TALLER
DISEÑO FACTORIAL DE 2K
INTEGRANTES:
Maria Leonor Romero Lascarro
2017116095
Nancy Mercado Buendia
2017116064
DOCENTE: MANUEL DE JESÚS CAMPUAZANO HERNÁNDEZ
GRUPO: 1
UNIVERSIDAD DEL MAGDALENA
FACULTAD DE INGENIERÍA
ESTADÍSTICA III
05/04/19
1.Se corrió un experimento en una planta de fabricación de semiconductores en
un esfuerzo por incrementar el rendimiento. Se estudiaron cinco factores,
cada uno con dos niveles. Los factores (y los niveles) fueron
• A = abertura del orificio (Pequeño, Grande)
• B = tiempo de exposición (20% abajo del nominal, 20% arriba del
nominal)
• C = tiempo de desarrollo (30 s y 45 s)
• D = dimensiones de la plantilla (pequeña y grande)
• E = tiempo de grabado químico (14.5 min., 15.5 min.)
• Se corrió el diseño 25 no replicado que se muestra abajo:
(1) 7 e 8
a 9 ae 12
b 34 be 35
ab 55 abe 52
c 16 ce 15
ac 20 ace 22
bc 40 bce 45
abc 60 abce 65
d 8 de 6
ad 10 ade 10
bd 32 bde 30
abd 50 abde 53
cd 18 cde 15
acd 21 acde 20
bcd 44 bcde 41
abcd 61 abcde 63
HIPOTESIS:
H0: µ1=µ2=µ3=µ4=µ5=µ12=µ13=µ14=µ15=µ23=µ24=µ25=µ34=µ35=µ45=µ123=µ124=µ12
5=µ134=µ135=µ145=µ345=µ235=µ234=µ245=µ1234=µ1235=µ1245=µ1345=µ2345=µ1
2345
H1: Al menos una µ≠0
ANALISIS: Podemos observar en la gráfica que los factores a: abertura del
orificio, el factor b: tiempo de desarrollo y el factor c: tiempo de
exposición; son efectos significativos.
Sin embargo, se observa que la interacción del factor AB: abertura-
tiempo_expo; es significativa. Por lo que los factores mencionados
anteriormente influyen en la variable de respuesta es decir en el rendimiento
de los semiconductores.
ANALISIS: Se observa en la gráfica anterior que tanto la abertura del
orificio como el tiempo de exposición y el tiempo de desarrollo se sugiere
trabajar con el nivel alto para obtener un mayor rendimiento. Al igual que el
tiempo de grabado químico, aunque la diferencia es muy mínima que no importa
cual nivel utilice.
Sucede lo contrario con la dimensión en plantilla debido a que si se trabaja
con un nivel bajo ocasiona una pequeña mejora en el rendimiento, pero va a
ser muy notable la diferencia.
ANALISIS: En la interacción abertura-tiempo_exposicion, se observa que se
obtiene un mayor rendimiento cuando ambas se encuentra en un nivel alto. Al
momento de apreciar la gráfica podemos verificar que la única interacción
significativa es AB.
ANALISIS: Observamos que en la interacción ABC al pasar del nivel bajo al
alto se representa una mayor significancia lo que me indica que el tiempo de
exposición, abertura del orificio y el tiempo de desarrollo al estar los tres
en el nivel alto se genera un mejor rendimiento en los semiconductores.
PRUEBA DE NORMALIDAD
H0: Es normal
H1:No es normal
Shapiro-Wilk normality test
data: rstandard(modelo1)
W = 0.9032, p-value = 0.007477
CONCLUSION: Debido al P-value de 0.007477 siendo menor que mi alpha de prueba
de 0,05 se encuentra evidencia estadística suficiente para rechazar H0; concl
uimos que no se cumple el supuesto de normalidad.
2. Un ingeniero realizo un experimento para estudiar el efecto de cuatro
factores sobre la aspereza superficial de una pieza maquinada. Los factores
(y sus niveles) son Angulo de la herramienta (12 y 15 o), Viscosidad del
fluido de corte (300 y 400), Velocidad de alimentación (10 y 15 pulg./min.) y
Enfriador del fluido de corte usado (no, si). Los datos de este experimento
(con los factores codificados en los niveles usuales -1, 1 y los valores de
Rugosidad codificados) se muestran a continuación
Angulo Viscosidad Velocidad Enfriador Rugosidad
Corrida
Herramienta Fluido Alimentacion Fluido Superficial
1 -1 -1 -1 -1 3,40
2 1 -1 -1 -1 3,62
3 -1 1 -1 -1 3,01
4 1 1 -1 -1 1,82
5 -1 -1 1 -1 2,80
6 1 -1 1 -1 2,90
7 -1 1 1 -1 2,52
8 1 1 1 -1 1,60
9 -1 -1 -1 1 3,36
10 1 -1 -1 1 3,44
11 -1 1 -1 1 3,08
12 1 1 -1 1 1,84
13 -1 -1 1 1 2,69
14 1 -1 1 1 2,84
15 -1 1 1 1 2,53
16 1 1 1 1 1,63
HIPOTESIS:
H0: µ1=µ2=µ3=µ4=µ12=µ13=µ14=µ23=µ24=µ34=µ123=µ124=µ1234=µ234=µ1234
H1: Al menos una µ≠0
ANALISIS: Podemos observar en la gráfica que los factores a: ángulo, b:
viscosidad y c: velocidad son efectos significativos.
Pero se observa que las interacciones de los factores AB: ángulo-viscosidad y
BC: viscosidad-velocidad; es significativa. Por lo que los factores
mencionados anteriormente influyen en la variable de respuesta es decir en la
rugosidad superficial.
ANALISIS: Se observa en la gráfica anterior que tanto el ángulo como la
viscosidad del fluido y la velocidad de alimentación se sugiere trabajar con
el nivel bajo para obtener un mayor rendimiento. Al igual que el enfriador del
fluido, aunque la diferencia es muy mínima que no importa cual nivel utilice.
ANALISIS: En la interacción ángulo-viscosidad, se observa que se obtiene una
mayor rugosidad cuando el ángulo de la herramienta y la viscosidad del fluido
se encentran en un nivel bajo. Así mismo sucede con la interacción viscosidad-
velocidad.
ANALISIS: Observamos que en la interacción ABC al pasar del nivel alto al
nivel bajo se representa una mayor significancia; lo que me indica que la
velocidad de alimentación, ángulo de la herramienta y la viscosidad del
fluido al estar los tres en el nivel bajo se genera una mejor rugosidad
superficial de la pieza maquinada.
PRUEBA DE NORMALIDAD
H0: Es normal
H1: No es normal
Shapiro-Wilk normality test
data: rstandard(Modelo)
W = 0.87436, p-value = 0.03173
CONCLUSION: Debido al P-value de 0.03173 siendo menor que mi alpha de prueba
de 0,05 se encuentra evidencia estadística suficiente para rechazar H0; conclu
imos que no se cumple el supuesto de normalidad.
