par la figure ci-dessous (vg ≡ eg )
EN
E
eth = (Rth + rbe )ib + RE βib ⇒ ib = Rth +rebeth+βRE
ic = β Rth +rebeth+βRE ⇒ Vs1 = −βRc Rth +rebeth+βRE
⇒ Av1 = −βRc Rth +rbe1 +βRE = −150 × 1000 × 50+750+150×1000
1
≈ −1
AG
eth
Vs2 = βRE Rth +rbe +βRE
⇒ Av2 = βRE Rth +rbe1 +βRE = 150 × 1000 × 50+750+150×1000
1
≈1
TH
AR
I-C
EN
E
Exercice 1
On considère une jonction abrupte formée par une zone intrinsèque (ZI) et
une zone dopée N (ZN) d’un même semi-conducteur (Si). Soit Nd la densité
AG
des donneurs et soit L la longueur de chaque zone. Soit A l’aire de la surface
de séparation. On modélise en premier lieu la jonction par deux résistances
R et RD qui correspondent à ZI et à ZN, respectivement (figure ci-dessous).
On se propose de calculer R et RD .
I-1 Expliquer qualitativement pourquoi RD < R.
I-2-1 Donner l’expression générale de la conductivité en fonction des densités
des porteurs libres et de leurs mobilités.
II- Cette structure peut être modélisée en second lieu par une barrière de
potentiel (qΦb ) à l’interface. On notera EF n le quasi-niveau de fermi dans la
EN
E
II-3 Établir une relation entre qΦb , EF n et EF i .
II-4 Déduire Φb en fonction de q, K, T, Nd et ni .
II-5 Déterminer la densité des charges dans le volume en fonction de x.
AG
II-6 Déterminer le champ électrique puis le potentiel électrostatique en fonc-
tion de x. On notera Ln la largeur de ZD et on supposera un champ nul dans
les régions neutres (ou quasi-neutres), E(Ln ) = 0.
II-7 Déterminer alors la nouvelle expression de Φb et déduire la largeur Ln
de la zone de déplétion.
II-8 Faire un schéma correspondant à une polarisation directe V de la jonc-
tion en indiquant clairement les bornes positive et négative.
II-9 Déduire une nouvelle expression de Ln en fonction de V.
Exercice 2
TH
On considère le circuit de la figure dans lequel la diode est supposée idéale
et la source est une tension sinusoı̈dale de type Ve (t) = Vm sin(ωt).
1/ Indiquer l’état de la diode pendant l’alternance positive et l’alternance
négative.
2/ Tracer Ve (t) et Vs (t).
3/ Déterminer l’expression du courant i(t).
AR
4/ Calculer la valeur moyenne de i(t).
On donne R = 100Ω et Vm = 10V .
I-C
EN
E
Exercice 1
I-1 La conductivité est proportionnelle à la densité des charges libres dans le
AG
volume. Donc la conductivité dans ZN est supérieure à la conductivité dans
ZI. Par la suite RD < R.
I-2-1 σ = qµn n + qµp p
~ ⇒ I = σV ⇒ V = R = L
I-2-2 ~j = σ E A L I σA
I-3 σI = qµn ni + qµp pi = q(µn + µp )ni
σd = qµn n = qµn Nd avec n p
I-4 R = σLI A = q(µn +µ
L
p )ni A
Rd = σdLA = qµnLNd A
A.N R =
A.N
II-1
TH
1,2.10−3
1,6.10−19 ×(1350+480)×1,5.1010 ×10−6
1,2.10−3
Rd = 1,6.10−19 ×1350×10 16 ×10−6 ' 555Ω
' 275M Ω
AR
II-2 Au moment du contact les électrons diffusent de la zone dopée N vers
I-C
pour 0 < x < Ln , E(x) = qNξ d dx = qNξ d x + c avec c est une constante.
R
E
La continuité de E(x) pour x = Ln permet de calculer c :
E(Ln ) = qNξ d Ln + c = 0 ⇒ c = − qNξ d Ln
⇒ E(x) = qNξ d (x − Ln )
AG
~ = −−
E
−→
gradΦ ⇒ ε(x) = − ∂Φ ∂x
⇒ Φ(x) = − qN2ξ
d
(x − Ln )2 + c1 avec c1 est une constante.
q
II-7 Φ(Ln ) − Φ(0) = qN2ξ
d
L2
n = Φb ⇒ L n = 2ξ
Φ
qNd b
II-8
TH
q
2ξ
II-9 Ln = (ϕb −V)
AR
qNd
Exercice2
1/ La diode est passante pendant l’alternance positive et bloquante pendant
l’alternance négative.
2/ Vs (t) = Ve (t) si t ∈ [0, T /2] et Vs (t) = 0 si t ∈ [T /2, T ]
I-C
EN
3/
Vs (t) Ve (t) Vm
*) pour t ∈ [0, T /2] : i(t) = R
= R
= R
sinωt
E
RT R T /2 R T /2
4/ imoy = T1 0 i(t)dt = T1 0 VRm sinωtdt = Vm
RT 0
sin 2π
T
tdt
Vm
⇒ imoy = 2πR [cos 2π t]0 = VπR
T T /2
m 1
= 10π A
AG
TH
AR
I-C
EN
E
Exercice 1
Pour le silicium (Si), les densités effectives des électrons dans la bande de
conduction et des trous dans la bande de valence sont données, respective-
AG
ment, par Nc = 3.1019 ( 300 T 3/2
) T 3/2
et Nv = 1019 ( 300 ) en cm−3 , avec T est la
température. On notera :
-ni la densité intrinsèque des charges
-Ec le niveau bas de la bande de conduction (BC)
-Ev le niveau haut de la bande de valence (BV)
-EF i le niveau de Fermi intrinsèque
1/ Donner les expressions des densités des électrons n dans la BC et des
TH
trous p dans la BV en fonction de Nc , Nv , Ec , Ev et EF i .
2/ Déterminer EF i en fonction de Nc , Nv , Ec , Ev et KT.
3/ En remplaçant Nc et Nv par leurs expressions, montrer que EF i est situé
au-dessous du milieu du gap.
4/ Tracer le diagramme des bandes énergétiques en précisant la position de
EF i dans le gap. Quel type de dopage permettant d’avoir une telle position
pour le niveau de Fermi ? Déduire le type du semi-conducteur formé par le
Si.
AR
5/ Pour avoir un niveau de Fermi EF situé au milieu du gap, on dope le Si
par une densité Nd0 de donneurs. On se propose de chercher l’expression de
Nd0 en fonction de ni . On suppose que tous les donneurs sont ionisés.
5-1/ Montrer que EF = EF i + KT Ln( Nnd0i ).
5-2/ Déduire une relation entre Nd0 et ni .
Exercice 2
On considère un matériau à base de Silicium (Si) dopé avec les densités
I-C
par 2 ?
On donne µn = 1350 cm2 .V −1 .s−1 ; µp = 480 cm2 .V −1 .s−1 .
Corrigé du DS 2015-2016
E
Exercice 1
i −Ec
1/ n = Nc exp( EFKT )
Ev −EF i
p = Nv exp( KT )
AG
2/ La neutralité électrique s’écrit n = p, soit
i −Ec −EF i
Nc exp( EFKT ) = Nv exp( EvKT ) ⇒ exp( 2EF i −E
KT
c −Ev
)= Nv
Nc
Ec +Ev KT Nv
⇒ EF i = 2 + 2 Ln( Nc )
T 1/2
Ec +Ev KT 1019 ( 300 )
3/ EF i = 2
+ 2
Ln( 19
3.10 ( 300T 1/2
) )
Ec +Ev KT
⇒ EF i = 2
+ 2
Ln( 3 ) = 2 − KT
1 Ec +Ev
2
Ln3
( Ec +E
2
v
) est la position du milieu du gap, donc EF i est situé en dessous.
4/ Dans les semi-conducteurs dopés par des atomes accepteurs le niveau de
TH
Fermi se situe au dessous du milieu du gap (se rapproche de la bande de
valence). Le Si est donc un semi-conducteur de type P.
AR
5-1/ La densité des électrons dans la BC devient
−Ec
n = Nd0 = Nc exp( EFKT ) = Nc exp( −EFKT
i +EF i −Ec
)exp( EFKT −EF i
) = ni exp( EFKT )
⇒ EF = EF i + KT Ln( Nnd0i )
5-2/ EF est maintenant situé au milieu du gap, donc
I-C
EF = Ec +E
2
v
= EF i + KT Ln( Nnd0i )
en remplaçant EF i par son expression, on aura
Ec +Ev
2
= Ec +E
2
v
− KT
2
Ln3 + KT Ln( Nnd0i )
√
⇒ Nd0 = 3ni
Exercice 2
1/ σ = q(µn n + µp ) = q(µn ND + µp NA )
EN
E
I- On considère une diode fabriquée par une homo-jonction formée par
une zone dopée P, avec la densité Na d’atomes accepteurs, et une zone dopée
N, avec la densité Nd d’atomes donneurs. Soient Lp la largeur de la zone P, et
AG
Ln la largeur de la zone N. On prendra la position du contact métallurgique
pour origine de l’axe des x comme l’indique la figure ci-dessous. On adoptera
les notations suivantes :
- EF le niveau de Fermi
- Ec(v) le niveau bas (haut) de la bande de conduction (valence)
- E(x) le champ électrique
- n et p sont les densités des électrons et des trous, respectivement
TH
- np0 et pn0 sont les densités des porteurs minoritaires à l’équilibre
- Xn la largeur de la zone de déplétion dans la zone N
- Xp la largeur de la zone de déplétion dans la zone P
1/ Donner les diagrammes énergétiques de la jonction au moment du contact
et à l’équilibre thermodynamique. Indiquer clairement sur les diagrammes :
les niveaux énergétiques, les courbures des bandes, les zones chargées et quasi-
neutres, les porteurs majoritaires et les porteurs minoritaires dans chacune
des zones dopées
AR
2/ Déterminer la densité des charges en fonction de x et tracer son allure
3/ Déterminer le champ électrique et tracer son allure en fonction de x
II- La diode est maintenant polarisée en directe avec la tension Va > 0.
1/ Donner le digramme énergétique de la jonction polarisée
2/ Dans le cas où les longueurs de diffusion des porteurs minoritaires sont
très grandes devant les largeurs des zones dopées, les équations de continuité
se réduisent aux équations différentielles suivantes
I-C
∂n 1 ∂2n
∂t
= q ∂x2
pour les électrons
et,
∂p 1 ∂2p
∂t
= q ∂x2
pour les trous
2-1/ Montrer qu’au régime stationnaire les solutions de ces équations différentielles
dans chaque zone sont données par
EN
np (x) = Ax + B et pn (x) = Cx + D
qva
et pn (Xn ) = pn0 exp( KT ), déterminer les expressions des constantes A, B, C
E
et D.
2-3/ Montrer que le courant de diffusion total s’écrit
qva
I = Is (exp( KT ) − 1)
AG
dont on déterminera l’expression de Js. Notons que I(s) = AJ(s) où A est l’aire
de la surface qui sépare les deux zones au niveau du contact métallurgique.
III- La diode est maintenant utilisée dans le circuit de la figure ci-dessous qui
comporte trois résistors, et deux générateurs de tensions continues de f.e.m
E1 et E2 . On donne Ri = R (i=1,2,3) et E1 = 4E2 .
1/ Tracer l’allure de courant établi en III-2-3 en fonction de la tension
appliquée (I − Va ) et rappeler les trois approximations utilisées pour le
TH
modéliser. Tracer pour chaque modèle les caractéristiques (I − Va ).
Dans la suite on supposera que la diode est idéale.
2/ Donner le montage de Thévenin équivalent entre A et B. Déterminer :
Eth en fonction de E1 puis de E2 , et Rth en fonction de R.
3/ Déterminer alors l’état de la diode et le courant I qui la traverse en fonc-
tion de E2 et R
On remplace E1 par la tension sinusoı̈dale v(t) = vm sinωt avec vm = 4E2 .
AR
On prendra pour circuit d’étude le montage de Thévenin déterminé en III-2
et on remplacera E1 par v(t) dans l’expression de Eth .
4/ Étudier l’état de la diode
5/ Déterminer le courant i(t) qui traverse la diode en fonction de E2 et R
6/ Déduire la puissance moyenne dissipée par effet de Joule dans R2
I-C
EN
E
I-
1/
AG
des charges ρ = 0.
TH
2/Dans les zones quasi-neutres −Lp < x < −Xp et Xn < x < Ln la densité
3/ ∂E
∂x
= ρξ
Dans les zones neutres (−Lp < x < −Xp et Xn < x < Ln ) ρ = 0, donc
E = 0.
*) −Xp < x < 0 : ∂E∂x
= − qNξ a ⇒ E(x) = − qNξ a x + c1 avec la continuité du
champ pour x = −Xp qui s’écrit E(−Xp ) = 0
⇒ E(−Xp ) = qNξ a Xp + c1 = 0 ⇒ c1 = − qNξ a Xp
EN
⇒ E(x) = − qNξ a (x + Xp )
E
AG
II-
1/
TH
AR
I-C
∂n 1 ∂2n
∂t
= q ∂x2
=0
∂p 1 ∂2p
∂t
= q ∂x2
=0
l’intégration donne
EN
np (x) = Ax + B et pn (x) = Cx + D
E
qva
np (−Lp ) = −ALp + B = np0 et np (−Xp ) = −AXp + B = np0 exp( KT )
On en déduit
np0 qva Lp np0 qva
A= (exp( KT ) − 1) et B = np0 + ALp = np0 + (exp( KT ) − 1)
AG
Lp −Xp Lp −Xp
⇒ I = AjD = A( LDpn−X
⇒ js = LDpn−X
np0
p
np0
p
∂x
+ LDnp−X
+
pn0
n
p
TH
− qDp ∂p
p0
p
Dp pn0
Ln −Xn
qva
(exp( KT
qva
)(exp( KT
)−1)+Dp Lnp−X
)
n0
n
qva
(exp( KT
qva
− 1) = js (exp( KT
)−1))
) − 1)
III-
1/ l’allure de la caractéristique I-V (dernière relation établie en III-2) est
AR
donnée par la figure ci-dessous
I-C
EN
E
comme un interrupteur fermé (diode passante).
*) modèle de la diode parfaite (ou modèle à seuil) : en polarisation inverse et
pour une tension positive appliquée inférieure à la tension seuil vs , le courant
AG
est nul et la diode se comporte comme un interrupteur ouvert (bloquante).
Pour va > vs la diode se comporte comme une force contre-électromotrice
idéale de f.c.e.m vs (passante).
*) modèle de la diode réelle (ou modèle linéarisé) : en polarisation inverse et
pour va < vs la modélisation est la même que pour le modèle à seuil. Pour
va > vs la diode se comporte comme une force contre-électromotrice réelle
de f.c.e.m vs et de résistance interne rd .
TH
AR
R3 E1 4RE2 R3 R1
2/ Eth = R3 +R1
= 2R
= 2E2 et Rth = R3 +R1
= R/2
I-C
EN
E
AG
TH
3/ Soit Ud la tension aux bornes de la diode. On a
Ud = Eth − E2 = 2E2 − E2 = E2 > 0 ⇒ la diode est passante et on la
remplace par un interrupteur fermé (diode idéale).
Eth −E2 E2
Le courant qui traverse la branche AB s’écrit I = R th +R2
= R/2+R = 2E2 /3R
AR
4/ la tension aux bornes de la diode devient
vd = Eth − E2 = RR33+R v(t)
1
− E2 = v(t) 2
− E2 = 2E2 sinωt − E2 = E2 (2sinωt − 1)
*) la diode est bloquante et se comporte comme un interrupteur ouvert avec
I = 0 si vd < 0 donc pour (2sinωt − 1) < 0 ⇒ ωt < π/4 et ωt > 3π/4 ⇒ t <
T /8 et t > 3T /8
*) la diode est passante et elle se comporte comme un interrupteur fermé si
vd > 0 donc pour (2sinωt − 1) > 0 ⇒ t ∈ [T /8, 3T /8]
5/ *) I = 0 si t < T /8 et t > 3T /8
I-C
*) I = R Eth −E2
th +R2
= E2 (2sinωt−1)
3R/2
= 2E 3R
2
(2sinωt − 1) si t ∈ [T /8, 3T /8]
1
R T 1
R T
6/ Pm = T 0 P (t)dt = T 0 R2 I(t)2 dt
R 3T /8 1 2E2 2 3T /8
= T1 T /8 R[ 2E 2
R
3R
2
(2sinωt − 1)] dt = TR
( 3
) T /8
(4sin2 ωt − 4sinωt + 1)dt
3T /8 3T /8 R 3T /8
= T1R ( 2E3 2 )2 [2 T /8 (1 − cos2ωt)dt − 4 T /8 sinωtdt + T /8 dt]
R R
R 3T /8 R 3T /8 R 3T /8
= T1R ( 2E3 2 )2 [3 T /8 dt − 2 T /8 cos2ωtdt − 4 T /8 sinωtdt]
√ √
= T1R ( 2E3 2 )2 [3T /4 + T /π − 2√ 2 Tπ ] = R1 ( 2E3 2 )2 [3/4 + 1/π − 2 π 2 ]
EN
E
Exercice 1
I- On considère un semi-conducteur extrinsèque dont le diagramme énergétique
est donné par la figure ci-dessous. Soit Nx la densité des dopants et Ex le
AG
niveau énergétique introduit dans le gap.
I-1/ De quel type de semi-conducteurs s’agit-il ? Justifier votre réponse.
I-2/ Écrire les expressions des densités des électrons n, et des trous p, dans
les bandes de conduction et de valence, respectivement.
I-3/ Écrire l’équation de la neutralité électrique
I-4/ Montrer que la densité des ions dans le volume du semi-conducteur
s’écrit
f (x) = 1
EF −Ex .
1+exp( KT
)
TH Nx− = Nx
E −E
1+exp( xKT F )
E
On donne : A = 10−6 cm2 ; L = 1mm ; la mobilité µ = 480cm2 .V −1 .s−1
Exercice 2
On considère le circuit de la figure ci-dessous qui comporte une diode (D)
AG
supposée idéale, un générateur de tension sinusoı̈dale v(t), et trois résistors
R1 , R2 et R. On donne R1 = 2R et R2 = R.
1/ Discuter l’état de la diode pendant les alternances positives et négatives
2/ Déterminer le courant iD qui traverse (D) en fonction du temps
3/ Déterminer la tension uD aux bornes de (D) en fonction du temps
4/ Tracer en concordance du temps v(t), uD (t) et uR (t)
TH
AR
I-C
EN
E
Exercice 1
I-1 Il s’agit d’un semi-conducteur de type P puisque le niveau énergétique
AG
introduit dans le gap est proche de la bande de valence
−Ec −EF
I-2 n = Nc exp( EFKT ) et p = Nv exp( EvKT )
−
I-3 n + Nx = p
I-4 La densité des atomes neutres dans le volume, Nx0 est égale à la probabilité
f (x) multipliée par la densité totale des atomes Nx
Nx
Nx0 = f (x)Nx = E −E
1+exp( FKT x )
On en déduit la densité des atomes ionisés (ou la densité des trous créés dans
la bande de valence)
TH
Nx− = Nx − Nx0 = Nx (1 −
1+exp(
1
EF −Ex
KT
)
)=
−Ec −EF
Nc exp( EFKT )+ Nx
Ex −EF = Nv exp( EvKT )
1+exp( KT )
AR
EF −Ex −Ec −Ex −EF
⇒ Nc exp( KT )exp( ExKT )+ Nx
E −E = Nv exp( EvKT )exp( ExKT )
1+exp( xKT F )
−EF
On pose x = exp( ExKT ), ∆1 = Ex − Ec et ∆ 2 = Ev − Ex .
⇒ Nc
x
exp( −∆
KT
1
) + Nx
1+x
= Nv exp( −∆
KT
2
)x
j = je + jp = q(µn n + µp p)E
II-2 R = UI = 4.10
10
−3 = 2, 5KΩ
Exercice 2
1/ La tension uD aux bornes de la diode s’écrit :
uD = R1R+R v(t)
- pendant l’alternance positive v(t) > 0 donc uD > 0 et la diode est passante
- pendant l’alternance négative v(t) < 0 donc uD < 0 et la diode est blo-
quante
2/
E
- si v(t) > 0 ou t ∈ [0, T /2] :
i(t) = uRR2 avec uR = R1R//R 2
+R//R2
v(t)
RR2
et R//R2 = R+R = R/2
AG
2
E
Partie 1
Soit un cristal de germanium dopé avec de l’indium (atome accepteur). On
négligera les variations de Nc et de Nv en fonction de la température et on
AG
prendra Na = 1016 cm−3 et Nv = 0, 6.1019 cm−3 .
Dans tout l’exercice on néglige la densité des électrons n.
La probabilité d’occupation d’un niveau d’énergie E est :
1
fn (E) = E−E
1+exp KT F
TH
2/ Montrer que Na− = Na /(1 + exp((Ea − EF )/KT )).
3/ Écrire l’équation de la neutralité électrique (on rappelle que n << p).
4/ En posant x = exp((Ev − EF )/KT ), montrer que l’équation de neutralité
conduit à l’équation au second ordre suivante
différence de potentiels U.
On donne A = 10−6 cm2 , L = 10−3 cm et µp = 1, 9.103 cm2 /V s.
1/ Dans quel régime de température doit-on se placer pour avoir des gran-
deurs physiques stables et reproductibles ?
2/ Établir une relation entre la conductivité, la densité et la mobilité des
trous.
E
4/ Calculer R et déduire le courant d’entrainement qui traverse la barre pour
U = 10V .
AG
TH
AR
I-C
EN
Corrigé du DS 2016-2017
E
Partie 1
1/ C’est un semi-conducteur dopé avec des atomes accepteurs ⇒ c’est un
AG
semi-conducteur de type P
2/ Na− = fn (Ea )Na = Na
Ea −EF
1+exp( KT
)
3/ n + Na− = p avec n << p ⇒ p = Na−
4/
−EF
p = Nv exp( EvKT )= Na
E −E = −Ev
Na
E −E
1+exp( aKT F ) 1+exp( EaKT )exp( vKT F )
Na −Ev
⇒ Nv x = −Ev
1+exp( EaKT )x
⇒ Nv x(1 + exp( EaKT )x) = Na
2 Ev −Ea
⇒ x = − 12 exp( EvKT
6/
−Ea
TH Na
⇒ x + exp( KT )x − Nv exp( KT ) = 0
) + 4NN
a
qv
Ev −Ea
−Ea
exp( EvKT
) + 21 exp( 2(EKT
)
v −Ea )
q
) + 4N a
Nv
−Ea
exp( EvKT )
Ev +Ea Na
⇒ EF = 2 − (KT /2) ln( Nv )
−Ev
7/exp( EaKT ) << 1
q
−Ev −Ev
x = 1/2exp( EaKT )[−1 + 1 + 4Na
Nv
exp( EaKT )]
−Ea −Ev
≈ 1/2exp( EvKT )[−1 + 2 N
Nv
a
exp( EaKT ) + 1] = Na
Nv
−EF −EF
x = exp( EvKT )= N a
Nv
⇒ EvKT = ln( Na
Nv
)
EN
Nv
⇒ EF = Ev + KT ln( Na )
8/
*) Pour les basses
q températures √
v −Ea v −Ea
p = Nv x = Nv N Nv
a
exp( E2KT ) = Na Nv exp( E2KT )
*) Pour les températures moyennes
p = Nv = x = Nv N Nv
a
= Na
√ v −Ea
q
v −Ea
9/ Na = Na Nv exp( E2KT )⇒ N a
= exp( E2KT )
E
0 Nv 0
Ev −Ea
⇒ 2KT0
= 12 ln( N
Nv
a
) ⇒ KT0 = Eln(v −E
Na
a
)
Nv
0,011
A.N KT0 = 18 = 1, 72.10−3 eV
ln( 6.1016 )
AG
10
−3
KT = 0, 026eV pour T = 300K ⇒ T0 = 1,72.10 2,6.10−2
× 300 ≈ 20K
Partie 2
1/ Pour avoir des grandeurs physiques stables et reproductibles, il faut que la
densité des porteurs de charges soit constante en fonction de la température.
Donc on doit travailler au régime des températures moyennes.
2/ j = eµp pE = σE ⇒ σ = eµp p
3/ R = UI = jA U U
= eµp pAU/L = eµpLpA
U U L
ou R = jA = σEA = σA
4/ A.N R = 1,6.10−19 ×1010
U 10 TH −3
16 ×1,9.103 ×10−6 ≈ 330 Ω
E
Exercice 1
On considère une jonction P + N abrupte à la température ambiante.
Données : Na = 1018 cm−3 , Nd = 1015 cm−3 , ni = 1010 cm−3 , kB T = 25meV
AG
I- Jonction P + N non polarisée
Décrire qualitativement la formation d’une zone de charge d’espace ZCE
(ou de déplétion) à l’équilibre thermodynamique, et la création d’un champ
électrique interne en indiquant son effet. Dessiner le diagramme des bandes
de la jonction à l’équilibre en explicitant les différentes énergies significatives.
Déterminer le potentiel de diffusion VD . Faire l’application numérique.
Y a-t-il un courant qui traverse la jonction ? Expliquer.
chaque compartiment. TH
II- Jonction P + N polarisée en direct
1- Donner le montage de polarisation en indiquant clairement la polarité de
∂p ∂jp
∂t
= −1
q ∂x
− p−p
τp
0
On appellera :
- xn(p) la largeur de la zone de déplétion dans la zone N (P)
- Ln(p) la largeur de la zone N (P)
On se place dans l’hypothèse d’une jonction longue.
4- Que signifie cette hypothèse ? Écrire l’équation de continuité des trous
I-C
Exercice 2
On modélise la caractéristique courant-tension d’une diode à jonction PN
E
AG
TH
1- De quel modèle s’agit-il ?
2- Expliquer le fonctionnement de cette diode.
La diode est maintenant placée dans le montage ci-dessous. La source si-
nusoı̈dale, délivrant une tension de la forme Ve (t) = VM sin(ωt), est placée
en série avec une source continue de f.e.m E tel que VM > (E + Vd ).
3- Étudier l’état de la diode.
AR
4- Déterminer l’expression de Vs .
5- Tracer Vs (t) et Ve (t) dans le même graphe.
6- Tracer Vs en fonction de Ve .
I-C
EN
E
Exercice 1
I- Au moment du contact des deux compartiments, les trous diffusent de la
zone P + vers la zone N et les électrons diffusent de la zone N vers la zone
AG
P + . Il s’ensuit la formation d’une zone de charge négative dans la zone P +
et une zone d’espace positive dans la zone N . Un champ électrique interne
est créé et s’oppose à la diffusion des charges. A l’équilibre la diffusion des
charges est stoppée.
TH
AR
Dans la zone P + on a :
I-C
E −E
p = Na = ni exp( F iKT F p ) ⇒ EF p = EFi + KT ln( Nnia )
De même, dans la zone N :
−EF i
n = Nd = ni exp( EF nKT ) ⇒ EF n = EFi + KT ln( Nnid )
EF n −EFp
⇒ EF n − EFp = KT ln( Nnd N
2 ) ⇒ VD =
a
q
= KT
q
ln( Nnd N
2 )
a
i i
1018 ×1015
A.N. VD = 0, 025ln( 1020 ) ≈ 0, 75 V
A l’équilibre, le courant de diffusion est équilibré par le courant inverse due
EN
E
AG
2-
TH
AR
de potentiels à l’interface. Les courants des électrons et des trous sont donc
des courants de diffusion.
4- Dans l’hypothèse d’une jonction longue, les longueurs des diffusions des
électrons et des trous sont très inférieures à Ln et Lp . On peut donc supposer
que Ln(p) ≈ ∞ et qu’aux extrémités de la jonction les densités des charges
ne sont pas influencées par la diffusion (reste à leur état d’équilibre thermo-
dynamique).
EN
2
Au régime stationnaire : Dp ∂∂xp2n − pn −p
τp
n0
=0
0
5- Soit pn la densité des trous en excès dans la zone N. On a :
2 0 0
p0n = pn − pn0 ⇒ Dp ∂∂xp2n − pτnp = 0
∂ 2 p0n p0n
6- ∂x2
− Dp τp
=0
p
On pose Xp = Dp τp (appelée longueur de diffusion des trous)
E
2 0 0
⇒ ∂∂xp2n − Xpn2 = 0, dont la solution est de la forme :
p
AG
E −E E −E −VD )
−EF n
pn (xn ) = Nv exp( EvKT ) = Nv exp( vKT F p )exp( F pKT F n ) = pp exp( q(VKT )
n2
= pp exp( −qV
KT
D qV
)exp( KT ) = pp N a N
i
d
qV
exp( KT qV
) = pn0 exp( KT )
qV
⇒ p0n (xn ) = pn0 (exp( KT ) − 1)
*)x = Ln :
pn (Ln ) = pn (∞) = pn0 ⇒ p0n (∞) = 0
8- En utilisant les conditions aux limites, on aura :
qV
p0n (xn ) = Aexn /Xp + Be−xn /Xp = pn0 (exp( KT ) − 1)
0
pn (∞) = Ae ∞/Xp
∂x
n
TH
+ Be −∞/Xp
∂x
pn0
= Ae
Xp e−xn /Xp
∂
= −qDp ∂x
∞/Xp
jp (x) = −qDp ∂p
qV
⇒ B = e−xn /Xp (exp( KT ) − 1)
= −qDp ∂p
0
Be−x/Xp
qV
=0
qV
) − 1)
(e KT −1)e−x/Xp = qD
Xp
p
(−x+xn )
e Xp pn0 (e KT −1)
qV
E
- si VD > Vd ⇔ Ve − E > Vd la diode est passante.
4-
- si Ve − E < Vd le circuit équivalent est
AG
⇒ Vs = 0
TH
- si Ve − E > Vd le circuit équivalent est
AR
⇒ Vs = Ve − E − Vd
5-
I-C
EN
E
AG
6-
TH
AR
I-C
EN
E
Exercice 1
On considère une diode à jonction PN à base de Si avec une densité d’atomes
accepteurs NA et une densité d’atomes donneurs ND . On note Lp et LN
AG
les largeurs des zones N et P, respectivement, dP et dN les largeurs des
zones de déplétion de côtés N et P, respectivement, p0p (n0p ) la densité des
trous (électrons) dans la zone P avant contact, p0n (n0n ) la densité des trous
(électrons) dans la zone N avant contact, et pp (np ) la densité des trous
(électrons) dans la zone P après contact, pn (nn ) la densité des trous (électrons)
dans la zone N après contact.
La position du contact métallurgique est confondue avec l’axe des x.
TH
AR
1- Tracer les diagrammes des bandes énergétiques dans les deux comparti-
ments P et N au moment du contact et à l’équilibre thermodynamique.
2- Établir l’expression donnant le potentiel de diffusion ΦD en fonction de K,
T, q, NA , ND et ni . Avec K est la constante de Boltzmann, T la température,
q la charge élémentaire et ni la densité intrinsèque des charges.
3- Expliquer la distribution de charges dans le volume entier et indiquer les
porteurs minoritaires et les porteurs majoritaires dans chaque zone.
4- On polarise la jonction par une d.d.p égale à va > 0.
I-C
E
On se place au régime des faibles injections et on suppose qu’aux extrémités
de la jonction les densités des charges sont à l’équilibre thermique.
8- Déduire l’expression finale de courant qui traverse la jonction.
AG
Exercice 2
1- Définir et expliquer le fonctionnement d’une diode Zener.
2- Tracer ses caractéristiques coutant-tension.
3- Un réveille-matin est alimenté par une source de tension continue (figure
ci-dessous). Il consomme 10mA au repos et consomme 100mA quand il sonne.
En plus, pour que la diode Zener fonctionne, il faut au moins avoir un cou-
rant de 30mA qui la traverse en tout temps. D’autre part, pour limiter la
chaleur dissipée, il ne faut pas avoir une puissance de plus que 0.5W dans la
diode.
TH
Trouvez un intervalle de valeurs de la tension d’alimentation V qui remplirait
ces conditions. On donne VZ = 3V .
AR
I-C
EN
E
Exercice 1
1-
AG
TH
AR
2- Dans la zone P on a :
E −E
p = NA = ni exp( F iKT F p ) ⇒ EF p = EFi + KT Ln( NnAi )
De même, dans la zone N :
−EF i
n = ND = ni exp( EF nKT ) ⇒ EF n = EFi + KT Ln( NnDi )
E −E
⇒ EF n − EFp = KT Ln( NDnN 2
A
) ⇒ ΦD = F n q Fp = KT q
Ln( NDnN
2
A
)
i i
3- Au moment du contact les électrons majoritaires dans la zone N diffusent
vers la zone P dans laquelle ils sont minoritaires. De même les trous majori-
I-C
taires dans la zone P diffusent vers la zone N dans laquelle ils sont minori-
taires. Il s’ensuit l’apparition d’une charge positive à l’interface de côté N due
aux atomes donneurs ionisés suite à la diffusion des électrons. De côté P une
charge d’espace négative apparaı̂t suite à l’ionisation des atomes accepteurs
suite à la diffusion des trous. Un champ électrique qui s’oppose à la diffusion
s’établit dans la zone de charge d’espace et un potentiel électrique est créé ce
qui explique la courbure des bandes. En dehors de la zone de charge d’espace
les régions sont quasi-neutres dans l’approximation des faibles injections.
EN
E
= p0n (exp((qφp )/kT )exp(−qφn /kT ) − 1) = p0n (exp(q(φp − φn )/kT ) − 1)
= p0n (exp(qva /kT ) − 1)
n0p (x) = np (x) − n0p = n0p (exp(−qφn /KT )exp(qφ(x)/KT ) − 1)
AG
n0p (−dp ) = np (−dp ) − n0p = n0p (exp(−qφn /KT )exp(qφ(−dp )/KT ) − 1)
= n0p (exp(−qφn /KT )exp(qφp /KT ) − 1)
= n0p (exp(qva /KT ) − 1)
6- En négligeant les termes de recombinaison, les équations de continuité
s’écrivent :
∂np
∂t
= 1q ∂j
∂x
n
= Dn ∂ 2 np /∂x2
∂pn ∂jp
∂t
= −1q ∂x
= Dp ∂ 2 pn /∂x2
Au régime stationnaire ces équations s’écrivent :
TH
Dn ∂ 2 np /∂x2 = Dn ∂ 2 n0p /∂x2 = 0
Dp ∂ 2 pn /∂x2 = Dp ∂ 2 p0n /∂x2 = 0
7- *) pour les électrons la solution est de la forme : n0p (x) = Ax + B
avec les conditions aux limites :
n0 p(−Lp ) = 0 et n0p (−dp ) = n0p (exp(qva /kT ) − 1)
⇒ n0p (−Lp ) = −ALp + B = 0 ⇒ B = ALp
⇒ n0p (−dp ) = −Adp + B = A(Lp − dp ) = n0p (exp(qva /kT ) − 1)
AR
⇒ A = Lpn−d 0p
p
(exp(qva /kT ) − 1) et B = (Lnp0p−d
Lp
p)
(exp(qva /kT ) − 1)
⇒ n0p (x) = A(x + Lp ) = n0p Lx+L p
p −dp
(exp(qva /kT ) − 1)
*) pour les trous la solution est de la forme : p0n (x) = Cx + D
avec les conditions aux limites :
p0n (Ln ) = 0 et p0n (dn ) = p0n (exp(qva /kT ) − 1)
⇒ p0n (Ln ) = CLn + D = 0 ⇒ D = −CLn
⇒ p0n (dn ) = Cdn + D = C(dn − Ln ) = p0n (exp(qva /kT ) − 1)
I-C
⇒ C = dnp−L 0n
n
(exp(qva /kT ) − 1) et D = p0n LnL−d n
n
(exp(qva /kT ) − 1)
0 x−Ln
⇒ pn (x) = C(x − Ln ) = p0n dn −Ln (exp(qva /kT ) − 1)
8- j = q(Dn ∂n0p /∂x − Dp ∂p0n /∂x) = q(Dn A − Dp C)
= q(Dn Lpn−d0p
p
+ Dp Lnp−d
0n
n
)(exp(qva /kT ) − 1)
Exercice 2
1- Une diode Zener possède les caractéristiques d’une diode à jonction PN
en polarisation directe, mais en polarisation inverse elle devient fortement
EN
conductrice si la tension inverse à ses bornes dépasse une valeur seuil appelée
tension Zener (notée Vz ).
2-
E
AG
3- D’après la loi des mailles, on a : I = V −V R
z
= Iz + IRM
Lorsque le réveille-matin sonne il consomme 100 mA, et le courant qui tra-
Au total :
TH
verse la diode est faible et doit être supérieur à 30 mA pour qu’elle fonctionne.
E
Exercice 1
On considère un semi-conducteur dopé N avec la densité Nd d’atomes don-
neurs. Soit Ed le niveau énergétique introduit dans le gap suite à la présence
AG
d’atomes donneurs. On désigne par :
-EF le niveau de fermi
-EF i le niveau de fermi intrinsèque
-Nc(v) la densité effective des électrons (trous) dans la bande de conduction
(valence)
-Ec(v) le niveau énergétique bas (haut) de la bande de conduction (valence)
-ni la densité intrinsèque des charges
-T la température
TH
-K la constante de Boltzmann
p(E) = 1
1+exp((E−EF )/KT )
*) p ≈ ni − Nd /2
E
Exercice 2
Soit un silicium (Si) dopé N ayant une conductivité de 10 Ω−1 .cm−1 .
1/ Expliquer brièvement le principe de base du dopage des semi-conducteurs.
AG
2/ Calculer la résistance d’une barre de Si dopé de longueur L = 10−3 cm et
de section A = 10−7 cm2 .
3/ Calculer les concentrations des électrons et des trous dans le silicium dopé
4/ Déterminer la densité de courant de conduction (ou d’entrainement) pour
un champ appliqué de 10V /cm.
On donne :
Concentration intrinsèque pour le silicium : ni = 1, 5.1010 cm−3
Mobilité des électrons µn = 1425cm2 /V s
TH
Mobilité des trous µp = 450cm2 /V s.
AR
I-C
EN
Corrigé du DS 2017-2018
E
Exercice 1
1/ Aux températures faibles, on a quelques atomes qui sont ionisés : c’est le
régime d’ionisation. Aux températures moyennes tous les atomes donneurs
AG
sont ionisés : c’est le régime de saturation. Et aux températures élevées le
semi-conducteur se comporte comme un semi-conducteur intrinsèque.
−Ec −EF i i −Ec −EF i
2/ n = Nc exp( EFKT ) = Nc exp( EFKT )exp( EFKT ) = ni exp( EFKT )
Ev −EF EF i −EF Ev −EF i EF i −EF
p = Nv exp( KT ) = Nc exp( KT )exp( KT ) = ni exp( KT )
3/ La densité des atomes neutres Nd0 est égale à la probabilité d’occupation
d’un niveau Ed par un électron multipliée par la densité totale des atomes
donneurs :
Nd
Nd0 = Nd × p(Ed ) =
Nd+ = Nd − Nd0 =
4/ n = p + Nd+
Nd
THEd −EF
1+exp(
EF −Ed
1+exp( KT
KT
)
)
La densité des atomes ionisés s’écrit donc :
n2
*) p = n2i /n = ni (1+Nid /2ni ) = 1+Nndi/2ni ≈ ni − Nd /2
E
Exercice 2
1/Les semi-conducteurs intrinsèques basés sur les atomes IV (Si et Ge)
possèdent des conductivités faibles car les densités des électrons et des trous
AG
sont faibles (<∼ 1012 cm−3 ). Pour augmenter leurs conductivités, on introduit
dans le réseau cristallin des atomes V donneurs d’électrons (semi-conducteur
de type N) ou des atomes III accepteurs d’électrons (semi-conducteur de type
P).
2/ on a j = σ VL = VR A ⇒ R = σA L
−3
A.N R = ×1010−7 ×10 = 1 KΩ
3/ c’est un semi-conducteur de type N, donc :
σn
σ ≈ σn = qµn n = qµn Nd ⇒ n = Nd = qµ
10
A.N n = 1,6.10−19 ×1425
10 2
p = n2i /n = (1,5.10
4,4.1016
)
TH≈ 4, 4.10
≈ 5.103 cm−3
4/ j = σE = 10 × 10 = 100 A/cm2
16
cm −3
n
AR
I-C
EN
E
Exercice 1
On considère une jonction PN abrupte à la température ambiante, formée
par une zone P de largeur dp et une zone N de largeur dn . On polarise la
AG
jonction par une polarisation directe Va .
1/ Donner le montage de la polarisation
2/ Dessiner le diagramme énergétique en indiquant clairement les zones
neutres, les zones de déplétion et les barrières des potentiels pour les électrons
et les trous. On notera lp la largeur de la zone de déplétion de côté P, et ln
la largeur de la zone de déplétion de côté N.
3/ Quelle est la nature du courant qui traverse la jonction ?
chaque zone :
∂np
∂t
∂pn
∂t
2
2
= Dn ∂∂xn2p − np −n
τn
= Dp ∂∂xp2n − pn −p
τp
TH
4/ On rappelle les équations de continuité des porteurs minoritaires dans
p0
n0
pour les électrons dans la zone P
pour les trous dans la zone N.
Donner la signification physique de chaque terme de ces équations.
5/ La longueur de diffusion des électrons dans la zone P, qu’on note Ln ,
est très grande devant la largeur de cette dernière (Ln dp ). Réécrire les
AR
équations de continuité au régime stationnaire.
6/ Pour les électrons dans la zone P, on donne :
np (−lp ) = np0 exp((qVa )/KT ) et np (−dp ) = np0
Résoudre l’équation de continuité relative aux électrons au régime station-
naire, et déterminer l’expression de np en fonction de x.
7/ Pour les trous dans la zone N, on donne :
pn (ln ) = pn0 exp((qVa )/KT ) et pn (dn ) = pn0
Résoudre l’équation de continuité relative aux trous au régime stationnaire
I-C
Exercice 2
On considère le montage de la figure ci-dessous avec D1 et D2 sont supposées
idéales. E est une source continue. e(t) est une source sinusoı̈dale de la forme
EN
E
2-b/ Déterminer l’expression de la tension aux bornes de la résistance UR (t)
3/ Tracer en concordance du temps e(t) et UR (t) et indiquer sur la figure les
instants, t1 et t2 , correspondant au passage de l’état passant à l’état bloquant
AG
des deux diodes. √
4/ Calculer t1 et t2 en fonction de T. On donne em = 2E.
5/ Calculer l’intensité moyenne du courant qui traverse la résistance.
TH
AR
I-C
EN
E
Exercice 1
1/ Montage de la polarisation
AG
TH
2/Diagramme des bandes de la jonction polarisée
AR
I-C
2
Dn ∂∂xn2p = 0 (au régime stationnaire)
E
6/ la solution de cette dernière équation est de la forme : np (x) = Ax + B
qva
⇒ np (−lp ) = −Alp + B = np0 e KT et np (−dp ) = −Adp + B = np0
qva qva
⇒ A = dpn−l p0
p
(e KT − 1) et B = n
p0 [1 + dp
dp
−l p
(e KT − 1)]
AG
7/ Pour les trous, l’équation de continuité au régime stationnaire s’écrit
2
Dp ∂∂xp2n − pn −p
τp
n0
=0
2
On pose X = pn − pn0 ⇒ Dp ∂∂xX2 − τXp = 0
La solution est de la forme
X(x) = Cexp(− √ x ) + Dexp( √ x )
p Dp τp Dp τp
On pose Lp = Dp τp qui est la longueur de diffusion des trous dans la zone
N.
TH
⇒ pn (x) = pn0 + Cexp(− Lxp ) + Dexp( Lxp )
⇒ pn (ln ) = pn0 + Cexp(− Llnp ) + Dexp( Llnp ) = pn0 e KT
et pn (dn ) = pn0 + Cexp(− Ldnp ) + Dexp( Ldnp ) = pn0
qva
qva
8/ j = jn + jp = qDn ∂n ∂x
p
− qDp ∂p n
∂x
= qDn A − qDp ∂p n
|
∂x x=ln
−x/Lp (x−2dn )/Lp
∂pn e +e qva
|
∂x x=ln
= − pLn0p −ln /Lp (l −2d )/L
(e KT − 1)|
x=ln
e −e n n p
−ln /Lp (ln −2dn )/Lp
e +e qva
= − pLn0p −ln /Lp (e KT − 1)
e − e(ln −2dn )/Lp
−ln /Lp
Dp pn0 e + e(ln −2dn )/Lp qva
I-C
⇒ j = q[ Ddpn−lnp0
+ Lp
](e KT − 1)
p
e−ln /Lp − e(ln −2dn )/Lp
Exercice2
1/ e(t) < E
1-a/ U2 = E > 0 ⇒ D2 est passante
EN
E
⇒ UR (t) = E
2/ e(t) > E
AG
2-a/ U1 = e(t) > 0 ⇒ D1 est passante
U2 = E − e(t) < 0 ⇒ D2 est bloquante
2-b/ circuit équivalent
⇒ UR (t) = e(t)
3/
TH
AR
2πt1
4/ e(t1 ) = E = em sinωt1 ⇒ ωt1 = arcsin( eEm ) ⇒ = π
4
⇒ t1 = T
8
T
et t2 = T2 − t1 = T2 − T8 = 3T 8
5/ i(t) = URR(t) = e(t) si e(t) > E ⇔ t ∈ [t1 , t2 ]
i(t) = E si e(t) < E ⇔ t ∈ [0, t1 ] ∪ [t2 , T ]
I-C
R RT Rt RT Rt
6/ imoy = T1 0 i(t)dt = T1 [ 0 1 E R
dt + t2 E R
dt + t12 eRm sinωtdt]
= T1R [Et1 + E(T − t2 ) + eωm (cosωt1 − cosωt2 )]
= T1R [ ET
8
+ ET (1 − 38 ) + e2π
mT
(cos π4 − cos 3π4
)] = ( 34 + π1 E
R
)
EN
E
On considère une barre cylindrique formée par un semi-conducteur dopé
avec des atomes accepteurs de densité Na = 1017 cm−3 . La barre est de rayon
r et de longueur L. On applique une d.d.p. aux extrémités de la barre égale
AG
à 10V. Le semi-conducteur utilisé possède un gap de l’ordre de 1, 03eV et
le niveau énergétique Ea introduit dans le gap est tel que δ = EF − Ea de
l’ordre de 0, 4eV .
On donne l’énergie thermique KT = 0, 026eV à T = 300K, L = 10−3 cm,
r = 5.10−4 cm.
I-1/ De quel type de semi-conducteur s’agit-il ?
I-2/ Vérifier qualitativement que tous les atomes accepteurs sont ionisés
TH
I-3/ Calculer les densités des électrons et des trous dans le volume. On donne
la densité des porteurs intrinsèques ni = 1010 cm−3 .
I-4/ Calculer la densité de courant des trous. On donne q = 1, 6.10−19 C et
µp = 480 cm2 .V −1 .s−1 .
I-5/ Calculer la densité de courant des électrons. On donne µn = 1350
cm2 .V −1 .s−1 .
I-6/ Déduire le courant total qui traverse la barre ainsi que sa résistance R.
I-7/ Expliquer qualitativement l’effet de la température sur le courant de
AR
conduction.
II- Le même matériau est utilisé dans une jonction PN symétrique (les com-
partiments N et P sont de même dimension). La barre étudiée en I- forme
le compartiment P. Dans le compartiment N la densité des atomes donneurs
Nd est de l’ordre de 1015 cm−3.
II-1/ Tracer le diagramme énergétique de la jonction à l’équilibre thermo-
dynamique puis à une polarisation directe Vd . Indiquer les zones de déplétion
I-C
E
utilisées, en tant que résistance R et diode à jonction PN respectivement,
dans le circuit de la figure 1. On suppose que la température reste constante
(300K). E est une source de tension continue de valeur égale à 1V.
AG
III-1/ Etablir l’expression de courant Id en fonction de E, R et Vd (droite
de charge statique).
III-2/ La figure 2 montre les caractéristiques I-V réelles d’une diode à jonc-
tion PN (diode Zener 52Z4). Tracer sur la même figure la droite de charge
statique et déduire le point de fonctionnement de la diode.
TH
AR
I-C
EN
E
I-1/ C’est un semi-conducteur extrinsèque de type P
I-2/ Si on prend pour origine des énergies le niveau haut de la B.V, Ev ,
AG
et si on suppose que le niveau de Fermi est situé au milieu du gap, alors
l’intervalle énergétique entre Ev et Ea est de l’ordre de 0,1eV. Cet intervalle
est très faible et facilement franchissable par les électrons de la B.V donc les
atomes accepteurs sont facilement ionisés.
Autrement dit, si l’on considère la probabilité d’ionisation d’un niveau accep-
1 1
teur donnée par Ea −EF
= −0,4 ≈ 1 ⇒ tous les atomes
1 + 2exp( KT ) 1 + 2exp( 0.026 )
accepteurs sont ionisés.
I-3/ p = Na = 1017 cm−3
n2 n2
n = pi = Nia = 10
[Link]−2
20
1017
TH
= 103 cm−3
I-4/ jp = qµp pE = qµp Na VL = 1, 6.10−19 × 480 × 1017 × 1010− 3 = 7, 68.104
E
j = jn + jp = qDn ∂n
∂x
p
− qDp ∂p n
∂x
qVd qVd
∂np
II-4/ ∂x
= np0 f 0 (x)(e KT − 1) = np0 F (e KT − 1)
qVd
⇒ jn = qDn np0 F (e KT − 1)
AG
qVd qVd
∂pn
∂x
= pn0 g 0 (x)(e KT − 1) = pn0 G(e KT − 1)
qVd
⇒ jp = −qDp pn0 G(e KT − 1)
qVd
II-5 j = jn + jp = (qDn np0 F − qDp pn0 G)(e KT − 1)
TH
III-1 Id = ER
− VRd = 60 − 60Vd en mA.
AR
III-2 Le point de fonctionnement est l’intersection entre la droite de charge
statique et les caractéristiques I − V réelles de la diode : (0, 72V ; 16, 8mA).
I-C
EN