| 意味 | 例文 (999件) |
thin filmsの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1377件
Titanium oxide thin films 31 are made to exist at intervals on the surface of a barrier thin film 12, hydrophilic thin films 41 are formed between the titanium thin films to constitute a functional thin film 3.例文帳に追加
バリア薄膜12表面に酸化チタン薄膜31を点在させ、その間に親水性薄膜41を形成し、機能性薄膜3を構成させる。 - 特許庁
This layered transparent conductive films 22, 23 are composed by oxide transparent conductive thin films 27, 28, 37 and metal thin films 26, 36 having smaller sheet resistance than that of the oxide transparent conductive thin films.例文帳に追加
酸化物透明導電薄膜27,28,37と、それよりシート抵抗の小さい金属薄膜26,36とで積層型透明導電膜22,32を構成させる。 - 特許庁
METHOD FOR MAKING STEPWISE MULTILAYER THIN FILMS例文帳に追加
階段状多層薄膜の作製方法 - 特許庁
The (i) layer 4 consists of a plurality of amorphous thin films 41 and a plurality of crystal thin films 42.例文帳に追加
i層4は、複数の非晶質薄膜41と複数の結晶薄膜42とからなる。 - 特許庁
The i layer 4 consists of a plurality of amorphous thin films 41 and a plurality of crystal thin films 42.例文帳に追加
i層4は、複数の非晶質薄膜41と複数の結晶薄膜42とからなる。 - 特許庁
The thin film deposition method can be applied to all methods of depositing crystalline thin films such as the thin films of metals and the thin films of intermetallic compounds such as oxide, carbide and nitride.例文帳に追加
この薄膜形成方法は、金属薄膜や、酸化物、炭化物、窒化物などの金属化合物薄膜などの結晶性薄膜の形成法のいずれにも適用できる。 - 特許庁
The thin films of any among insulating films constituting TFTs (Thin-Film Transistors), silicon films and conductive films are formed by coating application of liquid and heat treatment.例文帳に追加
TFTを構成する絶縁膜、シリコン膜及び導電膜のうちのいずれかの薄膜を液体を塗布し熱処理することにより形成する。 - 特許庁
In a multilayer film reflection mirror comprising alternate multilayer films of Mo thin films 12 and Si thin films 13, the Mo thin films 12 are formed in am amorphous state by adding heavy elements to them and the tensile stress of the Mo thin films 12 is strengthened by irradiating the amorphous thin films with an ion beam.例文帳に追加
Mo薄膜12とSi薄膜13の交互多層膜からなる多層膜反射鏡において、Mo薄膜12に重元素を添加することによって非晶質状態で成膜し、その非晶質薄膜にイオンビームを照射することで、Mo薄膜12の引張応力を強化する。 - 特許庁
The films described above are fine structure thin films 10 having square lattices, fine structure thin films (10a) having hexagonal lattices, fine structure thin films (10b) having rectangular lattices or fine structure thin films 10c having diagonal lattices.例文帳に追加
ここで、上記膜は、正方格子を有する微細構造薄膜10、六方格子を有する微細構造薄膜10a、直方格子を有する微細構造薄膜10b、又は斜方格子を有する微細構造薄膜10cである。 - 特許庁
Films made of metal, resin, etc., are usable as the thin films 11 and 12.例文帳に追加
この薄膜11・12としては、金属製や樹脂製等のものを使用できる。 - 特許庁
The multilayered thin-film structure 400 comprises a plurality of polymer thin films 100, and a plurality of magnetically impermeable thin films 104.例文帳に追加
複層薄膜構造体400は、複数のポリマー薄膜100と、複数の透磁性薄膜104とから構成されている。 - 特許庁
It is preferable to form boundary films 14, 16 having a different composition from those of the plurality of the thin films among the plurality of the thin films.例文帳に追加
また、複数の薄膜のそれぞれの間に、複数の薄膜とは組成が異なる境界膜14,16を形成するのが好ましい。 - 特許庁
The capacitor 1 has the thin film capacitor 10, in which class 1 electrode conductor thin films 14 and class 2 electrode conductor thin films 17 are laminated upon another with dielectric thin films 13 in between.例文帳に追加
コンデンサ1は、第一種電極導体薄膜14と第二種電極導体薄膜17とが、誘電体薄膜13を挟んで積層された薄膜コンデン10を有する。 - 特許庁
Then, each thickness of thin films E1, E2 is measured respectively.例文帳に追加
そして、各薄膜E1,E2の膜厚を測定する。 - 特許庁
At least two layers or more of piezoelectric thin-films 3a, 3c and 3e are formed between an upper electrode 4 and a lower electrode 2, and metallic thin-films 3b and 3d for a reinforcement are inserted among each of piezoelectric thin-films, thus forming the laminated region 3 of the piezoelectric thin-films and the metallic thin-films for the reinforcement.例文帳に追加
上部電極4と下部電極2との間に、圧電体薄膜3a、3c、3eを少なくとも2層以上設け、各圧電体薄膜の間に、強化用金属薄膜3b、3dを挿入することにより、圧電体薄膜と強化用金属薄膜の積層領域3を形成する。 - 特許庁
For example, alternately laminated Si thin films and W thin films are used for the superconductor 3.例文帳に追加
超電導体3には例えばSi薄膜、W薄膜のそれぞれを交互に積層したものが使用されている。 - 特許庁
A synthetic titanium-tantalum thin film is composed of two separately formed thin films.例文帳に追加
合成チタン−タンタル薄膜は別々に形成された2つの薄膜から成る。 - 特許庁
Since both parts to which the titanium oxide thin films 31 are exposed and parts to which the hydrophilic thin films 41 are exposed exist together on the surface of the functional thin film 31, functions of both the thin films can be obtained.例文帳に追加
機能性薄膜3表面に、酸化チタン薄膜31が露出する部分と親水性薄膜41が露出する部分とが混在するので、両方の薄膜の機能を得ることができる。 - 特許庁
Dielectric thin films are stacked on the aluminum thin film, and the packing density of at least one layer of the dielectric thin films is made to ≥90%.例文帳に追加
アルミニウム薄膜上に誘電体薄膜を積層し、該誘電体薄膜の少なくとも1層の充填密度を90%以上とする。 - 特許庁
DIAMOND THIN FILM OR CBN, BCN OR CN THIN FILM, REFORMING METHOD OF THESE THIN FILMS, AND REFORM, FORMING AND PROCESSING METHODS OF THESE THIN FILMS例文帳に追加
ダイヤモンド薄膜又はCBN、BCN若しくはCN薄膜、同薄膜の改質方法、同薄膜の改質及び形成方法並びに同薄膜の加工方法 - 特許庁
Then, a laser beam is irradiated, the amorphous Si thin film are changed into polycrystalline Si thin films.例文帳に追加
次にレーザービームを照射し、非晶質Siを多結晶Si薄膜にする。 - 特許庁
Electrode thin films 4 and 5 are provided at ends of a resistance thin film 2.例文帳に追加
抵抗用薄膜2の両端部に電極用薄膜4,5が形成されている。 - 特許庁
The aluminum films may be thick or thin and may be aluminum films or may be mixed metal films with aluminum metal.例文帳に追加
アルミニウム膜は薄くても厚くてもよく、アルミニウム膜であってもアルミニウム金属を含む混合金属膜であってもよい。 - 特許庁
When the thin films having such periodic structure are homogeneously formed over the entire surface of the thin films, the lens eventually has the same imaging characteristics even by using any portion of the thin films.例文帳に追加
このような周期構造を有する薄膜が薄膜全面に渡って均質に形成されている場合、薄膜のどの部分を用いても同じ結像特性を有することになる。 - 特許庁
CARBON OXIDE THIN FILM, CARBON OXYNITRIDE THIN FILM AND DIAMOND-LIKE CARBON OXIDE THIN FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING THESE CARBON OXIDE TYPE THIN FILMS例文帳に追加
酸化炭素薄膜、酸化窒化炭素薄膜および酸化ダイヤモンド状炭素薄膜とこれら酸化炭素系薄膜の製造方法 - 特許庁
The optical element has at least one or more oxide group thin films or mixed films of the oxide group thin films and fluoride group thin films between the oxide group substrate and a fluoride thin film.例文帳に追加
上記課題を解決するため、本発明の光学素子は、酸化物系の基板とフッ化物系薄膜との間に、酸化物系薄膜、もしくは酸化物系薄膜とフッ化物系薄膜の混合膜を少なくとも1層以上有することを特徴としている。 - 特許庁
Owing to the film structure where the Si thin films 13 overlie the Mo thin films 12, the membrane stress (compression stress) of the Si thin film 13 is offset by the membrane stress (tensile stress) of the Mo thin films 12 to reduce the membrane stress of the alternate multilayer films as a whole.例文帳に追加
その上にSi薄膜13を積層した膜構成により、Si薄膜13の膜応力(圧縮応力)をMo薄膜12の膜応力(引張応力)によって相殺し、交互多層膜全体の膜応力を低減する。 - 特許庁
In the circuit board S1 wherein a laminated solder H constituted of an alternate multilayer film 4 of Au thin films and Su thin films is formed on a board 1, the uppermost layer 5 and the lowermost layer 3 of the laminated solder H are made of Au thin films, and the total film thickness of the Sn thin films is greater than that of the Au thin films.例文帳に追加
基板1上に、Au薄膜とSn薄膜の交互多層膜4から成る積層はんだHを形成した回路基板S1において、積層はんだ4の最上層5及び最下層3をAu薄膜にするとともに、Au薄膜の合計膜厚よりSn薄膜の合計膜厚が大であることを特徴とする。 - 特許庁
The upper thin films 7 are provided so as to be able to respectively vibrate, and the lower thin films 6 are arranged opposite, at prescribed intervals to the upper thin film 7, respectively.例文帳に追加
上薄膜7は、それぞれ振動可能に設けられ、下薄膜6は、それぞれ上薄膜7に対して所定の間隔を空けて対向配置されている。 - 特許庁
To provide a thin-film manufacturing apparatus capable of manufacturing thin films having desired film-thicknesses.例文帳に追加
目標膜厚を有する薄膜を製造可能な薄膜製造装置を提供する。 - 特許庁
Thus, a thin film F1 having a silicon single crystal thin films 11 and 41 laminated is obtained.例文帳に追加
これにより、シリコン単結晶薄膜11、41が積層された薄膜F1を得る。 - 特許庁
To provide a thin film deposition system which deposits thin films on the electrodes of crystal oscillators.例文帳に追加
水晶振動子の電極に薄膜を形成する薄膜形成装置を提供する。 - 特許庁
Preferred substrates include thin metals, metal alloys, and thin glass films.例文帳に追加
好ましい基材としては、薄い金属、金属合金、および薄いガラスフィルムが挙げられる。 - 特許庁
The surface films 29 and 30 are thin films formed on the surfaces of the guide roll main bodies 27 and 28.例文帳に追加
この表面膜29,30は、ガイドロール本体27,28の表面に形成された薄膜である。 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING INSULATING, SEMICONDUCTING, AND CONDUCTING THIN FILMS例文帳に追加
絶縁性,半導電性,および導電性薄膜の製造方法 - 特許庁
Holes in which metal thin-films are removed may be formed in the lands 16 and 16 as the metal thin-films in the reference-place marks 17 and 17.例文帳に追加
基準位置マーク17,17は、金属薄膜であるランド部16,16の中に、金属薄膜が除かれた穴であればよい。 - 特許庁
To provide a production method of multilayer films by which films of thin boundary diffusion layers and small boundary roughness are obtained and multilayer films.例文帳に追加
界面拡散層が薄く、かつ界面粗さの小さな膜を得る多層膜の製造方法及び多層膜を提供する。 - 特許庁
A vacuum process apparatus facilitates heating of substrates and films, exposure of substrates and films to vapor with minimal vapor leakage, deposition of thin films onto substrates, and stripping thin films from substrates.例文帳に追加
真空処理装置によって、基体および膜の加熱、蒸気漏出を極力抑制した、基体および膜の蒸気への暴露、基体上への薄膜の成膜、および薄膜の基体からの剥離が容易になる。 - 特許庁
This device has a configuration combining a polarization transfer section in which ferroelectric thin films are sandwiched by a plurality of electrodes to transfer a polarization signal in the ferroelectric thin films, and a polarization detecting section consisting of a field effect transistor having ferroelectric thin films in a gate section, and continuously unifying the ferroelectric thin films.例文帳に追加
したがって、不揮発性メモリとして集積度を高める際には強誘電体薄膜も小さな形状に裁断されることとなり、その結果、充分な特性や信頼性が得られず、微細化、高集積化には限界が生ずるという課題があった。 - 特許庁
Accompanying the irradiation of the thin films 62b with the light, a phase transition (melting and evaporation) occurs in the thin films 62b according to the relation between the irradiation intensity of the light in the irradiation position thereof and the film thicknesses of the thin films 62b and holes are sometimes formed in the thin films 62b.例文帳に追加
薄膜62bへの光の照射に伴い、その照射位置における光の照射強度と薄膜62bの膜厚との関係に応じて、薄膜62bに相変化(溶融、蒸発)が生じて薄膜62bに孔が形成される場合がある。 - 特許庁
To prevent peeling of thin films formed of a material containing aluminum.例文帳に追加
アルミニウムを含む材料から形成される薄膜の剥れを防止する。 - 特許庁
METHOD OF DEPOSITING YTTRIUM OXIDE AND LANTHANUM OXIDE THIN FILMS例文帳に追加
イットリウム酸化物およびランタン酸化物薄膜を堆積する方法 - 特許庁
These layers have different thickness from one another by forming the first thin films 31 and second thin films 32 with different film thickness from each other.例文帳に追加
これら積層される第1薄膜31と第2薄膜32との膜厚が異なることにより各層それぞれの厚さが異なる。 - 特許庁
To provide a method of making resist patterns for forming fine patterning thin films and a method of patterning the thin films using the same.例文帳に追加
微細なパターニング薄膜を形成するためのレジストパターンの作製方法、及びこれを用いた薄膜のパターニング方法を提供する。 - 特許庁
To provide scintillator panel that is more enhanced in the 3stability of metal thin films as reflecting films.例文帳に追加
反射膜としての金属薄膜の安定性をより向上させたシンチレータパネルを提供すること。 - 特許庁
The seal layers 52, 54 are formed by stacking a single-layer thin film or multiple layers of thin films.例文帳に追加
シール層52,54は、1層の薄膜又は複数層の薄膜を積層して形成されている。 - 特許庁
When silver thin films are used for the metal thin films 26, 36, their characteristics become especially fine, and if a corrosion inhibitor is added to the silver thin film, the corrosion resistance is enhanced.例文帳に追加
前記金属薄膜26,36に銀薄膜を用いる場合は、特に特性がよく、その銀薄膜に金等の腐食防止剤を添加すれば耐食性も向上する。 - 特許庁
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