「focused beam」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

Then, a laser beam can be focused so as to photodistrupt the stroma tissue and create a photodistruptive response.例文帳に追加

次いで、レーザ・ビームを、ストロマ組織を光融除し、光融除応答を生成するように集束させることができる。 - 特許庁

In a sixth embodiment, sound beams are focused in front or behind the surfaces, to give different beam widths and simulated origins.例文帳に追加

第６の態様は、面の前方または後方にサウンド・ビームを合焦させ、異なるビーム幅および疑似音源を与える。 - 特許庁

TEM SAMPLE WITH IDENTIFICATION FUNCTION, TEM SAMPLE-PROCESSING FOCUSED ION BEAM DEVICE AND TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPE例文帳に追加

識別機能を備えたＴＥＭ試料及びＴＥＭ試料加工用集束イオンビーム装置並びに透過型電子顕微鏡 - 特許庁

To provide a focused ion-beam device capable of accurately setting a processing-position, without giving damages on a sample.例文帳に追加

試料へのダメージを最小化し高精度の加工位置決めを行うことができる集束イオンビーム装置を提供する。 - 特許庁

The spectral divergent beam can be focused on a focal line, so that a selected part thereof is not detected duplicately.例文帳に追加

スペクトル拡開光線は、その選択された部分を重複せずに検出するために、焦点線上で合焦できる。 - 特許庁

To write a bar-code as a marking pattern on light sensitive material by using a laser beam focused in a shape of a spot.例文帳に追加

スポット状に集光したレーザービームを用いて、感光材料にマーキングパターンとしてバーコードを形成可能とする。 - 特許庁

APPARATUS WITH COAXIAL BARREL OF FOCUSED-ION BEAM AND SCANNING ELECTRON MICROSCOPE, AND METHOD FOR IMAGE FORMING AND PROCESSING例文帳に追加

集束イオンビームと走査型電子顕微鏡との同軸鏡筒を備えた装置並びに像形成及び処理方法 - 特許庁

FIB equipment cuts copper wiring 19 formed on a semiconductor substrate 18 by the processing of a focused ion beam.例文帳に追加

ＦＩＢ装置は、半導体基板１８に形成されている銅配線１９を集束イオンビームの加工により切断する。 - 特許庁

Prior to the removal of the next layer, focused ion beam sputtering with oxygen-containing gas smoothes the base of a trench.例文帳に追加

次の層を取り除く前に、酸素含有ガスと共に集束イオンビームスパッタリングを用いて、トレンチ底面を平滑にする。 - 特許庁

SAMPLE CUTTING METHOD BY FOCUSED ION BEAM, CROSS SECTION MONITORING METHOD, SAMPLE FIXING STRUCTURE, AND FIXING METHOD例文帳に追加

集束イオンビームによる試料切断方法および断面観察方法ならびに試料の固定構造および固定方法 - 特許庁

The element 3' is not irradiated by any kind of focused ion beam and accordingly never damaged.例文帳に追加

そして、磁気抵抗効果素子３’は、いかなる集束イオンビームもに照射されていないので、何の損傷も受けていない。 - 特許庁

To provide a method of expeditiously using a focused-beam apparatus to extract a sample for analysis from a workpiece.例文帳に追加

工作物から分析用の試料を抽出するために集束ビーム装置を迅速に使用する方法を提供する。 - 特許庁

A counter circuit 21 detects the rotational position of the laser beam focused optical disk DK in cooperation with an encoder 11a.例文帳に追加

カウント回路２１は、エンコーダ１１ａと協働して、レーザ光が合焦している光ディスクＤＫの回転位置を検出する。 - 特許庁

The focused ion beam equipment has been widely accepted as a powerful tool in the observation of cross sections of semiconductor devices. 例文帳に追加

集束イオンビーム装置は、半導体デバイスの断面の観察における強力なツールとして広く受け入れられてきた。 - 科学技術論文動詞集

A beam such as a focused ion beam is used to form a groove around the sample by slitting two or more times so as to overlap, and subsequently, the lower side of the sample, is cut to separate the sample.例文帳に追加

集束イオンビームのようなビームを使って複数回の重なり合う切り込みを入れて試料のまわりに溝を作り、次いで当該試料の下を切って切り離す。 - 特許庁

In this method, a detection part is processed and formed on a thermal link having a membrane structure, and then the membrane is processed directly without a mask by using a focused ion beam, an electron beam, a laser or the like.例文帳に追加

メンブレン構造を持つ熱リンクの上に、検出部を加工、形成した後、集束イオンビーム、電子線、レーザーなどを用いて、メンブレンをマスクなしで直接加工する。 - 特許庁

The transmitted beam is converged preferably using a cylindrical lens 36 to be tightly focused one-dimensionally, and a beam 34 unfocused two-dimensionally is provided thereby.例文帳に追加

送られるビームを好ましくは円筒形レンズ３６を用いて集束することにより、１次元で密に集束され２次元では集束されないビーム３４を提供する。 - 特許庁

To form a narrower slit than a conventional one by a focused ion beam process (FIB) and to suppress change of quality at a beam irradiation part, without using a mask pattern or the like.例文帳に追加

マスクパターン等を用いることなく、集束イオンビーム（ＦＩＢ）加工で従来よりも幅が狭い間隙を形成するとともに、ビーム照射部位の改質を抑制する。 - 特許庁

The extracted residue is removed by physical removal by an AFM probe, electron beam gas assist etching, or focused ion beam gas assist etching to make the mold reusable.例文帳に追加

抽出された残渣をAFM探針による物理的な除去または電子ビームガスアシストエッチングまたは集束イオンビームガスアシストエッチングで除去してモールドを再利用可能にする。 - 特許庁

The laser beam is focused by minutely adjusting the position of the laser head 22 in the Z direction based on the acquired information about positions irradiated with a laser beam in the Z direction.例文帳に追加

その得られたＺ方向におけるレーザ照射位置情報に基づき、レーザヘッド２２のＺ方向における位置を微調整することにより、レーザの焦点合わせをする。 - 特許庁

A focused laser beam is scanned on the top surface of a sample to provide a controlled processing effect limited to a range along a beam diameter and a scanning path.例文帳に追加

ビーム直径及び走査経路に沿った範囲に限定された制御された処理効果を提供するようにサンプル表面上での集束レーザー・ビームの走査が行なわれる。 - 特許庁

Those beams 20 and 23 are transmitted to the focused space to be focalized, then integral intensity throughout almost every frequency component composing the beam 20 is detected from any component, other than the beam 23 among all lights in a prograde or retrograde manner, emitted from the focused space.例文帳に追加

それらのビーム２０，２３を合焦空間に送って合焦させ、そこから順行又は遡行出射される光のうちビーム２３を除く成分から、ビーム２０を組成するほぼ全ての周波数成分に亘る積分強度を検知する。 - 特許庁

To provide a laser scanning type microscope capable of moving only the focused position of an observation laser beam while keeping a state where an operation laser beam is focused on the same position on a sample, and a microscopic observation method.例文帳に追加

標本内の同じ位置に操作用レーザ光を合焦させた状態を維持しながら観察用レーザ光の合焦位置のみを移動させることのできるレーザ走査型顕微鏡および顕微鏡観察方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In the focused ion beam system, a high dc voltage of a biasing power supply 930 connects to an oscillatory waveform from a plasma igniter 950 near a focused ion beam column and applies to a source biasing electrode 906 comprising a part of a plasma chamber 954.例文帳に追加

バイアス電源９３０からの高ｄｃ電圧は、集束イオンビームカラムの近くでプラズマ点火装置９５０からの振動波形が結合（重畳）されて、プラズマ室９５４の一部を構成する源バイアス電極９０６に印加される。 - 特許庁

In view of using the carbon nanotube 10 (CNT) as an electrode, a pair of electrodes are formed by irradiating, as a second step, the desired region of the placed carbon nanotube 10 with a focused ion beam 20 (FIB), and cutting the region irradiated with the focused ion beam 20.例文帳に追加

カーボンナノチューブ１０（ＣＮＴ）を電極として利用するために、第２ステップとして載置されたカーボンナノチューブ１０の任意の部位に集束イオンビーム２０（ＦＩＢ）を照射し、集束イオンビーム２０を当てた部位を切断して電極対を作製する。 - 特許庁

In the electron beam irradiation equipment 1, an electron beam EB emitted from an electron gun 10 is focused by a focusing coil 6_2, when it passes an electron beam passage hole 2 and is applied to an electron beam permeable unit 20 with electron beam permeable members 21 lined up in the Y-axis direction.例文帳に追加

電子線照射装置１では、電子銃１０から出射された電子線ＥＢは、電子線通過孔２を通過する際に集束コイル６_２によって集束されて、Ｙ軸方向に並んだ複数の電子線透過部材２１を有する電子線透過ユニット２０に照射される。 - 特許庁

An electron microscope has: an electron beam lens-barrel 1 in order to irradiate an electron beam 1a to a sample 11; a sample stage 3 to support the sample 11; a scattered electron detector 6 in order to detect backscattered electrons discharged from the sample 11; and a focused ion beam lens-barrel 2 in order to irradiate the sample 11 with a focused ion beam 2b.例文帳に追加

試料１１に電子ビーム１ａを照射するための電子ビーム鏡筒１と、試料１１を支持する試料台３と、試料１１から放出される後方散乱電子を検出するための散乱電子検出器６と、試料１１に集束イオンビーム２ｂを照射するための集束イオンビーム鏡筒２とを有する電子顕微鏡を提供する。 - 特許庁

A linearly polarized laser beam of the 1st polarization is focused on this target surface in the direction of incidence at a right angle.例文帳に追加

第一の偏光の直線偏光レーザ光線は直角に入射する方向でこの目標とする表面に集光される。 - 特許庁

Then, the thin film of PLLA on the substrate is irradiated with focused ion beam by using an FIB apparatus (FIB processing: S3).例文帳に追加

次に、ＦＩＢ装置を用いて、基板上のＰＬＬＡ薄膜に対して、集束されたイオンビームを照射する（ＦＩＢ加工：Ｓ３）。 - 特許庁

The thin-film processing and cross section exposing processing by the focused ion beam are automated and yields can be improved.例文帳に追加

本発明によれば、集束イオンビームによる薄膜加工や、断面出し加工を自動化し、歩留りを向上させることができる。 - 特許庁

The laser beam reflected by the reflective surface 101 is converged by the emission surface 102, and is focused on a disk.例文帳に追加

反射面１０１によって反射されたレーザ光は、さらに、出射面１０２によって収束され、ディスク上に集光される。 - 特許庁

For milling a lamella to its final thickness of, for example, 30 nm, a focused ion beam 100 is scanned repeatedly along the lamella.例文帳に追加

薄片を最終的な厚さ-たとえば30nm-にまでミリングするため、集束イオンビーム100は前記薄片に沿って繰り返し走査される。 - 特許庁

To provide a focused ion beam processing method and the device by which a sectional structure can be easily observed even when each layer constituting a layered structure is extremely thin.例文帳に追加

積層構造を構成する各層が極めて薄いとき、その断面構造を観察することが困難になっている。 - 特許庁

COMMON SAMPLE HOLDER FOR SCANNING ELECTRON MICROSCOPE AND FOCUSED-ION BEAM DEVICE, AND SAMPLE-PREPARATION METHOD FOR TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPE例文帳に追加

走査型電子顕微鏡と集束イオンビーム装置との共用試料ホルダー及び透過型電子顕微鏡用の試料作製方法 - 特許庁

SAMPLE STAGE FOR FOCUSED ION BEAM PROCESSING DEVICE, AND METHOD FOR MAKING TRANSMISSION TYPE ELECTRON MICROSCOPE PLANE-OBSERVED SEMICONDUCTOR THIN SAMPLE例文帳に追加

集束イオンビーム加工装置の試料ステージと透過型電子顕微鏡平面観察用半導体薄片試料の作製方法 - 特許庁

After this preheating, the lens 22 moves to the position B, the acrylic plate 30 is cut with the laser beam focused at the irradiation position E.例文帳に追加

この予熱後、レンズ２２は位置Ｂへ移動し、レーザビームの焦点を照射位置Ｅに合わせてアクリル板３０を切除する。 - 特許庁

The sample piece 15 is molded by clipping the original sample 5 at a desired position by using a focused ion beam irradiation optics 2.例文帳に追加

集束イオンビーム照射光学系2により元試料5の所望位置において試料片15の切り出しの成形を行なう。 - 特許庁

To prevent fluctuation of heating energy caused by displacement of focus position of a laser beam due to displacement of a material when applying heat stress to a highly brittle non-metal material by focused beam irradiation of the laser beam so as to form a scribe.例文帳に追加

レーザ光の集光照射によって高脆性非金属材料に熱応力を付与してスクライブを形成する際に、材料が変位してレーザ光フォーカスのズレによる加熱エネルギーの変動を防止する。 - 特許庁

To form a fine beam spot on a face to be scanned by adjusting the focused position of a light beam in an optical scanner in which the light beam is scanned on the face to be scanned in a main scanning direction with a deflecting mirror face.例文帳に追加

偏向ミラー面によって主走査方向に光ビームを被走査面上に走査させる光走査装置において、光ビームの焦点位置を調整して高精細なビームスポットを被走査面上に形成する。 - 特許庁

2-LENS OPTICAL SYSTEM SCANNING TYPE ABERRATION CORRECTED FOCUSED ION BEAM DEVICE, 3-LENS OPTICAL SYSTEM SCANNING TYPE ABERRATION CORRECTED FOCUSED ION BEAM DEVICE, AND 2-LENS OPTICAL SYSTEM PROJECTION TYPE ABERRATION CORRECTED ION LITHOGRAPHY DEVICE AS WELL AS 3-LENS OPTICAL SYSTEM PROJECTION TYPE ABERRATION CORRECTED ION LITHOGRAPHY DEVICE例文帳に追加

２レンズ光学系走査型収差補正集束イオンビーム装置及び３レンズ光学系走査型収差補正集束イオンビーム装置及び２レンズ光学系投影型収差補正イオン・リソグラフィー装置並びに３レンズ光学系投影型収差補正イオン・リソグラフィー装置 - 特許庁

When the laser beam 32a passing the main point 31 of the lens unit 14 is focused at the point A, the laser beams 32b and 32c outside of the laser beam 32a are focused at point B located farther than A and point C located nearer than A, respectively.例文帳に追加

合焦レンズユニット１４の主点３１を通過するレーザー光３２ａをＡ点に合焦させると、レーザー光３２ａの外側のレーザー光３２ｂと３２ｃは、それぞれＡ点より遠い距離にあるＢ点とＡ点より近い距離にあるＣ点とに合焦される。 - 特許庁

In this method, beam path values of echoes indicative of flaws are measured, while scanning an ultrasonic probe 10 for transmitting / receiving focused beams, and a flaw image is composited from the beam path values, measured at a large number of points.例文帳に追加

集束ビームを送受信する超音波プローブ１０を走査しながら、欠陥エコーのビーム路程を計測し、多数の点で計測したビーム路程から欠陥像を合成する。 - 特許庁

Laser beams output from a laser beam source 11 are reflected by a beam splitter 12, condensed by a condensing lens 13, and focused and projected on a machining surface of a workpiece 2.例文帳に追加

レーザ光源１１から出力されたレーザ光は、ビームスプリッタ１２により反射され、集光レンズ１３により収斂されて、加工対象物２の加工面に集光照射される。 - 特許庁

To provide a focused ion beam device capable of performing ion irradiation by removing neutral particles.例文帳に追加

本発明は集束イオンビーム装置に関し、中性粒子を除去してイオン照射が可能なようにした集束イオンビーム装置に関する。 - 特許庁

A light beam is so focused as to pass through the pupil of one eye and form an image on the retina without any mediating screen.例文帳に追加

光ビームは片眼の瞳を通過して、仲介スクリーン無しに、その網膜上に画像を形成するようにピントが合わされている。 - 特許庁