「defect length」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

In the defect detecting apparatus 13a, the extraction of the candidate parts of the defect is performed on the basis of a signal level or the like and informations such as the signal level of defect indicating part, the position of the indicated part and the indicated length of the defect are transmitted to a defect selecting apparatus 15a.例文帳に追加

欠陥検出装置１３ａでは、信号レベルなどに基づき、欠陥候補部の抽出を行い、欠陥選択装置１５ａに対し、欠陥指示部信号レベル、指示部位置、欠陥指示長さなどの情報を伝送する。 - 特許庁

To provide the length measurement device of a long-length material capable of accurately measuring the carrying amount of the long-length material, detecting the measurement error of a length measurement disk and preventing the perforating position defect of the long-length material or the like.例文帳に追加

長尺材の搬送量を正確に測定するとともに、測長ディスクの測定誤差を検出し得るようにし、長尺材の穿孔位置不良などを未然に防止することができる長尺材の測長装置を提供する。 - 特許庁

As the defect echo length, 22 mm can be obtained from a reference value 25% of the defect echo height determined beforehand by a test piece or the like.例文帳に追加

予めテストピースなどによって定める欠陥エコー高さの基準値２５％から、欠陥エコー長さとして２２ｍｍを得ることができる。 - 特許庁

A defect kind decision unit 47 compares the defect addresses stored in the defect address storage unit 46 to decide whether the length of the longitudinal line flaw depends upon the exposure time, and records the decision result in a defect information recording unit 48.例文帳に追加

欠陥種別判定部４７は、欠陥アドレス格納部４６に格納された欠陥アドレスを比較して、縦線キズの長さが露光時間に依存するか否かを判定し、判定結果を欠陥情報記録部４８に記録する。 - 特許庁

In the method of marking the defect of the optical film, the defect of the optical film is marked using an ink generating fluorescence by light having wave length outside of that of visible light.例文帳に追加

光学フィルムの欠陥に対して、可視光外の波長の光にて蛍光するインクを用いてマーキングする光学フィルムの欠陥のマーキング方法。 - 特許庁

In the optical disk having an image forming layer on which a visible image can be drawn by irradiation of laser light, a ratio (B/A) of the maximum length (B) of a maximum bright defect to the maximum length (A) of a maximum dark defect is <1.例文帳に追加

レーザ光の照射により可視画像の描画が可能な画像記録層を有する光ディスクであって、最大暗欠陥の最大長（Ａ）と最大明欠陥の最大長（Ｂ）との比（Ｂ／Ａ）が１未満である光ディスクである。 - 特許庁

To provide a method for inspecting a mask defect with which a defect is inspected with high accuracy and within a minimum time length by automatically inspecting a minimum region on the mask to be subjected to EB defect inspection, a device for inspecting the mask defect, and a method for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

ＥＢ欠陥検査をしなければならないマスク上の最小限の領域を自動的に検査することを可能にし、高精度の欠陥検査を最小時間で行うマスク欠陥検査方法、マスク欠陥検査装置、および半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A control mechanism 103 performs signal processing relative to the intensity of a reflected wave signal obtained from defect DE-V, defect DE-H or the like, when scanning at an optional angle with the ultrasonic wave, to thereby detect a defect and measure a length.例文帳に追加

制御機構１０３は、超音波を任意の角度で走査したとき、欠陥ＤＥ—Ｖおよび欠陥ＤＥ—Ｈ等から得られる反射波信号の強度を、信号処理を行うことで欠陥の検出および長さ測定を行う。 - 特許庁

To realize the defect inactivating method of a polycrystalline silicon substrate having a high diffusion length improving effect in hydrogen irradiation.例文帳に追加

水素照射における拡散長改善効果の高い、多結晶シリコン基板の欠陥不活性化方法を実現する。 - 特許庁

To continuously cast a high quality cast slab without developing the surface defect and the interval defect by varying a cooling length in a secondary cooling zone according to the casting velocity and the casting temperature.例文帳に追加

鋳造速度や鋳造温度に応じて２次冷却帯における冷却ゾーン長を可変することで、表面欠陥や内部欠陥の無い高品質の鋳片を連続鋳造する。 - 特許庁

To provide a yarn quality measuring instrument capable of evaluating the correct yarn defect length and detecting any irregular period, and a yarn winder.例文帳に追加

正確な糸欠点長さ評価及び周期ムラの検出が可能な糸品質測定器及び糸巻取機を提供する。 - 特許庁

The length of monomer may be controlled using a defect formed on the film as an end point of the chain.例文帳に追加

更に、前記薄膜上に形成した欠陥を前記重合分子鎖の終点として前記モノマーの長さを制御してもよい。 - 特許庁

On the basis of a traveling distance from a defect detection position to a working position of a long belt-like sheet and a length L of a product in a conveyance direction, which product and what position of a detected defect therein are predicted.例文帳に追加

欠陥の検出位置から長尺帯状シートの加工位置までの走行距離と、搬送方向の製品の長さＬに基づき、検出された欠陥がどの製品のどこに位置するかを予想する。 - 特許庁

Further, the Cz silicon wafer contains void defects in its inside and has a characteristic that in an optional rectangle which circumscribes the void defect image formed by projecting a void defect to optional {110} face, the maximum ratio (L1/L2) of length (L1) of the long side to the length (L2) of the short side of the rectangle is at least 2.5.例文帳に追加

およびＣＺシリコンウエーハであって、その内部に空洞欠陥を含み、任意の{１１０}面に投影された該空洞欠陥像に外接する任意の長方形における、長い辺の長さＬ１と短い辺の長さＬ２との比（Ｌ１／Ｌ２）の最大値が２．５以上であるシリコンウエーハ。 - 特許庁

A part (6) to display a defect liability period by the quality assurance law by length of a bar and a part (7) to display the assurance period unique to a housing company by length of a bar are allocated by arranging them along a time base.例文帳に追加

品確法による瑕疵担保責任期間を棒の長さで表示した部分(６)と、住宅会社独自の保証期間を棒の長さで表示した部分(７)とを、時間軸に沿って並べて配置した。 - 特許庁

For detection of a crack as a defect in a running strip-shaped material 12, a signal from a sensor 22 is peak-held over a given length Lh, and is sampled at pitches Lp shorter than the peak hold length Lh.例文帳に追加

走行中の帯状材（１２）の欠陥である割れを検出する際に、センサ２２からの信号を所定の長さＬｈだけピークホールドし、該ピークホールドの長さＬｈより短いピッチＬｐでサンプリングする。 - 特許庁

The size of the internal defect is set to square root length of 0.4 mm or more, whereby the detection can be facilitated and the threshold level can be easily obtained.例文帳に追加

内部欠陥の大きさは、平方根長さ０．４ｍｍ以上とすることにより、検出を容易化すると共に閾値化も容易化する。 - 特許庁

To solve a problem of dependency caused by a pattern length and a bias position of a Mach-Zhender modulator by removing defect of existing duobinary optical transmitters.例文帳に追加

既存のデュオバイナリー光送信機の短所を除去し、パターン長さ及びマッハツェンダー変調器のバイアス位置による依存性問題を解決する。 - 特許庁

Disturbance defect of each memory cell is further restrained by reducing the width L in the channel length direction of an aluminum electrode 190.例文帳に追加

また、アルミ電極１９０のチャネル長方向の幅Ｌを小さくすることにより、各メモリセルのＤｉｓｔｕｒｂ不良をさらに抑制する。 - 特許庁

To provide a method for producing a polyvinyl alcohol film adapted to an increase in width and length and having excellent conveyance performance and no optical defect.例文帳に追加

幅広化や長尺化に対応した、搬送性能に優れ、さらに光学欠点のないポリビニルアルコール系フィルムの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a technique which can detect a defect in run-length data to be used for drawing of a figure before the execution of drawing, with a simple structure.例文帳に追加

簡易な構成で、図形の描画に供されるランレングスデータの欠陥を描画の実行前に検出することができる技術を提供する。 - 特許庁

A defect determining part 17c in a defect detecting part 17 divides a development image into a front area E1 and a rear area E2 on the basis of the length of the specimen, and the number of foreign bodies in the respective areas E1, E2 is detected.例文帳に追加

欠品検出部１７の不良判断部１７ｃは、展開画像を被検査物の長さに基づき前方エリアＥ１と後方エリアＥ２に２分割し、各エリアＥ１，Ｅ２での異物の個数を検出する。 - 特許庁

The device is also characterized by heightening defect discrimination accuracy by combining the frequency component information with the intensity/ratio/differential value of leakage flux signals having different magnetization conditions and the length/width/area or the like of the defect signals.例文帳に追加

また、周波数成分情報と、磁化条件の異なる漏洩磁束信号の強度・比・差分値、欠陥信号の長さ・幅・面積等とを組み合わせることで、欠陥の弁別精度を上げることができる。 - 特許庁

A threshold control circuit 138e detects the viterbi error caused by a defect from the length of data in which the detected viterbi errors are continuously generated.例文帳に追加

しきい値制御回路１３８ｅは検出されたビタビエラーが連続して発生しているデータの長さから欠陥に起因するビタビエラーを検出する。 - 特許庁

To provide a metal glass nanowire which has no defect sites, and has the whole length of ≥75 μm and a diameter of ≤1,000 nm, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

欠陥サイトの無い、全長７５μｍ以上で直径が１０００ｎｍ以下である金属ガラスナノワイヤおよびその製造方法の提供。 - 特許庁

To detect a defect smaller than a magnetic head size and a recorded bit length, and a defective point which is magnetically changeable as thermal fluctuation, etc., and causes medium noise.例文帳に追加

磁気ヘッドサイズや記録ビットサイズよりも小さな欠陥や熱揺らぎ等の磁気的に変動しやすく、媒体ノイズの原因となる欠陥箇所を検出する。 - 特許庁

To provide a sensor having a shortened full length and improved accuracy of an operation point by solving the problem wherein a conventional contact type position sensor having a plunger measuring shaft has a defect that the full length becomes long from the viewpoint of a structure.例文帳に追加

従来のプランジャ測定軸を有する接触式位置センサでは全長が構造上長くなる欠点があったが本願発明では全長を短く、かつ動作点の精度向上をはかったセンサを提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device for a plate-like transparent body and a method thereof capable of detecting a minute defect with a length of about 10 μm in a major axis which is present on a surface of the plate-like transparent body without microscope inspection.例文帳に追加

板状透明体の表面に存在している長径１０μｍ程度の微細傷を、顕微鏡精査を行うことなく検出することができる板状透明体の欠陥検査装置及びその方法を提供する。 - 特許庁

By dispersing a beam of laser induction plasma generated in welding, presence or absence of defect generation is discriminated based on an intensity ratio between the emission spectrum intensity of the specific element relating to welding defect generation and the emission spectrum intensity of the material to be welded having a wave length close to a wave length of the specific element.例文帳に追加

溶接時に発生するレーザ誘起プラズマの光を分光し、溶接欠陥の発生に関わる特定の元素の発光スペクトルの強度と、この元素の発光スペクトルの波長に近接する波長を持つ被溶接材の元素の発光スペクトルの強度との強度比に応じて欠陥発生の有無を判定する。 - 特許庁

A bearing washer is used in which roughness of a surface as an ultrasonically inspected surface is 0.4 μmRa or less, and every defect existing in an inspected volume X, total cross section of the bearing washer 1, is 0.2 mm or smaller in square root length of defect area.例文帳に追加

超音波被検査面となる面の表面粗さが０．４μｍＲａ以下であり、その軌道輪１の全断面全てである被検体積Ｘ内に存在する欠陥が、全て欠陥面積の平方根長さで０．２mm以下である軌道輪を使用する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a silicon single crystal ingot which method does not allow point defect clusters to occur in the drawing direction of the ingot and can draw the ingot comprising a perfect region substantially over its entire length and diameter.例文帳に追加

インゴットの引上げ方向に点欠陥の凝集体が発生せず、ほぼ全長及び全径にわたりパーフェクト領域となるシリコン単結晶インゴットを引上げる。 - 特許庁

To provide a servo pattern inspecting device for magnetic tape, which is suitable for inspection of a defect of a magnetized pattern, recorded on a magnetic tape 1, which is thin and long along the length of the magnetic tape 1.例文帳に追加

磁気テープ１に記録された磁化パターンのうち、磁気テープ１の長手方向の細長い欠陥を検査するのに適した磁気テープのサーボパターン検査装置を得る。 - 特許庁

To protect an inspection coil system from a heating action caused by inspected steel to improve detection sensitivity as to a location and a laying length of a defect portion contained in an inspected material.例文帳に追加

検査コイルシステムを被検査鋼による加熱作用から保護し、被検査材料に含まれている欠陥個所の場所および延在長さに関する検出感度を改善する。 - 特許庁

When it is the record to the prescribed position related to the last address, a defect control table, exclusive information for the system, and lead out are all shifted forward by the prescribed length.例文帳に追加

最終アドレスに関連した所定の位置への記録の場合であれば、欠陥管理テーブル、システム専用の情報およびリードアウトごと所定の長さだけ手前にずらす。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a silicon single crystal, by which the silicon single crystal, characterized in that the variation of the crystal defect distribution in the radial direction is small over the whole crystal length and the whole surface of a cut surface cut in the radial direction has one kind of crystal defect area, can be easily manufactured.例文帳に追加

結晶全長にわたって径方向の結晶欠陥分布の変化が小さく、径方向の切断面の全面が１種類の結晶欠陥領域であるシリコン単結晶を容易に製造できるシリコン単結晶製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a printed board inspection device constituted to make a defect appear clearly on a photographed image, as to the defect with a length direction thereof near to a moving direction of a printed board in the same direction, out of the defects such as flaws existing on a surface of the printed board.例文帳に追加

プリント基板の表面に存在する傷など欠陥のうち、その欠陥の長さ方向がプリント基板の移動方向と同一方向に近似するものについて、その欠陥が撮影画像上に明確に表れるようにしたプリント基板検査装置の提供 - 特許庁

Thus, the crystal defect as a factor of disturbance of a measured value, so diffusion length measurement precision by the SPV method is greatly improved to achieve more accurate Fe contamination evaluation.例文帳に追加

このように、測定値の外乱要因となる結晶欠陥を除去するため、ＳＰＶ法による拡散長測定精度が格段に向上して、より正確なＦｅ汚染評価が可能となる。 - 特許庁

Accordingly, when a recording track is formed in the shape of spiral and a cluster is a fixed length, effects by the same defect appears cyclically for every several clusters within the range of several tracks.例文帳に追加

このため、記録トラックがスパイラル状に形成され且つクラスタ長が固定とされる場合、数トラックの範囲内では、同じ欠陥による影響は数クラスタごとに周期的に現れる。 - 特許庁

To provide a control method of a plane shape in a thick plate rolling by which the trouble of conveyance and defect in length which are caused by the generation of a crop are mostly prevented and yield is more improved.例文帳に追加

クロップの発生による搬送トラブルや長さ不良がほとんど無く、歩留りの一層の改善を図ることができる厚板圧延における平面形状制御方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a silicon single crystal giving void restraining effect by hydrogen addition along the whole length of an ingot and yet free in grown-in defect at a high yield.例文帳に追加

インゴットの全長にわたって水素添加による空孔抑制効果が得られ、高い歩留まりでＧｒｏｗｎ−ｉｎ欠陥フリーのシリコン単結晶が得られる製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for an ultrasonic inspection wherein the defect of a metal band comprising a characteristic whose damping capacities of ultrasonic waves are different according to a distance in its running direction can be detected stably over the whole length of the running direction.例文帳に追加

走行方向における距離に応じて超音波の減衰能が異なる特性を有する金属帯を、走行方向全長にわたり安定して欠陥検出することを可能にする。 - 特許庁

To provide a land pattern inspection method and inspection device capable of detecting a minute defect of a land which can not be detected by a method for measuring diameters of a through hole with a radial length measuring instrument.例文帳に追加

スルーホールの直径を放射状の測長子で計測する方法では検出できないような、ランドの微細な欠陥を検出できるランドパターン検査方法及び検査装置を提供すること。 - 特許庁

To detect the projection defect of a surface in the manufacturing line or the like of a material of continuous length such as a sheet and a tubing accurately with a simple device and with low detection costs and maintenance costs.例文帳に追加

シートや管材等の長尺材の製造ライン等で、その表面の突起欠陥の検出を、簡単な装置により、精度よく、かつ安価な検出コストおよびメンテナンスコストで行うことを可能にする。 - 特許庁

To sufficiently suppress the deformation and defect of a green molded body extruded from an extrusion molding apparatus and a molded body formed by cutting the green molded body into a predetermined length and to obtain the green molded body with high dimensional accuracy.例文帳に追加

押出成形装置から押し出されたグリーン成形体及びこれを所定の長さに切断してなる成形体の変形や欠陥を十分に抑制し、寸法精度が高いグリーン成形体を得る。 - 特許庁

In the optical film laminate with slit lines, defect-free normal sheets and defective or defect-containing sheets having predefined length corresponding to dimension of the liquid-crystal panel are defined on the carrier film by successively forming the slit lines by cutting a slit line in a direction vertical to its lengthwise direction.例文帳に追加

切込線入り光学フィルム積層体においては、その長手方向に対して直角方向に切り込みを入れて切込線を順次形成することによって、液晶パネルの寸法に対応する所定の長さを有する欠点を含まない正常シート片と欠点を含む不良シート片とがキャリアフィルム上に区画されている。 - 特許庁