| 意味 | 例文 (478件) |
solution setの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 478件
SAMPLE SOLUTION SUPPLY CONTAINER, SAMPLE SOLUTION SUPPLY CONTAINER SET, AND MICROCHIP SET例文帳に追加
サンプル液供給容器、サンプル液供給容器セット及びマイクロチップセット - 特許庁
SOLUTION SET FOR PREPARATION OF PERITONEAL DIALYSIS FLUID例文帳に追加
腹膜透析液調製用溶液セット - 特許庁
SLURRY AND POLISHING SOLUTION SET, SUBSTRATE, SUBSTRATE POLISHING METHOD USING CHEMICAL MECHANICAL POLISHING SOLUTION (CMP) OBTAINED FROM THE POLISHING SOLUTION SET例文帳に追加
スラリ及び研磨液セット並びにこれらから得られるCMP研磨液を用いた基板の研磨方法及び基板 - 特許庁
REACTION SOLUTION, SET OF REACTION SOLUTION AND INK, INK JET RECORDING EQUIPMENT, AND IMAGE RECORDING METHOD例文帳に追加
反応液、反応液とインクとのセット、インクジェット記録装置及び画像記録方法 - 特許庁
REACTION SOLUTION, SET OF REACTION SOLUTION AND INK, INKJET RECORDING EQUIPMENT AND IMAGE RECORDING METHOD例文帳に追加
反応液、反応液とインクとのセット、インクジェット記録装置及び画像記録方法 - 特許庁
The surface tension of the standard solution or the reaction indicator solution is set to 55 mN/m or less.例文帳に追加
標準液又は反応指示物質溶液の表面張力を55mN/m以下にすること。 - 特許庁
REACTION SOLUTION, SET OF REACTION SOLUTION AND INK, INKJET RECORDING DEVICE AND RECORDING IMAGE FORMING METHOD例文帳に追加
反応液、反応液とインクとのセット、インクジェット記録装置、及び記録画像形成方法 - 特許庁
ONE SET OF POLISHING SOLUTION FOR CMP AND METHOD FOR POLISHING SUBSTRATE例文帳に追加
一揃いのCMP用研磨液及び基体の研磨方法 - 特許庁
The pump 4 is rotated on the basis of the set amount of the saturated solution of the salt.例文帳に追加
当該設定に基づいてポンプ4が回転する。 - 特許庁
REACTION SOLUTION, INK SET, INKJET RECORDING DEVICE AND IMAGE RECORDING METHOD例文帳に追加
反応液、インクセット、インクジェット記録装置及び画像記録方法 - 特許庁
SET OF INK AND REACTION SOLUTION, INKJET RECORDING METHOD AND RECORDED PRODUCT例文帳に追加
インクと反応液とのセット、インクジェット記録方法及び記録物 - 特許庁
The pressure and temperature in the electrolytic solution are set to the prescribed ones.例文帳に追加
前記電解液を所定の圧力および温度に設定する。 - 特許庁
A filtration unit 28 for filtering the treatment solution is set to the branching pipe 43.例文帳に追加
該分岐管43に処理液を濾過する濾過器28を設ける。 - 特許庁
PRETREATMENT SOLUTION, INK SET, INKJET RECORDER AND INKJET RECORDING METHOD例文帳に追加
前処理液、インクセット、インクジェット記録装置およびインクジェット記録方法 - 特許庁
An LCR primer set 10 in an LCR reaction solution 6 and an LAMP primer set 20 in an LAMP reaction solution 26 are preferably set to prescribed concentrations.例文帳に追加
LCR反応液6中のLCRプライマーセット10およびLAMP反応液26中のLAMPプライマーセット20は、好ましくは所定の濃度に設定する。 - 特許庁
INK COMPOSITION-REACTION SOLUTION SET, INK JET RECORDING METHOD AND RECORDED PRODUCT例文帳に追加
インク組成物と反応液とのセット、インクジェット記録方法及び記録物 - 特許庁
a condition specified for the solution to a set of differential equations 例文帳に追加
一連の微分方程式の解の条件として指定される条件 - 日本語WordNet
REACTION SOLUTION, INK SET, INKJET RECORDING DEVICE AND RECORDING IMAGE FORMING METHOD例文帳に追加
反応液、インクセット、インクジェット記録装置及び記録画像形成方法 - 特許庁
To provide a method and a device to solve a discrete optimization program so that an optimal solution does not fall into a local solution when the optimal solution on a discrete set is searched.例文帳に追加
離散集合上にある最適解を探索する際に局所解に陥らないように解く方法及び装置を提供する。 - 特許庁
An initial solution group creation part 101 creates an initial solution group of bit strings simulating a set of measurement paths.例文帳に追加
初期解集団生成部101は、計測パスの集合を模したビット列の初期解集団を生成する。 - 特許庁
The temperature of the hydrated solution is preferably set to 30°C or below, and the concentration of the phosphate and/or the silicate in the hydration solution is preferably set to 0.1-1.0 mol/l.例文帳に追加
水和液の温度は、30℃より低い温度が望ましく、水和液中の燐酸塩及び/又は珪酸塩の濃度は、0.1〜1.0mol/lとすることが望ましい。 - 特許庁
Next, the initial floor plan solution of the newly generated block set is generated.例文帳に追加
次に、新たに生成されたブロック集合のフロアプラン初期解を生成する。 - 特許庁
The concentration of aqueous solution of glycine is set at 10-30 wt.%, and the pH of the tangle paste is set at ≤4 by adjusting acidity of the vinegar solution.例文帳に追加
グリシン水溶液のグリシン濃度は10〜30重量%とし、食酢溶液の酸度調整によって、昆布ペーストのPHを4以下に調整する。 - 特許庁
The temperature for swelling the tangles in aqueous solution of glycine is set at 60-80°C.例文帳に追加
グリシン水溶液で膨潤させる時の温度は60〜80℃に設定する。 - 特許庁
IMMOBILIZATION METHOD AND DETECTION METHOD OF GLYCOSAMINOGLYCAN, AND SOLUTION SET FOR DETECTION例文帳に追加
グリコサミノグリカンの固定化方法、検出方法および検出用溶液セット - 特許庁
A solution-origin pair extracting part 101 takes out example data from a solution database 2, and extracts a set of a solution and a collection of origins for every example datum.例文帳に追加
解−素性対抽出部101は、解データベース2から事例データを取り出し、各事例データごとに解と素性の集合との組を抽出する。 - 特許庁
Among the plurality of drug solution introducing grooves 12, one drug solution introducing groove 12 is set to be a lengthy drug solution introducing groove 12a extended toward the tip end side longer than the other drug solution introducing groove 12b.例文帳に追加
そして、複数の薬液導入溝12のうち、一の薬液導入溝12を、他の薬液導入溝12bよりも先端側に向かって長く延びた長尺薬液導入溝12aとする。 - 特許庁
In the depolarizing treatment, the temperature of the phosphorous acid-containing aqueous solution is set to 40-80°C and the time to immerse the aluminum foil in the phosphorous acid-containing aqueous solution is set to 5-15 minutes.例文帳に追加
減極処理では、リン酸含有水溶液の温度を40〜80℃とし、該リン酸含有水溶液中へのアルミニウム箔の浸漬時間を5〜15分とする。 - 特許庁
At that time, a mol ratio of Fe/As is preferably set to 0.9-3 and an arsenic concentration is preferably set to ≥20 g/L in the aqueous solution (reactant solution) before starting the precipitation reaction.例文帳に追加
その際、析出反応開始前の水溶液(反応前液)において、Fe/Asモル比は0.9〜3とし、砒素濃度は20g/L以上とすることが好ましい。 - 特許庁
INKJET RECORDING REACTING SOLUTION, INKJET RECORDING METHOD AND INKJET RECORDING INK SET例文帳に追加
インクジェット記録用反応液、インクジェット記録方法及びインクジェット記録用インクセット - 特許庁
A water ratio in the copper raw material solution is set to ≤10 wt.%.例文帳に追加
銅原料液における水の割合は10重量%以下に設定される。 - 特許庁
The transparent substrate 2 is set up in a solution spouting device 50, and deposition of organic EL layers 4 is carried out in the solution spouting device 50.例文帳に追加
この透明基板2を溶液噴出装置50にセットし、溶液噴出装置50で有機EL層4を成膜する。 - 特許庁
A wafer W is set on a surface plate 12 and rotationally driven, and electrolytic solution S is supplied from a solution filling nozzle 16 to the surface of the wafer.例文帳に追加
定盤12上にウェーハWをセットして回転駆動し、注液ノズル16からウェーハの表面へ電解液Sを供給する。 - 特許庁
The tank 12a is set at a solution transfer position P2 for transferring the dope 40 to a solution film forming facility 13 through the pipe 44.例文帳に追加
移動タンク12aを送液位置P2にセットし、送液配管44を介して溶液製膜設備13にドープ40を送る。 - 特許庁
TREATMENT SOLUTION FOR INKJET RECORDING, INK SET, INKJET RECORDING METHOD AND INKJET RECORDING APPARATUS例文帳に追加
インクジェット記録用処理液、インクセット、インクジェット記録方法、およびインクジェット記録装置 - 特許庁
The channel of the heat exchange solution can be set with the first and second diaphragms 4, 5.例文帳に追加
第1、第2の仕切板4、5により熱交換液の流路を設定することができる。 - 特許庁
At that time, the solid concentration of a slurry containing the cleaning solution is set to be 1-30 mass%.例文帳に追加
その際、洗浄液を含むスラリーの固形分濃度を、1〜30質量%とする。 - 特許庁
When the solution further contains Pb, the blending ratio of Pb is set to be ≤11 mol%.例文帳に追加
溶液がさらにPbを含む場合には、Pbの配合率を11mol%以下にする。 - 特許庁
A waste solution container 6 containing a prescribed quantity of a waste solution of methylene chloride is put in a hot water bath 5 and set on a supporting plate 11.例文帳に追加
一定量の塩化メチレンの廃液を貯留した廃液容器6を温水槽5内に入れて支持板11の上に載置する。 - 特許庁
When the basket placing table on which the glass slide mounted baskets are set is moved down, the baskets set on the basket placing table enter the corresponding chemical solution containers and specimens stuck on glass slides are immersed in the chemical solution in the staining solution containers.例文帳に追加
スライドガラスを搭載したバスケットがセットされたバスケット載置台が下がると、バスケット載置台にセットされたバスケットは対応する薬液容器に入り、スライドガラスに貼着された試料が染色液容器内の薬液に浸漬する。 - 特許庁
The kit comprises one set of the aqueous solution of a known concentration of the inorganic acid, a diluting liquid, a reaction solution with known concentration, a reaction accelerator solution and a known amount of a pH adjusting liquid.例文帳に追加
キットは、既知の濃度の無機酸の水溶液、希釈液、既知の濃度の反応用溶液、反応促進剤溶液およびpH調整液の既知量が1組のセットとされる。 - 特許庁
A main surface of a silicon substrate 10 is set in the vertical direction, and the silicon substrate 10 is impregnated in an organic acid or organic acid salt solution 12, or a mixed solution 12 in which hydrofluoric acid is mixed with the solution.例文帳に追加
シリコン基板10をその主面を鉛直方向にして有機酸若しくは有機酸塩の溶液12又はこの溶液にフッ酸を混合した混合液12に浸漬する。 - 特許庁
Furthermore, the second sheath solution introducing flow channel 12 meeting with the sample solution introducing flow channel on the downstream side is set so that the upper surface thereof may be positioned on the same plane as the base of the sample solution inlet flow channel 10.例文帳に追加
また、下流側で合流する第2のシース液導入流路12は、その上面がサンプル液導入流路10の底面と同一平面上に位置するようにする。 - 特許庁
Natural running down height H from junction of the mixed-solution 3 and the aqueous solution 4 containing the silver salt to surface 5 of a remaining reaction solution is set in the range of 10 cm-2 m.例文帳に追加
混合液3と銀塩を含む水溶液4との合流点から下方の滞留反応液の液面5までの自然流下高さHは、10cm〜2mの範囲に設定する。 - 特許庁
Similarly the high-precision approximate solution of the optimal solution for simultaneously optimizing a plurality of object functions is obtained on a static multiobjective optimization problem where the optimal solution is a Pareto set.例文帳に追加
同様に、最適解がパレート集合となる静的な多目的最適化問題についても、複数の目的関数を同時に最適化する最適解の高精度近似解が求められる。 - 特許庁
There is a chemical solution container placing base under the basket placing table, and chemical solution containers corresponding to the plurality of baskets set on the basket placing table are disposed on the chemical solution container placing base.例文帳に追加
バスケット載置台の下方には薬液容器載置基台があり、この薬液容器載置基台にはバスケット載置台にセットされた複数のバスケットに対応した薬液容器が配置されている。 - 特許庁
In the washing process, the washing solution spouting period of the side-wall washing nozzle 23 is set within the washing solution spouting period of the rod-like nozzle 22.例文帳に追加
この洗浄工程では、側壁洗浄ノズル23の洗浄液吐出期間は、棒状ノズル22の洗浄液吐出期間内に設定する。 - 特許庁
| 意味 | 例文 (478件) |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
