| 例文 (28件) |
plasma fluctuationの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 28件
A magnetic field generating means 4 applies a varying magnetic field in the plasma generating space 11 and gives fluctuation to a plasma.例文帳に追加
磁場発生手段4はプラズマ発生空間11内に、変動する磁場を印加し、プラズマに揺らぎを与える。 - 特許庁
To provide a plasma treating method and apparatus assuring stability of treatment by suppressing fluctuation in recovery rate or recovery concentration of fluorine raw material in atmospheric plasma treatment.例文帳に追加
大気圧プラズマ処理において、フッ素原料の回収率又は回収濃度の変動を抑制し、処理の安定性を確保する。 - 特許庁
To provide a plasma display and its manufacturing method with little inner-face fluctuation of heights of partition walls or defects and with little fluctuation of the heights of the partition walls among panels.例文帳に追加
隔壁高さの面内ばらつきや欠陥が少なく、パネル間で隔壁高さの変動が少ないプラズマディスプレイおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a plasma processing apparatus that can accurately detect the fluctuation of minute amount of gas flow and the fluctuation of pressure by a relatively low-cost method and without being dependent upon the process conditions, and to provide a method for plasma processing.例文帳に追加
比較的安価な方法で且つプロセス条件に依存せずに微小なガス流量の変動や圧力変動を確実に検出することができるプラズマ処理装置、その異常検出方法及びプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method reducing plasma damage of a semiconductor integrated circuit, while suppressing delay fluctuation due to layout correction.例文帳に追加
レイアウト修正による遅延変動を抑制しつつ半導体集積回路のプラズマダメージを軽減する製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of cleaning a plasma etching system which can suppress fluctuation in TFT reliability among lots while preventing so-called trailing phenomenon, and to provide a method of plasma etching and a method of manufacturing a semiconductor device using the method of plasma etching.例文帳に追加
裾引きと呼ばれる現象を防ぎ、なおかつロット間におけるTFTの信頼性のバラツキを抑えることができる、プラズマエッチング装置のクリーニング方法、プラズマエッチング方法及び該プラズマエッチング方法を用いた半導体装置の作製方法の提供を課題とする。 - 特許庁
A substrate 6 is arranged in the plasma generating space 11, and the nano hole is bored on the substrate 6 by using a potential difference generated between a first electric conductor 61 and a second electric conductor 62 caused by the fluctuation of the plasma.例文帳に追加
基板6をプラズマ発生空間11に配置し、プラズマの揺らぎに起因して、第1の導電体61と第2の導電体62との間に発生する電位差を利用して、基板6にナノホールを穿孔する。 - 特許庁
To stabilize the quality of a plasma display panel by controlling the fluctuation of solid state properties of a protective layer regardless of a long-term continuous operation.例文帳に追加
長期連続稼動状況にあっても保護層物性の変動を抑制することで、プラズマディスプレイパネルの品質を安定させることを目的とする。 - 特許庁
To provide a plasma display device in which fluctuation in impedance matching for each of the high frequency electrodes is reduced and a large cost reduction can be made.例文帳に追加
高周波電極各々に対するインピーダンスマッチングのばらつきを低減すると共に、大幅なコスト削減が可能なプラズマ表示装置を提供する。 - 特許庁
Since a low inductance internal antenna 10 is used, fluctuation of plasma potential can be suppressed and ions can be extracted while suppressing variation in energy.例文帳に追加
また、低インダクタンス内部アンテナ10を用いているため、プラズマ電位の揺動を小さく抑えることができ、エネルギーの揃ったイオンを引き出すことができる。 - 特許庁
To solve a problem that accuracy is deteriorated by fluctuation in a measurement value caused by fluctuation in an ablation laser spot position and a spot area on a sample surface when measuring the laser-induced fluorescence of an element generated by irradiating plasma generated at irradiation with ablation laser light with a laser having a resonance wavelength.例文帳に追加
アブレーションレーザ光を照射して生成したプラズマに共鳴波長のレーザを照射して発生させた元素のレーザ誘起蛍光を測定する際に、試料面上のアブレーションレーザスポット位置やスポット面積の変動によって測定値が変動し、精度が劣化する問題を解決する。 - 特許庁
To provide an arc detector of plasma treatment system having a method to determine that when it is determined that an arc is generated in a plasma treatment device, the change that becomes the basis of determination is not caused by a normal impedance fluctuation but is caused by arc generation.例文帳に追加
プラズマ処理装置においてアークが発生したと判別されたときに、その判別の根拠となった変化が通常のインピーダンス変動によるものでなく、アーク発生によるものであることを判定する方法を備えた、プラズマ処理システムのアーク検出装置を提供する。 - 特許庁
The charges are stored in the insulating layer 6 during a plasma treatment, but a potential fluctuation just under the insulating layer 6 is suppressed because the charges are absorbed to the first conductor R_1.例文帳に追加
なお、この電荷は、プラズマ処理中に絶縁層6中に蓄積されていたものであるが、第1の導電体R_1に吸収されているので、絶縁層6直下のポテンシャル変動は抑制される。 - 特許庁
To provide an aging method and device capable of producing a high-reliability plasma display panel by reducing voltage fluctuation of a voltage pulse applied to address electrodes in aging.例文帳に追加
エージング時にアドレス電極に印加する電圧パルスの電圧変動を軽減し、信頼性の高いプラズマディスプレイパネルを生産できるエージング方法及びエージング装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a high-contrast driving method for a PDP (plasma display panel) capable of assuring a sufficient driving margin by compensating a fluctuation-component of a barrier voltage due to the influence of crosstalk etc., from adjacent cells even if the barrier voltage changes.例文帳に追加
隣接セルからのクロストーク等の影響で壁電圧が変動しても、その変動分を補償することにより、十分な駆動マージンを確保できるPDPの高コントラスト駆動方法を提供する。 - 特許庁
The control means 71 monitors a fluctuation of the detecting output of an exhaust gas sensor 4 in a combustion cycle equivalent time of an internal combustion engine 1 and a control signal is outputted to the high voltage generating device 6 in a manner to match with a fluctuation of the detecting output and a feed power to the plasma discharge device 3 is controlled.例文帳に追加
制御手段71は、内燃機関1の燃焼サイクル相当時間内での排ガスセンサ4の検知出力の変動を監視しており、この検知出力の変動に合せて、高電圧発生装置6に制御信号を出力してプラズマ放電装置3への供給電力を制御する。 - 特許庁
Specified metal 4 is plasma-etched as a pre-processing before the start of etching when the exposure stage of specified metal affecting the fluctuation of the etching rate is included, and a surface where specified metal is not exposed is etched in the initial stage of etching from the start of plasma etching to the end.例文帳に追加
プラズマエッチングの開始から終了までの間に、エッチングレートの変動に影響を与える特定金属の露出段階が含まれ、且つ、エッチング初期には特定金属が露出していない表面に対してエッチングを行う際に、エッチングの開始前の前処理として、特定金属4をプラズマエッチングする。 - 特許庁
To provide a plasma display device excellent in external light contrast, with which it is easy to print phosphor paste by dropping it into the bottom part of a space surrounded by barrier ribs and which causes little fluctuation in application volume of phosphors.例文帳に追加
外光コントラストに優れ、しかも隔壁リブで囲まれた空間の底部に蛍光体ペーストを落とし込んで印刷することが容易であり、蛍光体の塗布量のばらつきが生じ難いプラズマ表示装置を提供すること。 - 特許庁
To supply electric power from an electric power source with high transfer efficiency by adjusting the oscillation frequency of a high-frequency power source following to fluctuation of load impedance in a high-frequency resonator such as plasma processing equipment.例文帳に追加
プラズマ処理装置などの高周波共振装置の負荷インピーダンスの変動に追従して高周波電源の発振周波数を整合させることにより、高い転送効率で電源から電力を供給させ得る周波数整合器を提供する。 - 特許庁
The vapor deposition state can be kept constant and the fluctuation in the concentration of an additive can be suppressed, and further, a uniform glass preform can be manufactured by controlling the temperature of the vapor deposition part 12a to be constant by moving the position of the plasma flame 24.例文帳に追加
このようにプラズマ炎24の位置を移動させて蒸着部12aの温度を一定にすることにより、蒸着状態を一定に保って添加物濃度の変動を抑えることができ、均一なガラス母材を製造することができる。 - 特許庁
To provide a protective layer technology capable of carrying out stable address discharge by attaining both shortening of an address discharge delay time over a wide temperature range and suppressing of a decrease in wall charge during a suspension period to reduce voltage fluctuation, in a plasma display panel.例文帳に追加
プラズマディスプレイパネルにおいて、広い温度範囲にわたってアドレス放電遅れ時間を短縮し、休止期間中の壁電荷の減少を抑えて電圧変動を小さくすることを両立させ、安定したアドレス放電を行うことができる保護層技術を提供する。 - 特許庁
To provide a protective layer technology for carrying out stable address discharge and realizing high contrast, by attaining both shortening of address discharge delay time throughout a wide temperature range and reduction in wall charges to restrain voltage fluctuation during a rest period, in a high-definition plasma display panel.例文帳に追加
高精細なプラズマディスプレイパネルにおいて、広い温度範囲にわたってアドレス放電遅れ時間を短縮し、休止期間中の壁電荷の減少を抑えて電圧変動を小さくすることを両立させ、安定したアドレス放電を行うことと、高コントラストを実現する保護層技術を提供する。 - 特許庁
To improve the safety and reliability of a microwave plasma treatment device and also the cooling efficiency of a microwave antenna constituting the device by preventing thermal deformation of a slot plate of the microwave antenna to suppress the fluctuation in propagation of an intended microwave.例文帳に追加
マイクロ波プラズマ処理装置を構成するマイクロ波アンテナのスロット板の熱変形を防止して、目的とするマイクロ波の伝搬における変動を抑制し、前記装置の安定性及び信頼性を向上させるとともに、前記マイクロ波アンテナの冷却効率をも向上させる。 - 特許庁
To provide a method for treating human patient suffered with a cardiovascular disease selected from arrhythmia, variant-form and exercise-induced angina, and myocardial infarction, administrated with ranolazine administration to keep plasma ranolazine near minimum effective level without causing peak fluctuation.例文帳に追加
ピークの変動を生じることなく血漿中ラノラジンが最小有効レベル付近に維持されるように、ラノラジン投与が投与される、不整脈、異型および運動誘発狭心症並びに心筋梗塞から選択される心血管疾患に罹患しているヒト患者を治療する方法の提供。 - 特許庁
To provide an excimer lamp device capable of obtaining high light emission efficiency without fear of fluctuation of filament-shaped discharge generated in an arc tube even if the inside of the arc tube is made an equilibrium plasma state in order to raise light emission efficiency, and as a result, capable of obtaining high illuminance with stabilization of illuminance achieved.例文帳に追加
発光効率を上げるために発光管内を平衡プラズマ状態としても、発光管内で発生するフィラメント状放電が変動することがなく、高い発光効率が得られ、結果として高い照度が得られると共に、照度の安定化を可能にしたエキシマランプ装置を提供する。 - 特許庁
To realize a good image generation without drift and contrast fluctuation by carrying a mask to a chamber after removing static electricity by generating a plasma in a subchamber before carrying the mask to the chamber.例文帳に追加
本発明は、マスクの検査を行うマスク検査装置に関し、マスクがチャンバーに搬送される直前のサブチャンバーでプラズマを発生させて静電気の除去を行った後にチャンバーに搬入し、マスクなどの静電気を除去してドリフトがなくかつコントラスト変動のない良質の画像の生成を実現することを目的とする。 - 特許庁
To provide a protective layer technology which enables a high resolution plasma display panel to achieve both a reduction of address discharge delay time throughout a wide temperature range and a reduced voltage fluctuation by suppressing a reduction of wall charges during a rest period, leading to a realization of stable address discharge and high contrast.例文帳に追加
高精細なプラズマディスプレイパネルにおいて、広い温度範囲にわたってアドレス放電遅れ時間を短縮し、休止期間中の壁電荷の減少を抑えて電圧変動を小さくすることを両立させ、安定したアドレス放電を行うことと、高コントラストを実現する保護層技術を提供する。 - 特許庁
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