「focused beam」に関連した英語例文の一覧と使い方(11ページ目) - Weblio英語例文検索

The light beam can be distinguished, focused (52) and emitted toward one direction, to obtain the sufficient illumination light amount even by using an energy-saver light emission device low emitting light, and also to downsize a distance sensor illuminating spot light, thereby contributing to downsize the imaging apparatus.例文帳に追加

乱反射する発光素子（５２）の光線を選別し、収束し、一方向に出射することができ、省電力で発光量の少ない発光素子を用いても、十分な照射光量を得ることができ、スポット光を照射する距離センサーも小型化でき、撮像装置の小型化に寄与する。 - 特許庁

Then, the sample is processed from a direction intersected with the cross section to be exposed to the surface by processing, by using the focused ion beam (S102), and it is determined whether the hole part appears on the surface being processed of the sample (S103); and when the hole part appears on the surface being processed, processing is stopped (S104).例文帳に追加

そして、集束イオンビームを用いて、加工によって表面に露出させる予定の上記断面と交わる方向から試料を加工し（Ｓ１０２）、試料の加工中の面に穴部が現れたかどうかを判定し（Ｓ１０３）、加工中の面に穴部が現れたときに加工を止める（Ｓ１０４）。 - 特許庁

In the fine region analyzer using focused ion beams, a laser beam 9a is irradiated to a surface 3a of a sample 3 through a window plate 8 of the analyzer 5 arranged in the normal of the sample surface and through a secondary particle take-in port 5a of the analyzer 5.例文帳に追加

集束イオンビームを用いる微細部位解析装置において、試料表面法線方向に配置した分析装置５の窓板８を通り、かつ分析装置５の２次粒子取り込み口５ａを通ってレーザー光９ａを試料３の表面３ａに照射する。 - 特許庁

To provide a sample stage for a focused ion beam processing device, using an easy method for inexpensively making a plane-observed semiconductor thin sample, and to provide a method using the same for making the transmission type electron microscope plane-observed semiconductor thin sample.例文帳に追加

簡易な方法で安価に平面観察用半導体薄片試料を作製することを可能にする集束イオンビーム加工装置の試料ステージおよびこの試料ステージを用いた透過型電子顕微鏡平面観察用半導体薄片試料の作製方法の提供。 - 特許庁

Yield of a secondary Ga ion emitted from the sample 4 is measured by pre-radiating the fixed amount of Ga focused ion beam 3 to the sample 4 at every appropriate surface temperature of the sample 4 in advance to obtain a relation of the yield of the secondary Ga ion with the surface temperature of the sample 4.例文帳に追加

予め適当な試料４の表面温度毎にGa集束イオンビーム３を一定量試料４に前照射することにより試料４から放出された２次Gaイオンの収量を測定して、試料４の表面温度に対する２次Gaイオンの収量の関係を得る。 - 特許庁

A controller 25 of the motor 21 controls the revolution of the disk 6 at different linear speeds to change the floating amount of the flying slider 2 so that the light beam 1 is correctly focused on each of the recording layers 7 and 8 of the optical disk 6.例文帳に追加

モータ２１を制御するコントローラ２５を、光ディスク６の相異なる記録層７、８に対し光ビーム１の焦点位置をそれぞれ合わせるため、光ディスク６を互いに異なるディスク線速により回転駆動して浮上スライダー２の浮上量を調節するように設ける。 - 特許庁

An electron beam 1 is introduced from a filament 10 into a pipe 26 of an anode 19 by applying a high voltage, and is converged by an electron lens 8, and micro-focused on a target metal 2 formed in a film shape on an X-ray transmitting window 5 manufactured in a thickness of 0.2 mm or lower in an Al equivalent weight.例文帳に追加

フィラメント１０からの電子ビーム１を、高電圧を印可してアノード１９のパイプ２６中に導入し、電子レンズ８で収束して、厚みがＡｌ当量０．２ｍｍ以下に製作されたＸ線透過窓５上に成膜されたターゲット金属２にマイクロフォーカスさせる。 - 特許庁

The light beam (30) emitted from the facet of a first selected optical fiber (22a) is refracted by one of the lenses (24a), reflected by the mirror (28), returns to the lens array (24), is refracted by another lens, and focused on the facet of a selected second optical fiber (22b).例文帳に追加

選択された第１の光ファイバ（２２ａ）の切子面から発した光ビーム（３０）は、レンズ（２４ａ）の一つにより屈折され、ミラー（２８）により反射されてレンズ列（２４）へ戻り、他の一つのレンズにより屈折され、選択された第２の光ファイバ（２２ｂ）の切子面に合焦される。 - 特許庁

An optical element in the rear projection type image device is provided with: a coupling lens 23; a cylindrical lens 24; a photodetector 25; a beam splitter 27 having a reflection surface 26; a signal operation processing part 28; and an optical element driving part 29, whereby laser beams are focused on the screen 5.例文帳に追加

背面投影型映像装置における光学素子は、カップリングレンズ２３と、シリンドリカルレンズ２４と、フォトディテクタ２５と、反射面２６を有するビームスプリッタ２７と、信号演算処理部２８と、光学素子駆動部２９とを備えてスクリーン５上にレーザ光線の焦点を合わせるようにする。 - 特許庁

To provide an observation method of an FIB-processed sample by an electron microscope, which enables the identification of a processed part of the sample that is processed into a thin film for a short time by FIB (focused ion beam) and enables the reduction of the time duration from setting of the processed sample to observation of the processed position.例文帳に追加

短時間にＦＩＢで薄膜状に加工された試料の加工部分を見出し、電子顕微鏡への加工済み試料のセットから加工位置の観察までの時間を短縮することができるＦＩＢによる加工試料の電子顕微鏡による観察方法を実現する。 - 特許庁

An electron beam E generated and accelerated by an electron gun 1 connected to a high voltage power source is focused by a focusing lens 3 formed of condenser lenses, tilted by two stages of deflection coils of a deflection part 4, and applied to a sample 5a on a sample setting table in a sample room 5.例文帳に追加

高電圧電源に接続した電子銃１から発生し加速された電子線Ｅは、コンデンサレンズからなる収束レンズ３で収束されてから、偏向部４の２段の偏向コイルにより傾斜されて試料室５内の試料載置台上の試料５に照射される。 - 特許庁

Out of the diffracted light occurring when the illumination light irradiating the standard grating 1 is reflected by the grating plane 11, diffracted light having relatively high intensity such as of zero-order and ±one-order enters the imaging system 3 as a collimated beam and is focused onto a predetermined position in the imaging system 3.例文帳に追加

基準格子１に照明光が照射された際に格子面１１で反射されて生じる回折光のうち、０次や±１次等の比較的強度の大きい回折光が平行光束として結像系３内に入射し、結像系３内の所定の位置に集光する。 - 特許庁

The four-pole lens electric field 44 and the main lens electric field 45 are so set that the electron beam 41 suitably focused in the horizontal direction throughout the phosphor screen 4 even if divergence is applied in the horizontal direction by the four-pole lens magnetic field 46 during deflection.例文帳に追加

また、偏向時に４極レンズ磁界４６により水平方向で発散作用が加わっても蛍光面４の全面において、電子ビーム４１が水平方向についてほぼ適正フォーカスとなるように４極レンズ電界４４およびメインレンズ電界４５を設定する。 - 特許庁

To materialize cross-section processing causing no rotational slippage in a lateral direction or a longitudinal direction so that patterns regularly arranged in an element are neatly exposed all together, when processing the cross section of a semiconductor wafer by using a focused ion beam.例文帳に追加

本発明が解決しようとする課題は、集束イオンビームを用いて半導体ウエハの断面を加工する際に、素子内に規則的に配列されたパターンが綺麗に揃って露出するように横方向にも縦方向にも回転ズレのない断面加工を実現させることにある。 - 特許庁

A signal recording or reproducing device for a disk is such that a pickup 1 having an objective lens 4 for emitting a beam to be focused on the disk is arranged so as to allow the pickup 1 to approach to or recede from a turntable 60 on the chassis 6, and that the pickup 1 is guided in moving by a guide axis 7 extending in the radial direction of the disk.例文帳に追加

ディスクへの信号記録又は再生装置は、ディスク上に合焦するビームを発する対物レンズ4を具えたピックアップ1を、シャーシ6上のターンテーブル60に接近離間可能に配備し、ピックアップ1はディスク半径方向に延びたガイド軸7に移動を案内される。 - 特許庁

A vertical movement of an objective lens 3 is detected, thereby detecting a change in an optical path length through an oblique incidence of a focus beam on the objective lens; then, the objective lens is driven for compensating this change, in other words, by the quantity necessary for maintaining the focused state.例文帳に追加

対物レンズ３の上下動を検出することで、フォーカス光２が対物レンズに斜めに入射されることにより光路長の変化を検出し、この変化分を補正するように、すなわち、フォーカス状態を維持するのに必要な分だけ対物レンズを駆動する構成とする。 - 特許庁

To provide a method for generating X-rays or EUV radiation via laser plasma emission, in which at least one target (17) is generated in a chamber, and at least one pulsed laser beam (3) is focused on the target (17) in the chamber.例文帳に追加

レーザプラズマ放射によりＸ線放射線または極紫外線放射線を発生するための方法であって、少なくとも１つのターゲット（１７）をチャンバ内で発生させるとともに、少なくとも１つのパルスレーザビーム（３）をチャンバ内でターゲット（１７）に集光させる方法を提供する。 - 特許庁

The vacuum container 3 is equipped with: a laser light introduction part 31 for introducing the high-intensity laser light; a condensing mirror 11 for condensing the high-intensity laser light; a target 12 with which the laser light focused by the condensing mirror 11 collides; a debris shield 13 provided on an orbit of the proton beam diverging from the target 12; and a take-out window 33 for taking out the laser driving proton beam 17 into the atmosphere.例文帳に追加

真空容器３は、高強度レーザー光を導入するレーザー光導入部３１と、高強度レーザー光を集光する集光ミラー１１と、集光ミラー１１によって収束されるレーザー光が衝突するターゲット１２と、ターゲット１２から発散する陽子線の軌道上に設けられたデブリシールド１３と、レーザー駆動陽子線１７を大気中に取り出すための取り出し窓３３と、を具備する。 - 特許庁

When recording is performed to the optical disk 1, information is recorded using a recording pulse, where due to the focused light beam, the temperature in the recording layer is lowered more rapidly at a second information recording layer 23 closer to the side, where light is made incident than at a first information recording layer 21 farthest from the side where light is made incident.例文帳に追加

光ディスク１への記録時には、光の入射側から最も遠い第１の情報記録層２１よりも、光の入射側に近い第２の情報記録層２３の方が、光ビームの集光による記録層の温度変化が時間的により急冷になるような記録パルスを用いて情報を記録する。 - 特許庁

The polymer film is impregnated with a photopolymerizable composition comprising an oxidation polymerizable monomer of a conductive polymer, an oxidizing agent and a photosensitive molecule and a three-dimensional area inside the polymer film in the film thickness direction defined as the Z-direction is irradiated with a focused laser beam by a femtosecond laser.例文帳に追加

高分子膜に導電性高分子の酸化重合性モノマーと、酸化剤と、光増感分子とを含む光重合性組成物を含浸したのち、上記高分子膜の内部であって膜厚方向をＺ方向として定義する３次元的な領域にフェムト秒レーザーによってレーザー光を集光照射する。 - 特許庁

In the pore machining method of the diamond, an oxide film 2 is formed on the diamond base material 1, and a part of the diamond base material is exposed by forming the pore 5 by irradiating a focused ion beam 3 on the oxide film 2, and the etching by plasma is performed on the exposed diamond base material 1.例文帳に追加

ダイヤモンド基材１に酸化物被膜２を形成し、該酸化物被膜２に集束イオンビーム３の照射を行って孔５を形成して該ダイヤモンド基材１の一部を露出させ、露出させた該ダイヤモンド基材１にプラズマによるエッチングを行うことを特徴とする、ダイヤモンドの細孔加工方法である。 - 特許庁

Thus, the light beam emitted from the first LD 2001 is made diagonally incident to the polygon mirror 2007, as in an LD1 optical path 2005, vertically passes through the fθ lens 2003 for the first LD, advances with appropriate position and angle, by means of a reflecting mirror 2009, and is focused to scan a face to be scanned.例文帳に追加

このため、第１ＬＤ２００１から放射された光ビームは、ＬＤ１光路２００５の軌道のように、ポリゴンミラー２００７に斜入射し、第１ＬＤ用ｆθレンズ２００３内を垂直に通過した後、反射ミラー２００９によって適切な位置と角度で進み、被走査面上にて結像され走査を行う。 - 特許庁

In a process in which a sample piece extracted from a film made up of an aggregate of micro-particulates is to be subjected to micro-machining of two sections of the piece by utilizing a focused ion beam to thin the film, a thin film made up of a uniform material is formed to cover micro-machined end faces after each section is micro-machined.例文帳に追加

微細粒子の凝集体からなる膜から抽出した試料片に対し、その二つの断面に集束イオンビームを利用する微細加工を施し、薄片化を行う工程中、各断面に微細加工を施した後、微細加工端面を被覆する、均質な材料からなる薄膜をそれぞれ形成する。 - 特許庁

The level of a driving signal of a focus actuator is measured when an optical beam is focused on the signal recording surface of an optical disk 1 by a focus drive value detecting means 14, the level is stored in a servo drive value storing means 16 as data intrinsic to the kind of the optical disk, and a threshold value for discriminating a disk based thereon.例文帳に追加

フォーカス駆動値検出手段14で光ディスク１の信号記録面に光ビームの焦点が合っているときのフォーカスアクチュエータの駆動信号のレベルを測定し、これを光ディスクの種類に固有のデータとしてサーボ駆動値記憶手段16に記憶させ、これを基にディスク判別用のしきい値を設定する。 - 特許庁

A galvanometer mirror 1 is used in this device, the incident radiations of various directions are reflected to be successively directed to a fixed double slit 4 by changing an angle of the mirror 1, and the beam of light is focused, and spectrally dispersed by a fixed diffraction lattice 2, and entered into a photodetector array 3 to collect the spectral characteristic at a high speed.例文帳に追加

ガルバノミラー（１）を用い、該ミラー（１）の角度を変えることで、違う方向からの入射光（６）を反射し固定した二重スリット（４）に順次向け、光束を絞り、同じく固定した回折格子（２）で分光し、光検知器列（３）に入射させる分光特性を高速に収集する装置。 - 特許庁

To hold an observation desired portion stably on a sample holder, when extracting surely the observation desired portion from a large sample substrate and performing finishing process for preparing a thin-film sample, in a method for preparing the thin-film sample for performing observation by a transmission electron microscope by using a focused ion beam.例文帳に追加

集束イオンビームを用いて透過型電子顕微鏡で観察をおこなうための薄膜試料を作製する方法において、大きな試料基板から観察所望部位を確実に抽出し、薄膜試料作製のための仕上げ加工を行なう際に、観察所望部位を試料ホルダに安定して保持することができるようにする。 - 特許庁

A charged particle beam device has an irradiation system, having an objective lens for focusing charged particle beams and irradiating a sample with the focused beams; a deflection scanning system for deflection-scanning the charged particle beams; and a scanning image forming system for detecting signals generated from the sample by the irradiation of the charged particle beams and then forming a scanning image.例文帳に追加

荷電粒子線装置は、荷電粒子線を集束させて試料に照射する対物レンズを有する照射系と、荷電粒子線を偏向走査する偏向走査系と、荷電粒子線の照射により試料から発生する信号を検出して走査像を生成する走査像生成系と、を有する。 - 特許庁

The ultrasonic tomogram in a short-distance area A is obtained by driving the piezo-electric body element 31a at the center in the direction of rotation and a high-frequency area 31C at the center in the direction C of the insertion axis, transmitting an ultrasonic beam focused on a proximal point into a subject, and receiving the echo component of the fundamental wave.例文帳に追加

近距離領域Ａの超音波断層像は、回転方向中央の圧電体エレメント３１ａと挿入軸方向Ｃの中央部分の高周波数領域３１Ｃとを駆動させて、近点に焦点位置を合わせた超音波ビームを被検体内に送信し、その基本波エコー成分を受信することで得る。 - 特許庁

To provide an integrated optical unit which generates a signal having high track servo stability by preventing noise light from entering a light receiving element for TES, the noise light being generated at an information recording layer of a recording medium having at least two information recording layers other than beam-focused information recording layers thereof.例文帳に追加

少なくとも２層の情報記録層を有する光記録媒体の集光している情報記録層以外の情報記録層で発生するノイズ光が、ＴＥＳ用受光素子に入射しないようにして、トラックサーボ安定性が高い信号を生成することのできる光集積ユニットを提供する。 - 特許庁

A normal conductor layer 12 and an insulator layer 13 are laminated between a first superconductor layer 11 and a second superconductor layer 14, and a region (a local conducting region 19) having no locally insulating property by an irradiation of a focused ion beam to a side of the insulator layer 13.例文帳に追加

第１超伝導体層１１と第２超伝導体層１４の間に常伝導体層１２及び絶縁体層１３を積層し、絶縁体層１３の側面に集束イオンビームを照射することにより局所的に絶縁性を持たない領域（局所伝導領域１９）を形成する。 - 特許庁

To extract a minute sample piece 3 of a semi-conductor wafer thin film processed by a focused ion beam 2, the distal end 9 of a supporting means provided on a transfer means 7 is brought into contact with the minute sample piece 3, and the sample connected to the end making use of the interatomicbonds caused by surface activation of the contact surface is extracted.例文帳に追加

集束イオンビーム２で薄膜加工した半導体ウェーハの微細試料片３を摘出するために、搬送手段７に設けられた保持手段先端部９を試料片３に接触させ、接触面の表面活性化による原子間結合を利用して両者を接合して、取り出す。 - 特許庁

The light from the light source is focused between the first mirror and an objective lens to be converted into a spot size irradiating the whole micro chamber, the spot size of the excitation light passed through the objective lens is formed widely to irradiate the whole microchamber of the microifine fluid chip with the excitation light, and the fluorescent beam is detected thereby in a wide area.例文帳に追加

そして光源の光が第１のミラーと対物レンズとの間でフォーカシングし、マイクロチャンバ全体を照射するスポットサイズに変換され、対物レンズを通過した励起光のスポットサイズを広く形成して微細流体チップのマイクロチャンバの全体に励起光を照射し、より広い面積で蛍光ビームを検出。 - 特許庁

Prior to defect correction of the isolated pattern 4, a conductive coil spring 3 is formed at a tip of a conductive probe 1 by a focused ion beam-induced chemical vapor-grown metal film, and the probe is conducted with the isolated pattern 4 while reducing the contact pressure with a mask pattern by the coil spring 3 to prevent the charge-up.例文帳に追加

導電性プローブ1の先端に集束イオンビーム誘起化学気相成長金属膜で導電性のコイルバネ3を形成し、コイルバネ3によりマスクパターンとの接触圧を緩和して孤立したパターン4との導通を取り、チャージアップが起こらないようにしてから集束イオンビーム7で欠陥修正を行う。 - 特許庁

In a measurement device 1, a moving stage 4 moves a condensing lens 3 so that a measurement light beam is focused on one surface 6a and the other surface 6b of the measurement object 6 inserted in a space to a reflector 5 receiving and reflecting a measurement light beam condensed by the condensing lens 3 and on the reflector 5 while the measurement object 6 inserted/not inserted between the condensing lens 3 and the reflector 5.例文帳に追加

測定装置１は、移動ステージ４が、集光レンズ３で集光された測定光を受光して反射する反射鏡５との間に挿入された測定対象物６の一方の面６ａ及び他方の面６ｂ、及び、集光レンズ３と反射鏡５との間に測定対象物６が挿入された状態及び挿入されていない状態で、反射鏡５に測定光の焦点が合うように集光レンズ３を移動させる。 - 特許庁

A repairing method comprises impregnating gallium ion into required depth of a specified position on a glass substrate which corresponds to the unprocessed parts of the dug grooves in the Levenson mask by using focused ion beam equipment, immersing the substrate in which the gallium ion has been impregnated, into an alkali solution, and partially dissolving and removing the part in which the gallium ion was impregnated.例文帳に追加

本発明の欠陥修正は、集束イオンビーム装置を用いてレベンソンマスクの掘り込み溝の掘り残し欠陥に相当するガラス基板の特定位置と必要深さにガリウムイオンを照射注入し、該ガリウムイオンを注入した基板をアルカリ溶液に浸してガリウムイオンが注入された部分を局部的に溶解除去させる手法を採用した。 - 特許庁

A deleting sequence of magnetic histories is executed in which a current to be impressed on an electromagnetic coil before obtaining an image is always set at a constant change volume against a target value, and information on an image or the like is obtained when a spot diameter of a primary electron beam focused on a sample gets smaller than a size which can be displayed with one pixel of an image obtained.例文帳に追加

画像を取得する前に電磁コイルに印加する電流を目標値に対して常に一定の変化量に設定した磁気履歴の除去シーケンスを実行し、試料上に収束される一次電子線のスポット径が取得する画像の１画素で表示できる寸法よりも小さくなるときに画像等の情報を取得する。 - 特許庁

To provide a method for preparation of thinned samples that can prevent, when thinned samples are prepared by micro-machining utilizing a focused ion beam for use in transmission electron microscopic observation of sections of a film made up of an aggregate of micro-particulates, micro-particulates exposed on micro-machined end faces from coming off and prevent exposure of thinned regions from being exposed to the atmosphere.例文帳に追加

集束イオンビームを利用する微細加工により、微細粒子の凝集体からなる膜の断面を、透過電子顕微鏡観察する目的の薄片化試料を作製する際、微細加工端面に露呈する微細粒子の剥落を防止でき、また、薄片化された部位の大気暴露を防止可能な、薄片化試料の作製方法を提供する。 - 特許庁

To solve such problems in a prove device for manipulating a focused ion beam machining device that a conventional needle shaped probe requires frequent changes causing an increasing cost problem with the wide use of the technology and also that with the demand of higher degree fine machining, a thin wire probe is demanded which has a long life and a shape depending on the purpose.例文帳に追加

集束イオンビーム加工装置用のマニピュレート用プローブ装置において、従来の針形状プローブでは交換頻度が高く、同技術が汎用化されるにつれコスト問題が増大し、また一方で、より高度な微細加工が要求されるようになり、寿命が長く、また目的に応じた形状の細線プローブが要求されている。 - 特許庁

A linearly polarized first coherent light beam emitted in a first direction from a light source 11 is output after phase modulated in a spatial light modulator 51 for every pixel and inputted to the imaging lens 61 through a relay lens system consisting of lenses 62, 63, then Fourier transformed in the imaging lens 61 and focused on the object 91.例文帳に追加

光源１１から出力される第１の方位の直線偏光のコヒーレントな第１の光は、空間光変調器５１において画素毎に位相変調されて出力され、レンズ６２およびレンズ６３からなるリレーレンズ系を経て結像レンズ６１に入力され、結像レンズ６１によりフーリエ変換されて対象物９１において結像される。 - 特許庁

After forming the lower pole 1 and the upper pole 2, focused ion beam etching is applied to trim them from the sliding surface to back the depth zero line except their tips 1A, 2A made to fit the recording track in width, to manufacture this head.例文帳に追加

また、下部磁極１及び上部磁極２を形成した後に、下部磁極１及び上部磁極２のうち所定の記録トラック幅となる部分１Ａ，２Ａを除いた部分に対して、収束イオンビームエッチングによりヘッド摺動面から磁気ギャップのデプスゼロラインよりも奥まで後退するようにトリミング処理する工程を行って、上記薄膜磁気ヘッド１０を製造する。 - 特許庁

The method for manufacturing a diamond electron source which includes a top end portion as a diamond electron discharging point includes a process A in which a top end shape of the sharp top portion is rectified to a spherical surface by using a focused ion beam processing unit and a process B in which a process-damaged layer formed by the process A is removed by plasma.例文帳に追加

本発明が提供するダイヤモンドの電子放射点として先鋭部を有するダイヤモンド電子源の製造方法は、該先鋭部の先端形状を集束イオンビーム加工装置を用いて球面形状に補正する工程Ａと、該工程Ａによって形成された加工変質層をプラズマによって除去する工程Ｂとを有することを特徴とする。 - 特許庁

This sample holder provided with a cartridge supporting body 51 arranged at the tip and constructed for allowing attachment/detachment of the sample supporting cartridge 51 to it is constructed of a holder main body 50 attached removably to a mirror body in an electronic microscope or a processing chamber in a focused ion beam device by means of a holder driving mechanism 52 and the holder driving mechanism 52.例文帳に追加

試料ホルダーは、先端部に、試料支持用カートリッジ５７が着脱可能に構成されたカートリッジ支持体５１を有し、ホルダー駆動機構５２によって、電子顕微鏡の鏡体及び集束イオンビーム装置の加工室に取り付けたり、該鏡体及び加工室から外したり出来るようになっているホルダー本体５０と、ホルダー駆動機構５２から成る。 - 特許庁

The focused light beam illuminates the surface area with width of 5-15 microns range, so this system can inspect 40 or more wafers of 150 mm diameter (6-inch wafer) per hour, 20 or more wafers of 200 mm diameter (8-inch wafer) per hour, and 10 or more wafers of 300 mm diameter (12-inch wafer) per hour.例文帳に追加

前記焦点合わせされた光ビームは幅が５〜１５ミクロンの範囲で前記表面領域を照明し、このシステムは、１５０ｍｍ直径のウェーハ（６インチウェーハ）を毎時４０ウェーハ以上、２００ｍｍ直径のウェーハ（８インチウェーハ）を毎時２０ウェーハ以上、３００ｍｍ直径のウェーハ（１２インチウェーハ）を毎時１０ウェーハ以上の検査が可能である。 - 特許庁

This film deposition method includes a process in which, by FIB assist deposition in which a material having an Si-O-Si bond and an Si-H bond is fed to the surface of a structure, and further, a desired part in the surface fed with the above material is irradiated with a focused ion beam, a silicon oxide film is deposited.例文帳に追加

本発明の成膜方法は、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合及びＳｉ−Ｈ結合を有する材料を構造体の表面に供給するとともに前記材料を供給された前記表面の所望の部分に集束イオンビームを照射するＦＩＢアシストデポジションによりシリコン酸化膜を形成する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a sample holder for focused ion beam machining observation device capable of holding a minute sample piece on a stage kept horizontal without fail, when it is extracted from the sample of FIB machining and processed into the sample for TEM, and capable of holding the stage in a direction without fail.例文帳に追加

FIB加工で試料から、微小な試料片を摘出し、TEM用試料に加工する際に、摘出した前記微小試料片を水平に保たれた前記試料台に確実に固定することが可能であり、前記試料台を一定の方向に確実に固定することが可能な集束イオンビーム加工観察装置用試料ホールダを提供する。 - 特許庁