「scatterometer」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The overlay errors are measured using a scatterometer to obtain overlay measurements.例文帳に追加

オーバーレイエラーをスキャトロメータを用いて測定すると、オーバーレイ測定値が取得される。 - 特許庁

Both the first and the 0-th order of diffraction are detected with a scatterometer.例文帳に追加

スキャトロメータで１次回折次数と０次回折次数の両方が検出される。 - 特許庁

An overlay marker used with a scatterometer has two two-dimensional gratings overlapping each other.例文帳に追加

スキャトロメータと共に使用するオーバーレイマーカは、重なり合う二つの２次元格子を有する。 - 特許庁

Accordingly, the single scatterometer can perform measurement using widely spaced wavelengths.例文帳に追加

したがって、１つのスキャトロメータが、広い間隔の波長を使用して測定を実行することができる。 - 特許庁

A cross-sectional area of radiation above a predetermined value is detected both in front of and behind the back focal plane of an optical system of a scatterometer so as to detect whether the substrate is in the focal plane of the scatterometer.例文帳に追加

基板がレンズのスキャトロメータの焦点面内にあるか否かを検出するため、スキャトロメータの光学システムの後側焦点面の前後において、所定値以上の放射の断面エリアを検出する。 - 特許庁

METHOD OF MEASURING ASYMMETRY IN SCATTEROMETER, METHOD OF MEASURING OVERLAY ERROR IN SUBSTRATE AND METROLOGY APPARATUS例文帳に追加

スキャトロメータの非対称性を測定する方法、基板のオーバレイエラーを測定する方法および計測装置 - 特許庁

ANGULARLY RESOLVED SCATTEROMETER, INSPECTION METHOD, LITHOGRAPHY EQUIPMENT, LITHOGRAPHIC PROCESSING CELL, METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE, AND ALIGNMENT SENSOR例文帳に追加

角度分解スキャトロメータ、検査方法、リソグラフィ装置、リソグラフィ処理セル、デバイス製造方法およびアラインメントセンサ - 特許庁

The scatterometer has a radiation source that emits radiation with different first and second wavelength ranges.例文帳に追加

スキャトロメータは、異なる第一および第二波長範囲の放射を放出することができる放射源を有する。 - 特許庁

To provide a method of measuring aberrations in a scatterometer having an illumination optical system and a projection optical system.例文帳に追加

照明光学システムおよび投影光学システムを有するスキャトロメータの収差を測定する方法が提供される。 - 特許庁

To provide a system reducing measurement points on a scatterometer measurement object or the degree of freedom of parameters for providing a method for quickly reconstructing a profile of the scatterometer measurement object from a diffraction spectrum.例文帳に追加

本発明の課題の1つは、回折スペクトルからスッキャトロメータ測定オブジェクトの輪郭を迅速に再構築する方法を提供するために、スッキャトロメータ測定オブジェクトの測定ポイントまたはパラメータの自由度の数を減少させるシステムを提供することである。 - 特許庁

To provide a scatterometer measuring method and apparatus that performs measurement using widely spaced wavelengths or wavelength ranges.例文帳に追加

広い間隔の波長または波長範囲を使用して測定することができるスキャトロメータ測定方法および装置を提供する。 - 特許庁

The angular-decomposition scatterometer is provided with an opening plate that includes at least one covered and hidden part that extends into an image on the pupil surface.例文帳に追加

角度分解スキャトロメータに、瞳面の像の中に延びる少なくとも１つの掩蔽部を含んだ開口プレートが設けられている。 - 特許庁

To provide an inspection apparatus (angularly resolved scatterometer) that can perform measurement with multiple different wavelengths and constrain reduction in throughput.例文帳に追加

複数の異なる波長で測定することができ、スループットの低下を抑止できる検査装置（角度分解スキャトロメータ）を提供すること。 - 特許庁

In a method of measuring asymmetry in a scatterometer, a target portion is illuminated twice, first with 0° of substrate rotation and secondly with 180°of substrate rotation.例文帳に追加

スキャトロメータの非対称性を測定する方法において、ターゲット部分を、第一には０°の基板回転で、第二には１８０°の基板回転で、２回照明する。 - 特許庁

In a scatterometer, an aperture plate comprising an array of transmissive apertures is inserted into a plane in the illumination optical system that is conjugate with the pupil plane of the projection optical system.例文帳に追加

スキャトロメータ内で、透過性開口のアレイを備えるアパーチャプレートが、投影光学システムの瞳面と共役である照明光学システムの面に挿入される。 - 特許庁

The diffracting structure is then measured using a spectroscopic scatterometer using polarized and broadband radiation to obtain the intensity or the ellipsometric signature of the diffracting structure.例文帳に追加

次に、偏光放射線および広帯域放射線を用いた分光散乱計を使って回折構造体を測定して回折構造体の強度またはエリプソメトリックな署名を得る。 - 特許庁

The diffracting structure 12c is then measured using a spectroscopic scatterometer using polarized radiation and broadband radiation to obtain the intensity or an ellipsometric signature of the diffracting structure.例文帳に追加

次に、偏光放射線および広帯域放射線を用いた分光散乱計を使って回折構造体１２ｃを測定して回折構造体の強度またはエリプソメトリックな署名を得る。 - 特許庁

The diffracting structure 12c is then measured using a spectroscopic scatterometer using polarized radiation and broadband radiation to obtain the intensity or an ellipsometric parameter of the diffracting structure 12c.例文帳に追加

次に、偏光放射線および広帯域放射線を用いた分光散乱計を使って回折構造体１２ｃを測定して回折構造体１２ｃの強度またはエリプソメトリックなパラメータを得る。 - 特許庁

The diffracting structure 12c is then measured using a spectroscopic scatterometer using polarized radiation and broadband radiation to obtain the intensity or an ellipsometric characteristic parameter of the diffracting structure 12c.例文帳に追加

次に、偏光放射線および広帯域放射線を用いた分光散乱計を使って回折構造体１２ｃを測定して回折構造体１２ｃの強度またはエリプソメトリックな特徴的パラメータを得る。 - 特許庁

To provide a function of an elliptic polarization method of a scatterometer capable of the measurement of the phase difference and amplitude of beams diffracted from a structure in a state where an already known phase modulator having wavelengths in a plurality of ranges has no defect.例文帳に追加

構造から回折したビームの位相差および振幅を、複数の範囲の波長を有する既知の位相変調器の欠点がない状態で測定可能なスキャトロメータの楕円偏光法の機能を提供する。 - 特許庁

An angularly resolved scatterometer uses a broadband radiation source and an acousto-optical tunable filter to select one or more narrowband components from the broadband beam emitted by the radiation source for use in measurements.例文帳に追加

角度分解スキャトロメータは、広帯域放射源と、測定で使用するために放射源によって放出された広帯域ビームから１つまたは複数の狭帯域成分を選択する音響光学波長可変フィルタとを使用する。 - 特許庁

To provide a scatterometer with an ellipsometric function so as to measure a phase difference and amplitude of beams diffracted by a structure in a plurality of wavelength ranges without using an existing phase modulator and without integrating additional hardware.例文帳に追加

構造で回折したビームの位相差および振幅を、既知の位相変調器を使用することなく、また、過剰な追加ハードウェアを組み込むことなく、複数の波長レンジで測定することができるよう、スキャトロメータにエリプソメトリック機能を提供する。 - 特許庁

The detection positions in front of and behind the back focal plane have preferably to be equidistant from the back focal plane along the path of the reflected radiation so that a simple comparison can determine whether the substrate is in the focal plane of the scatterometer.例文帳に追加

好ましくは、後側焦点面の前後にある検出位置を、反射した放射のパスに沿って後側焦点面から等距離におくことによって、基板がスキャトロメータの焦点面内にあるか否かを単純な比較により判断することができる。 - 特許庁

To provide a shape profile measuring device capable of realizing highly accurate measurement of a fine short-wavelength pattern by imparting a scatterometer device for solving the problem of grazing incidence in the case of using a reflection type objective lens and the problem of chromatic aberration in the case of using the reflection type objective lens.例文帳に追加

反射型対物レンズを用いる場合の斜入射の問題と、反射型対物レンズを用いる場合の色収差の問題を解決するスキャテロメトリィ装置を与えることで、短波長で微細パターンの高精度な測定を実現できる形状プロファイル測定装置を提供する。 - 特許庁

An abnormality detection/classification method that checks dispersion in a raw data using a raw back-focal-plane image data of radiation from a substrate surface detected by a scatterometer detector, and associates the variation in the raw data that may possibly occur in the lithographic device or a fault that may possibly occur in a process where the substrate surface is patterned is disclosed.例文帳に追加

スキャトロメータディテクタによって検出された、基板表面からの放射の生の後焦点面像データを使用して、生データ内のばらつきを確認し、生データのばらつきをリソグラフィ装置、または基板表面をパターニングしたプロセスにて起こり得る異常に関連付ける、異常検出／分類方法を開示する。 - 特許庁

In a step in which a plurality of target markers are printed on a substrate using lithography equipment, the method to determine focuses includes a process of printing a plurality of the markers after setting the markers to each different focus, a step of measuring characteristics of the target markers using an angle-resolved scatterometer, and a process of setting one or a plurality of the focuses based on the characteristics.例文帳に追加

リソグラフィ装置を用いて複数の目標マーカを基板上にプリントするステップにおいて、複数のマーカをそれぞれ異なる焦点に設定してプリントする工程と角度分解散乱計を用いて目標マーカの特性を測定するステップと、前記特性に基づいて１つまたは複数の焦点を設定する工程を含む焦点決定方法である。 - 特許庁