「below the line」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

In this molding and cooling line for green sand molds, the cooling line for performing the cooling of cast products while transporting the mold already poured with molten metal is arranged in parallel with and below the molding line for green sand molds using a green sand molding machine scarcely developing waste sand with a vertical interval.例文帳に追加

捨て砂がほとんど発生しない生砂鋳型造型機を使用した生砂鋳型の造型ラインの下方に、注湯済鋳型を移送しながら鋳造品の冷却を行う冷却ラインを上下に間隔をおいて平行に配置した構成にした生砂鋳型の造型・冷却ライン。 - 特許庁

When an enter key is operated, any circuit element does not exist at a cursor position at all, and one or more circuit elements are determined to exist in a circuit line pointed by the cursor, the cursor is moved to the circuit line one line below corresponding to the position at the leftmost end of the circuit element of the circuit elements.例文帳に追加

エンターキーが操作されたとき、カーソル位置に回路要素が全く存在しないときには、そのときカーソルが置かれた回路行に１若しくは２以上の回路要素が存在すると判定されるときには、それらの回路要素の中で最左端の回路要素の位置に対応する１行下の回路行へとカーソルを移動させる。 - 特許庁

The shaft 412 contains the distal end 413 that is offset relative to the center line 415 of the shaft 412 when observed from above or below so that the distal tip 413 lies on a line 417 that runs through a major diameter M of the opening 419 and is offset from, but is parallel to, the center line 415.例文帳に追加

シャフト４１２は、上部又は下部から観測されたときシャフト４１２の中心線４１５に対しオフセットされて、末端チップ４１３が、開口４１９の長径Ｍを通って走る線４１７上に在り、また中心線４１５からオフセットされるが中心線４１５にほぼ平行にオフセットされる末端部４１３を含む。 - 特許庁

When the marked line or plane has an error larger than the permissible error of interference calculation, the error is corrected to be below the permissible error or when the length or area of a line or plane present at a place as the candidate for interference is smaller than a permissible error, the line or plane is removed (S5).例文帳に追加

マークのついた線／面が、干渉計算の許容誤差よりも大きな誤差を含む場合に誤差が許容誤差以下になるように補正を行い、あるいは干渉の候補となる箇所に存在する線／面の長さまたは面積が許容誤差よりも小さい場合にその線／面を除去する（ステップＳ５）。 - 特許庁

An opposed surface of the hinge part 22 has a flat surface 34 formed at a right angle to the shaft of the connecting pins 14 on a pitch line of a chain 10 and a protrusive surface 36 turning to the opposed surface of the hinge part 30 by continuing with the flat surface 34 above and below the pitch line.例文帳に追加

ヒンジ部２２の対向面は、チェーン１０のピッチ線上において、連結ピン１４の軸に直角に形成された平坦面３４と、ピッチ線の上下において平坦面３４に連続してヒンジ部３０の対向面に向う隆起面３６とを有する。 - 特許庁

To provide a processing device such as an etching device which is capable of preventing deposits from falling down separating from an exhaust line to adhere as particles to the surface of a semiconductor wafer which is located below, where the deposits are attached to the inner wall of the exhaust line provided at an upper part of the processing device.例文帳に追加

上方に形成されている排気ラインの内壁に付着したデポ物が剥離して落下し、下方に存在する半導体ウエハの表面にパーティクルとして付着することを防止できるエッチング装置のような処理装置を得ること。 - 特許庁

Wirings 21 are provided on the conductor layer 16 and a wiring 21A, passing below the inside line 20A of the stiffener 20, is set so as to be intersected obliquely with the extending direction of the inside line 20A or preferably be intersected with an angle lower than 60 degrees.例文帳に追加

導体層１６は配線２１が設けられ、スティフナ２０の内側ライン２０Ａの下を通る配線２１Ａは、内側ライン２０Ａの延伸方向に対して斜めに、好ましくは６０度以下の角度で交差するように設定されている。 - 特許庁

The source area or drain area 3 is arranged along the top surface of a silicon substrate 1 without bypassing the part below the element separation area 2, so the substantial length of the buried bit line can be made short.例文帳に追加

ソース領域またはドレイン領域３が、素子分離領域２の下部を迂回せずにシリコン基板１の表面に沿って配置されるため、埋め込みビットラインの実質的な長さを短くできる。 - 特許庁

In the storage position, each of the auxiliary footstools 35 is unfixed, turned in the direction of an arrow 42, stored below the upper-side treadboards 10 (shown in a chain line in Fig. ), and locked and fixed to the bridgeboard 2 by means of the magnet.例文帳に追加

格納位置では、固定を解除して、各補助踏み台３５を、矢示４２方向に回転して、上段側の踏板１０の下方に格納し（鎖線図示）、磁石でささら桁２に係止固定される。 - 特許庁

The best ways in which to commit seppuku are considered to be ichimonji-bara (single-line disembowelment) in which a single cut is made across the abdomen and jumonji-bara (crosswise disembowelment) in which a single cut is made across the abdomen followed by a second vertical cut from the pit of the stomach to below the navel. 例文帳に追加

切腹の際の腹の切り方は、腹を一文字に切る一文字腹、一文字に切ったあとさらに縦にみぞおちから臍の下まで切り下げる十文字腹がよいとされた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

This garment is so designed that the cup parts are detachably connected with each other in the front with a first connecting member set on the front below a line connecting right and left bust top parts and a second connecting member set in the vicinity of the underbust or on the underbust of the lower part of the cup part on the front below the first connecting member.例文帳に追加

左右のバストトップ部を結んだ線の下側のフロント部に設けられた第１の連結部材と、第１の連結部材より下側のフロント部の、カップ部下部のアンダーバスト部近傍、あるいはアンダーバスト部に設けられた第２の連結部材によって、フロント部においてカップ部を互いに着脱可能に連結する。 - 特許庁

Also, below the movable winning device 32, a first start port 31 is provided on the upper side of an out port 43 on the almost center line of the horizontal direction of a game area 11.例文帳に追加

また、可動入賞装置３２の下方には、第１始動口３１がアウト口４３の上側で、且つ遊技領域１１の左右水平方向のほぼ中心線上に設けられている。 - 特許庁

To accurately detect a focus, to highly accurately measure and inspect even when the line width of a pattern on a semiconductor and the pitch of the pattern become equal to or below the wavelength of an optical system.例文帳に追加

半導体のパターンの線幅、ピッチが光学系の波長以下になった場合であっても、正しいフォーカス検出を行い、高精度の計測及び検査技術を行うこと。 - 特許庁

The semiconductor device further comprises a second metal layer 10b formed in the insulation films 6 and 7, and below the external connection electrode 13a, and connected with an undersurface of the metal distribution line 10c.例文帳に追加

更に、絶縁膜６及び７内で且つ外部接続電極１３ａの下方に形成され、金属配線１０ｃの下面に接続された第２の金属層１０ｂを備える。 - 特許庁

The terminal tackle unit A may have sliding beads 7 placed between both sliding rings 4a of the sprawl wire (a) and above and below the stopper 3 of the main line 1.例文帳に追加

さらに、仕掛け要素Ａは、前記天秤ａの両摺動環４aの内方でストッパー３を挟んでそれぞれ幹糸１の上下に摺動玉７を介在させたものでも提供される。 - 特許庁

In addition, it will be described below that, in later ages, the first line was changed to "kimigayoha" and, as the waka was disseminated in society in various forms, situations under which the waka was chanted varied and the situations related to interpretation were changed. 例文帳に追加

さらに後世、初句が「君が代は」となり、さまざまな形で世に流布されるにつれ、歌われる場も多様となり、解釈の状況が変わっていくことは後述する。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

When setting a boundary area 16, the thermometer 71E for measuring temperature of a subcritical water area just below the set boundary area is selected from the line of the thermometers.例文帳に追加

境界域１６を図１に図示の位置に設定するときには、設定境界域の直下の亜臨界水域の温度を測定する温度計７１Ｅを温度計列から選択する。 - 特許庁

The turn guide 33 and the two guide rollers 34 and 35 are arranged so as to realize a positional relationship that the angle θ1 of intersection between the first and second line segments A1 and B1 is below 180°.例文帳に追加

これら第１及び第２の線分Ａ１，Ｂ１の交差角度θ１が１８０度未満となる位置関係となるように、ターンガイド３３と、２個のガイドローラ３４，３５とを配置する。 - 特許庁

Each of the first to fourth word line conductive layers 31a-31d is formed to expand in a two-dimensional manner, and air gaps Ag1-Ag4 are formed between the first to fourth word line conductive layers 31a-31d located there above and there below.例文帳に追加

第１〜第４ワード線導電層３１ａ〜３１ｄは、２次元的に広がって形成され、上下に位置する第１〜第４ワード線導電層３１ａ〜３１ｄの間に空隙Ａｇ１〜Ａｇ４が形成されている。 - 特許庁

Another reason for the default route line being missing is that you have mistakenly set up a default router in your /etc/rc.conf (see rc.conf(5) ) file and you have omitted the line below from ppp.conf: 例文帳に追加

netstat -rnでデフォルトルートの情報が表示されない場合、もう一つ、 /etc/rc.conf (rc.conf(5) 参照) (2.2.2 より前のリリースでは /etc/sysconfig と呼ばれていました)の中でデフォルトのルータを誤って設定し、 ppp.conf から の行をうっかり消してしまった可能性があります。 - FreeBSD

A brightness control unit has inputs for a vehicle pitch angle and roll angle, and a means for calculating, based on the pitch and roll angles, a current position in an image of a virtual horizon line, corresponding to a real horizon line as perceived by the observer, and for controlling the brightness of the symbols above the virtual horizon line to be different from the brightness of the symbols below the virtual horizon line.例文帳に追加

明度制御ユニットは、乗り物のピッチ角及びロール角の入力と、当該ピッチ角及びロール角に基づいて、観察者により知覚される現実の地平線に対応する、仮想地平線の画像における現在の位置を計算し、仮想地平線の上側のシンボルの明度を仮想地平線の下側のシンボルの明度と異なるように制御する手段と、を有している。 - 特許庁

The space 1 having a large dimension of a vertical direction and formed in a frame F immediately below the movable region of the carrier base V is utilized as a wiring space 33 to lay the signal line C of the seat sensor 22 etc. arranged on the carrier base V, so that the signal line C becomes a drooping state on the wiring space 33.例文帳に追加

キャリアベースＶの可動領域の直下のフレームＦ内に形成される上下方向の寸法の大きな空間部１を配線空間３３として利用して、キャリアベースＶ上に配置された着座センサ２２等の信号線Ｃを前記配線空間３３に垂下状態で配線する。 - 特許庁

When a stage 7 is moved downward by 1 mm than a stage moving mechanism 6 while the stage 7 exists below a focal position, the diameter of the luminous flux arriving at an IR line detector 14 increases and the photodetecting intensity on the central side of the IR line detector 14 decreases.例文帳に追加

ステージ７が焦点位置より下にある場合、ステージ７をステージ移動機構６により下に１ｍｍだけ移動すると、赤外ライン検出器１４に到達する光束の径は大きくなり、赤外ライン検出器１４の中央側の受光強度は小さくなる。 - 特許庁

In the seamless belt of a polyimide resin containing at least electroconductive carbon black, the center line average surface roughness Ra of the peripheral surface is 0.3 μm or below, and the maximum wave WCM is 2 μm or below.例文帳に追加

導電性付与材として少なくともカーボンブラックを含有するポリイミド系樹脂からなるシームレスベルトにおいて、外周面の中心線平均表面粗さＲａが０. ３μｍ以下であり、かつろ波最大うねりＷ_CMが２μｍ以下であることを特徴とするシームレスベルト。 - 特許庁

To enable a DRAM to be lessened in memory cell size by reducing the width of a bit line to a minimum processing dimension or below determined by a resolution limit of a photolithography technique.例文帳に追加

ビット線の幅をフォトリソグラフィの解像限界で決まる最小加工寸法以下まで微細化することによって、ＤＲＡＭのメモリセルサイズを縮小する。 - 特許庁

The shield member 130 includes a U-shaped hook part 141 in a periphery of a mounting terminal part 137 below a height direction center line 138.例文帳に追加

シールド部材１３０は、高さ方向中心線１３８より下方であって実装用端子部１３７の近傍の部位に、Ｕ字形状のフック部１４１を有する。 - 特許庁

The light screening material line 8 has a projector 8a projecting below in a region corresponding to a transfer gate 7a in its ON state in light receiving.例文帳に追加

また、遮光材料線８は、受光時にオン状態の転送ゲート７ａに対応する領域において下方へ突出する突出部８ａを有している。 - 特許庁

It contained a great variety of information about time line, map of Japan, Bukan (a book of heraldry), Sado (Japanese tea ceremony), Kado (flower arrangement), manners, fortune-telling, recipes, and so on, which had no relation to the entry words listed below. 例文帳に追加

年表・日本地図・武鑑・茶道・華道・作法・占い・料理法など多種多様な知識が載せられ、下欄の用語と関係のないものとなった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Below the wires 90, a plurality of power supply lines 80 and 82 and a ground line 81 are further provided, and floating lines 83 and 84 are provided along the their boundaries.例文帳に追加

配線９０の下方には、さらに複数のライン状の電源線８０，８２，グラウンド線８１が配設され、それらの境界にはフローティング線８３，８４が配設される。 - 特許庁

The line drawing processor 100 removes the separated projecting region ER from an image by removing a drawing pixel set below a predetermined reference area.例文帳に追加

そして、線画処理装置１００は、所定の基準面積以下の描画画素集合を除去することによって、分離した突出領域ＥＲを画像から除去する。 - 特許庁

It can be overridden by giving a device file name in the environment variable TAPE or by a command line option (see below), which also overrides the environment variable. 例文帳に追加

デバイスファイル名を環境変数TAPEで指示したり、コマンドラインオプション (下記参照) を用いれば、これを変更することができる。 コマンドラインオプションは環境変数より優先される。 - JM

In addition the gear is engaged with tooth parts below a horizontal line of an axle of another gear provided at an axle of the upper gear and the motive power of the engine/the motor is transmitted in the driving device of the vehicle.例文帳に追加

更に其の上部の歯車の軸に設けた別の歯車の軸の水平線より下部の歯部にその歯車を噛み合わせ、エンジン又はモーターの動力を伝えるごとくした事を特微とした、車輌における駆動装置。 - 特許庁

The conveying unit 30 has a straight conveying path K2 arranged above the horizontal line passing through the image transfer unit 19 below the belt surface 8a on the upstream side in the conveying direction to the image transfer unit 19.例文帳に追加

搬送部３０は、画像転写部１９に至る搬送方向上流側に、ベルト面８ａの下方であって画像転写部１９を通る水平線の上方に配設された直線状の搬送経路Ｋ２を具備する。 - 特許庁

To provide the method of manufacturing a semiconductor device in which a source/drain diffusion layer having a straight line portion which is equal to or below the limit of the resolution of lithography used as a memory cell array region and a connection portion which connects the straight line portion can be formed easily.例文帳に追加

メモリセルアレイ領域となるリソグラフィの解像限界以下の直線部と、その直線部を接続する接続部とを有するソース・ドレイン拡散層を簡易に形成することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In this straightening machine 20, plural upper straightening rolls 12 and plural lower straightening rolls 14 are arranged zigzag in the feeding direction of the material in the positions above and below the pass line of the material 10 to be worked.例文帳に追加

矯正機２０は、被加工材料１０のパスラインの上下位置に、複数の上矯正ロール１２および複数の下矯正ロール１４が、材料送給方向に千鳥状に配置される。 - 特許庁

The inlet 3 includes a bent part 31 formed by bending the sidewall 30 of the inlet 3, and a straight tube part 32 made by forming the sidewall 30 into a substantially straight line shape below the bent part 31.例文帳に追加

インレット３は、インレット３の側壁３０を屈曲してなる屈曲部３１と、屈曲部３１よりも下方において側壁３０を略直線状に形成してなる直管部３２とを有する。 - 特許庁

A colored plane part 18a covering a part superposed on the read line 16a of the contact glass 16, from below is provided to the exposure lamp mounting unit or the reflection mirror mounting unit being in the standby position.例文帳に追加

該待機位置にある露光ランプ搭載ユニット又は反射ミラー搭載ユニットに上記コンタクトガラス１６の読取ライン１６ａと重なる部分を下から覆う有色平面部１８ａを設けた。 - 特許庁

Thus, the refrigerant temperature Tr is always below the saturation temperature Ts, so that the refrigerant is kept in the liquid phase state on a line p-h in the refrigerant pump to avoid cavitation.例文帳に追加

これにより冷媒温度Ｔｒは常に飽和温度Ｔｓ以下となり、冷媒ポンプ内において、冷媒はｐ−ｈ線図上の液相状態が維持されるため、キャビテーション回避が可能となる。 - 特許庁

The Nara Peerage refers to a family line and its people, who returned to the court noble society and entitled to be the peerage after the Meiji Restoration due to the special circumstances described below. 例文帳に追加

奈良華族（ならかぞく）は、明治維新後に下記に述べるような特殊な事情によって公家社会に復帰し、そのために後に華族となることを得た家系及びその家系に属する人々を指す。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The west of Nagaokakyo City to the westward of the Oyamazaki Oe Line (Tanba Kaido Road) of the Kyoto Prefectural Route 10 is an area with a wealth of nature, consisting mainly of the hillside area in Nishiyama, and where famous shrines and temples are scattered around as mentioned below. 例文帳に追加

京都府道10号大山崎大枝線（丹波街道）以西の西部は、主に西山の丘陵地帯からなる自然あふれる地域であり、後述のような有名神社仏閣などが点在する。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The V-grooved substrate may be such that the angle formed with a straight line constituting the groove below the point of contact between the fiber and the V-groove and the tangent 15 to the point of contact is an acute angle smaller than 180 degrees on the cross section.例文帳に追加

断面において、ファイバーとＶ溝の接触点より下部の溝を構成する直線と、この接触点における接線とがなす角度が１８０度より小さい鋭角となるように形成されているＶ溝基板であってもよい。 - 特許庁

The VSS power supply line is connected to a CMOS type SRAM cell through an island-shaped VSS pattern formed by the wiring layer just below the VSS power supply line, and connection of the VSS power supply line to the island-shaped VSS pattern is attained by arrangement of a plurality of via parts per island-shaped VSS pattern.例文帳に追加

ＶＳＳ電源配線は、ＶＳＳ電源配線より１層下の配線層で形成された島形状ＶＳＳパターンを介してＣＭＯＳ型ＳＲＡＭセルと接続されており、ＶＳＳ電源配線と島形状ＶＳＳパターンとの接続が１つの島形状ＶＳＳパターンあたり複数のビア部の配置によってなされる。 - 特許庁

although the line pattern 132 for phase matching provided on the line pattern layer 125 for phase matching is extended around even onto a wire bonding pad layer 122 and a cavity layer 123a provided right below it in conventional constitution, the branching filter of the present invention does not have the line pattern for phase matching extended around.例文帳に追加

従来構成では、位相整合用線路パターン層１２５上に設けられた位相整合用線路パターン１３２が、ワイヤボンディングパッド層１２２およびその直下に設けられているキャビティ層１２３ａ上にも引き回されているのに対して、本発明の分波器ではかかる位相整合用線路パターンの引き回しがない。 - 特許庁

The pile hole 14 is formed to have the enlarged conical bottom part 16 following by the lower end 15a of the axis part 15 of the pile hole extending below the ground 12, and the lower end 15a of the axis part 15 of the pile hole 14 (the upper edge 17a of the enlarged bottom part 16) is defined as a pile-hole reference line 20.例文帳に追加

地面１２から杭穴軸部１５の下端１５ａに続いて円錐形の拡底部１６を形成した杭穴１４を形成し、杭穴１４の軸部１５の下端１５ａ（拡底部１６の上縁１７ａ）を杭穴基準線２０とする。 - 特許庁

The method consists in arranging the first scribed line data regions 10 having a respective scribing width into lower parts and right parts on the chip data regions 9 and arranging the second scribed line data regions 11 having a width below 1/4 times the scribed width of the first scribed line data regions in the upper parts and left parts of the chip data regions 9.例文帳に追加

この方法は、前記チップデータ領域９の下部及び右部に所定のスクライブ幅を有する第１のスクライブラインデータ領域１０を配置し、前記チップデータ領域９の上部及び左部に第１のスクライブラインデータ領域のスクライブ幅の１／４倍以下の幅を有する第２のスクライブラインデータ領域１１を配置するものである。 - 特許庁