「hot plasma」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a circuit for hot switching a plasma tuner in an increased power level.例文帳に追加

パワー・レベルの増大した範囲でプラズマ・チューナをホット・スイッチングする回路を提供する。 - 特許庁

The operating conditions are selected such that the hot plasma does not transfer a substantial amount of heat to the substrate tube, where the presence of such heat results in vaporizing the reactant material (creating soot) and developing hot spots.例文帳に追加

そのような熱の存在は反応物質を蒸発させ（スートを生成する）、高温な点を発達させる。 - 特許庁

To further increase the speed of plasma arc welding by a stable arc without causing hot cracking nor undercut.例文帳に追加

高温割れ，アンダーカットを生じることなく安定したアークでプラズマアーク溶接をより高速化。 - 特許庁

To provide an insert chip materializing high-speed welding free of hot crack and undercut, and to provide a plasma torch and a plasma machining apparatus using the insert chip.例文帳に追加

高温割れやアンダーカットのない高速溶接を実現することができるインサートチップ，これを用いるプラズマトーチおよびプラズマ加工装置を提供。 - 特許庁

To provide a method and a circuit for performing hot switching of a plasma tuner in a range where a power level is increased.例文帳に追加

パワー・レベルの増大した範囲でプラズマ・チューナをホット・スイッチングする方法と回路を提供する。 - 特許庁

To meet the necessity of disinfection, hot blast drying, and sterilizing assistance by simultaneously providing plasma and heat.例文帳に追加

同時にプラズマと熱量とを提供することにより、消毒と熱風乾燥、殺菌補助の必要を満たすこと。 - 特許庁

To reduce sputter by performing high-efficiency build-up welding in a hot wire method using plasma torches of a plurality of nozzles.例文帳に追加

複数ノズルのプラズマトーチを用いてホットワイヤ方式で高能率の肉盛溶接を行い、スパッタは低減する。 - 特許庁

To provide a device for thawing a frozen plasma capable of safely and sanitarily thawing the frozen plasma stored in a blood bag in a short time without using hot water.例文帳に追加

血液バッグに貯蔵された凍結血漿を、温水を使用することなく、安全かつ衛生的に、短時間に解凍する凍結血漿解凍装置を提供すること。 - 特許庁

PLASMA DISPLAY AND BOARD-MANUFACTURING METHOD FOR THE SAME AND AS CONTINUOUS HOT AIR DRYING DEVICE FOR DRYING FLUORESCENT LAYER例文帳に追加

プラズマディスプレイおよびプラズマディスプレイ用基板の製造方法ならびに蛍光体層乾燥用連続熱風乾燥装置 - 特許庁

In the method for manufacturing a plasma processor being employed in the production of a semiconductor, components subjected to machining or surface treatment and being exposed to the plasma of the plasma processor are cleaned with hot pure water before being incorporated in an apparatus.例文帳に追加

半導体製造に用いられるプラズマ処理装置の製作方法において、機械加工や表面処理が施されプラズマ処理装置のプラズマに晒される部品を、該部品の装置への組み込む前に、温純水によって洗浄する。 - 特許庁

An arc plasma is generated between two electrodes and an atmospheric hot gas stream having a temperature in the range between 4,000°C and 12,000°C is formed from the arc plasma.例文帳に追加

２つの電極の間にアーク状のプラズマを発生させ、４０００℃と１２０００℃との間の範囲の温度を有する大気高温ガス流を前記アーク状のプラズマから形成する。 - 特許庁

The hot cathode 10 is inserted into a plasma generating vessel 4 along a length direction of a narrow ion extraction port 6.例文帳に追加

熱陰極１０は、細長いイオン引出し口６の長手方向に沿うようにプラズマ生成容器４内に挿入されている。 - 特許庁

In a decomposition apparatus wherein a gas containing an organohalogen compd. is irradiated with microwaves to form hot plasma and the organohalogen compd. is reacted with steam in hot plasma to be decomposed, a mixer 37 is provided in the confluent part of the organohalogen compd. supplied by a separate system and steam.例文帳に追加

有機ハロゲン化合物を含むガスにマイクロ波を照射することによって熱プラズマを生成し、該熱プラズマ中で有機ハロゲン化合物を水蒸気と反応させて分解する分解装置において、別系統で供給される有機ハロゲン化合物と水蒸気との合流部にミキサー３７を設けた。 - 特許庁

The first silicon film 2 is formed by a hot CVD method, and the second film 3 is formed by a high-density plasma CVD method.例文帳に追加

ここで、熱ＣＶＤ法によって、第１のシリコン膜２を形成し、高密度プラズマＣＶＤ法によって、第２のシリコン膜３を形成する。 - 特許庁

The side end of the duct is provided with a fan 12 and the hot air in the duct is exhausted to the outside of the plasma display device by this fan 12.例文帳に追加

ダクトの側端部にはファン１２が設けられており、ダクト内部の熱気はファン１２によってプラズマディスプレイ装置の外部に排気される。 - 特許庁

Then carbon nanotubes are grown by a hot filament chemical vapor deposition method or microwave plasma vapor phase deposition method by applying a negative voltage on the substrate.例文帳に追加

そして熱フィラメント化学気相堆積法やマイクロ波プラズマ気相堆積法を用い、基板を負電圧として、カーボン・ナノチューブを成長させる。 - 特許庁

To provide the subject laser ICP(inductively coupled plasma) analyzing method for sampling a fine particle sample from a high temperature sample such as a hot piece or the like to analyze the same.例文帳に追加

熱片等の高温の試料から微粒子試料を採取して分析を行う、高温試料のレーザーＩＣＰ分析方法を提供する。 - 特許庁

By decomposing the organic constituent generated in drying and baking a dielectric layer, a partition, a phosphor, seal frit and the like for the plasma display panel with an oxidizing means 15, the organic constituent contained in the hot blast can be removed without reducing the hot blast supply quantity (increasing hot blast supply pressure) and the heat energy of the hot blast.例文帳に追加

ＰＤＰの誘電体層、隔壁、蛍光体、シールフリット等の乾燥・焼成の際に発生する有機成分を酸化手段１５で分解処理することにより、熱風供給量を減少（熱風供給圧を増大）させることなく且つ熱風の熱エネルギーを減少させることなく熱風に含まれる有機成分を除去できる。 - 特許庁

To solve a problem where fragmentation of a gas cluster caused by high-energy electrons can not be prevented in an ionization method using thermions fed from a red-hot filament or electrons in plasma.例文帳に追加

赤熱したフィラメントから供給される熱電子やプラズマ中の電子を用いた電離法では、高エネルギー電子によるガスクラスターのフラグメント化が避けられない。 - 特許庁

The method comprises decomposing a nitrogen oxide under atmospheric pressure utilizing hot plasma having a high temperature of 2,000 K or more generated by arc discharge, high-frequency discharge, microwave discharge and the like.例文帳に追加

アーク放電、高周波放電、マイクロ波放電等により生じる２０００Ｋ以上の高温の熱プラズマを利用して大気圧下で窒素酸化物を分解する。 - 特許庁

To provide a method of forming a water repelling film that can be inexpensively manufactured without need of a plasma polymerization apparatus which has an expensive hot vaporizing machine.例文帳に追加

高価な熱気化機を有するプラズマ重合装置を必要としない、安価に製造することができる撥水膜の形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a plasma display panel capable of removing an organic constituent contained in the circulating hot blast without reducing supply quantity and heat energy of the hot blast.例文帳に追加

循環する熱風に含まれる有機成分を熱風供給量を減少させることなく且つ熱風の熱エネルギーを減少させることなく、循環する熱風に含まれる有機成分を除去することができるプラズマディスプレイパネルの製造方法を提供する。 - 特許庁

When processing gas is fed to a cylindrical plasmatic space 1 between a hot electrode 30 on the inside and an earth electrode 40 arranged on the outside while surrounding the hot electrode 30 and an electric field is applied, the processing gas producing glow discharge is turned into plasma and blown out of a nozzle hole 52b.例文帳に追加

内側のホット電極３０とそれを囲む外側のアース電極４０との間の筒状プラズマ化空間１ａに、処理ガスを供給するとともに電界を印加してグロー放電を起させる処理ガスをプラズマ化させて、ノズル孔５２ｂから吹出す。 - 特許庁

Using a mixture of the metal powder and the hard particle powder as the raw material, the same is formed as a sintered body by a hot isostatic pressing method or as a build-up weld layer by powder plasma welding or the like.例文帳に追加

金属粉末と硬質粒子粉末の混合物を原料とし、熱間静水圧加圧法による焼結体、粉体プラズマ溶接等の肉盛層として形成される。 - 特許庁

The plasma igniter 3 comprises an electron drift layer 5 formed on a semiconducting or conductive substrate 4 generating hot electron, quasi-ballistic electron, or ballistic electron, and a surface electrode 6 formed on the electron drift layer 5, and is loaded on an atmospheric pressure plasma treatment device.例文帳に追加

プラズマイグナイタ３は、ホットエレクトロン、準弾道電子、又は弾道電子を生成する半導体もしくは導電性基板４上に形成された電子ドリフト層５と、電子ドリフト層５上に形成された表面電極６とからなり、大気圧プラズマ処理装置に搭載する。 - 特許庁

In a third step, voltage is impressed on the HOT electrode 22, electric discharge is generated between the HOT electrode 22 and the treating object 10, and the treating gas which becomes plasmatic by discharge is made to contact the surface 11 of the treating object 10, and the surface 11 of the treating object 10 is plasma-treated.例文帳に追加

第３のステップにおいて、ＨＯＴ電極２２に電圧を印加してＨＯＴ電極２２と被処理物１０との間２５で放電を発生させ、放電によりプラズマ化した処理ガスを被処理物１０の表面１１に接触させて、被処理物１０の表面１１をプラズマ処理する。 - 特許庁

An ion gun 11 introduces Ar gas from a gas introduction part 114 into a body 111, and generates D.C. hot cathode discharge between a filament 113 and an anode 112 to generate plasma of Ar.例文帳に追加

イオンガン１１は、ガス導入部１１４よりＡｒガスを本体１１１内に導入し、フィラメント１１３とアノード１１２との間で直流熱陰極放電をおこし、Ａｒのプラズマを生成する。 - 特許庁

A plasma source 2 is provided near the outside of a reaction chamber 1 of a hot-wall heating type, and a port 23 for supplying activated species generated by the plasma source 2 is disposed to an exhaust port 9A across the surface of the substrate 4, and the activated species are made to flow nearly in parallel with the substrate 4.例文帳に追加

ホットウォール加熱方式の反応室１の外側の近傍にプラズマ源２を設け、被処理基板４の表面を挟んで略対向する位置に、プラズマ源２により生成した活性種を供給する活性種供給口２３と、排気口９Ａとを設け、前記活性種を被処理基板４と略平行に流す。 - 特許庁

This manufacturing method of the hot dip metal coated steel sheet has the peculiarity, in which after heating the steel sheet in a reducing atmosphere, mainly inert gas is supplied and at least one side surface of the steel sheet is irradiated with low temperature plasma in the gas atmosphere at the substantially ordinary pressure and successively, the hot dip metal coating is applied.例文帳に追加

この発明の溶融めっき鋼帯の製造方法は、鋼帯を還元性雰囲気中で加熱した後、主として不活性ガスを供給し、実質的に常圧となるガス雰囲気中で、前記鋼帯の少なくとも片面に低温プラズマを照射し、引き続き溶融めっきを施すことを特徴とする。 - 特許庁

The ion source 2 further includes a gas supply mechanism supplying raw material gas 8 inside the inner conductor 14 of the hot cathode 10 and releasing it into the plasma generating vessel 4 from the tip of the inner conductor 14.例文帳に追加

このイオン源２は更に、熱陰極１０の内部導体１４内に原料ガス８を供給してそれを内部導体１４の先端からプラズマ生成容器４内へ放出させるガス供給機構を備えている。 - 特許庁

The heat treatment method for steel material is a method in which a steel material or the surface layer part is rapidly heated at ≥2°C/s heating rate with one heating method among an induction-heating, a laser- heating and a plasma-heating after completing hot-rolling.例文帳に追加

熱間圧延完了後、誘導加熱、レーザ加熱、プラズマ加熱の内１種以上の加熱方法により、鋼材又はその表層部をを2℃/s以上の加熱速度で急速加熱する鋼材の熱処理方法。 - 特許庁

The hot switching circuit is coupled through a controlled impedance network including an RF switch for switching a predetermined impedance between an RF generator output and a plasma chamber input for matching impedances.例文帳に追加

本発明のホット・スイッチング回路は、インピーダンスを整合するためのＲＦ発生器出力とプラズマ容器との間を、予め定められたインピーダンスをスイッチするためのＲＦスイッチを備えた制御されたインピーダンス・ネットワークが結合する。 - 特許庁

In these hot switching method and device, a controlled impedance network provided with an RF switch for switching predetermined impedance couples an RF generator output for matching impedance and a plasma container.例文帳に追加

本発明のホット・スイッチング法および回路は、インピーダンスを整合するためのＲＦ発生器出力とプラズマ容器との間を、予め定められたインピーダンスをスイッチするためのＲＦスイッチを備えた制御されたインピーダンス・ネットワークが結合する。 - 特許庁

Processes for etching PZT and/or forming a ferroelectric capacitor with Ir/IrOx electrodes (350/355, 300/335) and PZT ferroelectric layer (340) use a titanium-containing hard mask (360), a chlorine/oxygen-based plasma, and a hot substrate, typically at about 350°C.例文帳に追加

PZTをエッチングし、かつ／または、Ｉｒ／ＩｒＯｘ電極（350／355，300／335）を備えた、強誘電体コンデンサー及びPZT強誘電体層(340)を形成するためのプロセスは、チタン含有ハードデスク(360)、塩素／酸素系プラズマ、通常約350℃のホット基板を使用する。 - 特許庁

The plasma-resistant electrode-buried body is produced by placing metal electrodes on a Y_2O_3 calcined body, pouring Y_2O_3 slurry thereon, drying the slurry, and thereafter joining the stacked body by hot pressing at 1,650 to 1,900°C.例文帳に追加

本耐プラズマ性電極埋設体は、Ｙ_２Ｏ_３仮焼体の上に金属電極を置き、その上にＹ_２Ｏ_３スラリーを流し込み、このスラリー乾燥後に、その積層体を１６５０〜１９００℃のホットプレスにより接合して製造される。 - 特許庁

The capacitive coupling of power to the plasma expedites the hot tail distribution of electronic energy and, consequently, the level of gas cracking and the generation of a fluorine group which is not material selective is reduced while semiconductor treatment, such as the oxide etching, etc., is performed.例文帳に追加

プラズマへの電力の容量結合が、電子エネルギのホット・テール分布を推し進め、その結果、ガス・クラッキングのレベル及び酸化物エッチングなどの半導体処理操作において材料選択的でないフッ素基などの生成が低減される。 - 特許庁

The method for producing the low oxygen metal powder, is performed, by which the raw material metal powder coated by heating and melting hydrogen carbide-base organic compound, is passed through hot plasma flame mainly containing inert gas to reduce the oxygen content in the raw material metal powder.例文帳に追加

炭化水素系有機化合物を加熱溶融して被覆した原料金属粉末を、不活性ガスを主体とする熱プラズマ炎中に通過させることにより前記原料金属粉末の酸素含有量を低減する低酸素金属粉末の製造方法である。 - 特許庁

The slipperiness of the surface of a molded resin article is easily suppressed at a low cost by forming extremely minute unevenness on the surface and forming a moisture-adsorbing functional group by a chemical activation treatment such as flame treatment, plasma treatment, corona discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, ozone treatment and hot air treatment.例文帳に追加

非常に微細な凹凸を形成するとともに水分を吸着するような官能基を、フレーム処理、プラズマ処理、コロナ放電処理、紫外線照射処理、オゾン処理、熱風処理等の化学的な活性化処理を行うことによって、簡易で、かつ安価に滑り性を抑えることができる。 - 特許庁

The method is characterized by heating and melting raw material powder 3 to spheroidize with high-frequency hot plasma 11 and the molten particle is cooled by allowing the particle to fall down through a cooling tower 31 having cooling water sprayed therein from a spray nozzle 46 by allowing the cooling water to flow into an inner wall to prepare the ceramics and the metallic spherical powder 4.例文帳に追加

原料粉末３を高周波熱プラズマ１１により加熱溶融して球状化し、この溶融粒子を内壁に冷却水を流し噴霧ノズル４６から冷却水を噴霧した冷却塔３１内を落下させて冷却してセラミック又は金属の球状粉末４を製造する。 - 特許庁

The optical film has a metal compound layer formed by atmospheric pressure plasma discharge treatment directly or through another layer on a cellulose ester film of which the modulus of elasticity when immersed in hot water of 60°C is 2.8 to 4.0 GPa and the moisture vapor transmission rate at 40°C and 90% RH is 20 to 850 g/(m^2 24 h).例文帳に追加

６０℃の温水に浸漬したときの弾性率が２．８〜４．０ＧＰａで、且つ４０℃、９０％ＲＨでの透湿度が２０〜８５０ｇ／ｍ^２・２４ｈであるセルロースエステルフィルム上に、直接または他の層を介して大気圧プラズマ放電処理により形成した金属化合物層を有することを特徴とする光学フィルム。 - 特許庁

There is provided a method for producing silicon materials, including steps of: providing a multi-elemental water-soluble precursor solution containing at least one silicon precursor without substantially containing halogen; and applying a heat source selected from thermal plasma, flame spraying, a hot-wall reactor or a spray pyrolysis system with the silicon precursor to produce multi-elemental silicon materials.例文帳に追加

少なくとも１つのケイ素前駆体を含む、実質的にハロゲンを含まない、多元素系水溶性前駆体溶液を与えることと、このケイ素前駆体に熱プラズマ、火炎噴霧、ホットウォールリアクタまたは噴霧熱分解システムから選択される、熱源をあてて多元素系ケイ素材料を作成することとを含む、ケイ素材料を製造する方法。 - 特許庁

The respective fine powders of metallic nano-crystalline bulk material forming components are subjected to mechanical alloying (MA) using a ball mill etc. to prepare metal nano-powder, and the powder is then subjected to hot compaction, such as sheath rolling, spark plasma sintering and extrusion, or compaction treatment such as explosive forming to manufacture the tenacious metallic nano-crystalline bulk material having high hardness and high strength.例文帳に追加

ナノ金属バルク材形成成分の各微粉末を、ボールミル等を用いてメカニカルアロイング（ＭＡ）することによって、ナノ金属粉末を製造した後、粉末をシース圧延、放電プラズマ焼結、押出し成形等の熱間固化成形又は爆発成形などの固化成形処理して高硬度・高強度で強靱なナノ結晶金属バルク材となす。 - 特許庁

Then a hot plasma nitriding processing is coupled with a heating process in the atmosphere containing nitrogen monoxide so as to form an acid silicon nitride film SOX on the surface of the silicon oxide film OX1, with nitrogen N2 segregated on the interface between the silicon oxide film OX1 and a semiconductor substrate 1S.例文帳に追加

第１電位障壁膜ＥＶ１の主要構成要素である酸化シリコン膜ＯＸ１をプラズマ成膜法により形成した後、高温のプラズマ窒化処理と、一酸化窒素を含む雰囲気中での加熱処理とを組み合わせて実施することにより、酸化シリコン膜ＯＸ１の表面に酸窒化シリコン膜ＳＯＸを形成し、かつ、酸化シリコン膜ＯＸ１と半導体基板１Ｓの界面に窒素Ｎ２を偏析させる。 - 特許庁