PROYECTO FINAL 2018
Cátedra: Integración V
Docentes: COLAFIGLI, Miguel
LAVEZZO, Mónica
RAVIOLA, David
Tema: Triclorosilano
El triclorosilano es un compuesto inorgánico con fórmula
HSiCl3. Es un líquido incoloro y volátil. El triclorosilano
purificado es el precursor principal del silicio ultrapuro en la
industria de semiconductores. En agua, se descompone
rápidamente para producir un polímero de silicona mientras
libera ácido clorhídrico. Debido a su reactividad y amplia
disponibilidad, es frecuentemente utilizado en la síntesis de
compuestos orgánicos que contienen silicio.
Propiedades
[Link]
ACA PONER TABLA
Usos y Aplicaciones:
● Precursor principal del silicio ultrapuro en la industria de semiconductores
● Síntesis de compuestos orgánicos que contienen silicio.
Proceso:
El proceso es un proceso de dos etapas, que combina la reacción de tetracloruro de silicio e
hidrógeno con silicio, con la reacción de cloruro de hidrógeno con silicio. El reactor de dos
etapas está compuesto por una primera etapa donde se calienta a 500-700°C, y una
segunda etapa donde se mantiene una temperatura de 300-350°C.
En cada una de las dos etapas se alimentan partículas de silicio.
Una mezcla de hidrógeno y tetracloruro de silicio es rociada (flowed)a través de las
partículas de silicio en la primera etapa de calentamiento para causar una hidrogenación
parcial del tetracloruro de silicio.
El efluente de la primera etapa incluye triclorosilano y tetracloruro de silicio e hidrógeno que
no reaccionaron. A este efluente se le agrega cloruro de hidrógeno y la mezcla de gases
(are passed) a través de las partículas de silicio en la segunda etapa del reactor.
Producción de Triclorosilano
PROYECTO FINAL 2018
Casi todo el silicio de alta pureza usado en la manufacturación de dispositivos
semiconductores es producido por deposición química del vapor proveniente de una mezcla
de triclorosilano e hidrógeno sobre filamentos calientes en un reactor de tipo campana, de
acuerdo a la reacción
1050-200 C.
HSiCl3 + H2 3'-e-->sis. -- SiCl4 + HCl.
La producción de silicio de esta manera requiere grandes cantidades de triclorosilano puro,
especialmente en vista del hecho de que solo aproximadamente ⅓ del silicio disponible
resulta en deposición de silicio(o silicio depositado).El silicio restante está presente en el
efluente de la reacción como tetracloruro de silicio, o como tetraclorosilano sin reaccionar.
El triclorosilano para la reacción en usualmente es obtenido mediante la reacción de cloruro
de hidrógeno con silicio, como por ejemplo, el silicio de grado metalúrgico, de acuerdo con
la reacción
HCl + Si2OOOCs-HSiCl3 + SiCl, + H2.
Cloruro de hidrógeno anhidro es inyectado en un lecho de partículas de silicio, en un reactor
de lecho fluidizado.
Luego de la purificación, el triclorosilano producido en esta reacción es apto para la
producción de silicio de alta pureza.
A pesar de que la reacción de HCl con silicio para producir tetraclorosilano es, de por sí,
muy eficiente, tiene cierto número de limitaciones, especialmente en sistemas de
producción continuos (closed loop...de bucle cerrado?). Primero, la reacción no hace uso
del tetracloruro de silicio, que es el subproducto de la reacción de deposición de silicio. En
esta reacción, cerca del 70% en peso del triclorosilano de entrada es recuperado como
tetracloruro de silicio. Un proceso eficiente en costos debe reciclar el tetracloruro de silicio
para utilizar más eficientemente el silicio disponible. Adicionalmente, la producción de
triclorosilano de grado semiconductor( semiconductor grade
trichlorosilane?) a partir de la reacción con HCl requiere un HCl extremadamente puro. La
mayoría de las fuentes de HCl contienen cantidades traza de contaminantes orgánicos, que
son acarreados a través de la reacción, incorporados con el triclorosilano, y posteriormente
incorporados al depósito de silicio como impureza no deseada.
La reacción de HCl con silicio para producir triclorosilano es una reacción extremadamente
exotérmica y requiere un intercambiador de calor para minimizar el sobrecalentamiento. Aún
con un intercambiador de calor, se dan puntos calientes, que reducen la eficiencia de la
conversión del triclorosilano y degradan el reactor. El reciclado del subproducto SiCl4 es
una consideración importante en la economía general del proceso de producción de silicio.
The recycling of the SiCl4 by-product is an importantconsideration in the overall
economics of the siliconproduction process. The by-product SiCl4 is
usuallyhydrolyzed or burned in an oxygen/hydrogen mixtureto recover HCl and
Producción de Triclorosilano
PROYECTO FINAL 2018
by-product SiO2. The HCl is thenuseful as an input to the trichlorosilane production
reaction. Thus using the SiCl4, however, is an expensive
process and greatly increases the cost of producing HSiCl3.
Trichlorosilane has also been made by the directhydrogenation of silicon
tetrachloride at high temperatures and pressures according to the
reaction3SiCl4-2H2--Si-24HSiCl3.
Conversion efficiencies of about 20–23% have beenachieved with this process when
operated at 650 [Link] 345 kPa using a H2/SiCl4 ratio of 2:1, a residence
time of 1 sec. and with a 5% CuCl catalyst mixed withthe silicon.
The cost of trichlorosilane and thus the cost of siliconproduced therefrom is a factor
in the production cost ofany silicon semiconductor device. It is therefore anobject of
this invention to provide an improved processfor the production of trichlorosilane
which is moreeconomically feasible than prior art [Link] is another object of
this invention to provide improved equipment for the production of trichlorosilane.
It is yet another object of this invention to provide an improved process for the
production of polycrystallinesilicon in the form of a closed loop process which
efficiently utilizes input reactant materials.
It is a still another object of this invention to providea process for the production of a
higher purity trichlorosilane.
Producción de Triclorosilano
