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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Surface Contaminationの意味・解説 > Surface Contaminationに関連した英語例文

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Surface Contaminationの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 1073



例文

To sufficiently react reaction components while preventing contamination from adhering to electrodes during surface treatment of a film to be treated by activation of a reaction gas containing the reaction components.例文帳に追加

反応成分を含む反応ガスを活性化させて被処理フィルムを表面処理する際、反応成分を十分に反応させ、かつ電極に汚れが付着するのを防止する。 - 特許庁

To prevent a dissolved product or contamination caused by a substrate treatment surface from contaminating the backside of a substrate by preventing misalignment caused by dirt on the backside of the substrate during exposure.例文帳に追加

基板裏面に付着したゴミに起因する露光時のミスアライメントを防止し、基板処理面から発生した溶解生成物などや汚れが基板裏面を汚染することを防止する。 - 特許庁

Eliminating the need of bringing the suction pad into contact with the lens L during retention and the need of direct handling of the lens L during carrying of the lens L, the retention device 2 never causes contamination of the surface to be coated.例文帳に追加

保持の際にレンズLに吸着パッドを接触させたり、レンズLを搬送する際にレンズLを直接ハンドリングする必要がないため、被塗布面を汚染する危険性がなくなる。 - 特許庁

Even if the sneak path of the resist exists at the peripheral part of the substrate, it will enter the groove part, so that the deterioration of the planarity of the substrate and the contamination of the substrate placing surface of the substrate holder are prevented.例文帳に追加

基板の周辺部分にレジストの回り込みがあったとしても、それが溝部に入るため、基板の平面度の悪化と、基板ホルダーの基板載置面の汚染が防止される。 - 特許庁

例文

To provide a wiping tape for cleaning a surface of a magnetic disk while suppressing contamination of the magnetic disk due to fluff originating from the wiping tape, and a wiping method.例文帳に追加

ワイピングテープ由来の糸くずによる磁気ディスクの汚染を抑えつつ、磁気ディスクの表面を清浄化することができるワイピングテープ、およびワイピング方法を提供することを目的とする。 - 特許庁


例文

Generation of aluminum particles as contamination is suppressed in a processing chamber 1, by coating the surface of the processing chamber 1 which is made of an aluminum alloy, with glass bodies 18, 19, 20.例文帳に追加

アルミニウム合金にて構成した処理室1の表面をガラス体18,19,20で被覆し、処理室1内にアルミニウム粒子がコンタミネーションとして発生する量を抑制した。 - 特許庁

To provide a switch device having a robust configuration against contamination due to film-like formation on the surface of a conductive fluid with oxygen and other impurities and suitable for the size of an integrated circuit.例文帳に追加

酸素およびその他の不純物との導電性流体の表面の膜状形成物による汚染に対してロバストな構成とし、集積回路サイズに適したスイッチ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a fixing device that can reliably remove toner contamination on the surface of a fixing roller even when printing in various printing densities is carried out or paper jamming occurs.例文帳に追加

様々な印字密度での印刷や、用紙詰まりが発生した場合においても、定着ローラ表面のトナー汚れを確実に除去することが可能な定着装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a large pellicle in which nonuniform thickness and surface unevenness of an adhesive layer are improved, and which is in no danger of reduction of sticking power, contamination of a photomask and breakage of an exposure device.例文帳に追加

粘着層の厚みの不均一、表面の凹凸を改善し、貼付力の低下やフォトマスクの汚染や露光装置の破損の心配のない大型ペリクルの製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide an image forming apparatus that prevents paper jam on a conveyance belt, and contamination of the surface of a conveyance belt or subsequent paper, as well as damage to an ink ejection nozzle.例文帳に追加

搬送ベルト上における用紙ジャムの発生を抑制でき、搬送ベルト表面や後続用紙の汚れ、インク吐出ノズルの破損を回避することが可能な画像形成装置を提供する。 - 特許庁

例文

To automatically discriminate whether a defect is a short (short- circuit), open (disconnection) or the defect of contamination deposition (dust) in the case that the defect is present on a pattern formed on an inspected body surface.例文帳に追加

被検査体表面に形成されたパターンに欠陥が有る場合に、その欠陥がショート(短絡)、オープン(断線)、または異物付着の欠陥(ダスト)であるか否かを自動的に判別すること。 - 特許庁

To dissolve the effects of a contamination and heat on a semiconductor product as much as possible, and moreover evenly form a coating film over the whole surface of the product.例文帳に追加

半導体製造品に対する汚染や熱の影響をできる限り解消し、その上、半導体製造品の表面全体にわたって均一に塗布膜を形成できるようにする。 - 特許庁

To provide an illumination apparatus that can prevent contamination and keep waterproofness of the brightness sensor and an illumination device and an illumination control system that can control the road surface to a nearly constant brightness.例文帳に追加

明るさセンサの汚れや防水性を保つことができる照明器具、路面をほぼ一定の明るさに制御できる照明装置及び照明制御システムを提供すること。 - 特許庁

Consequently, the nano-column 2 is not exposed to the open air under vacuum state and a contamination can be prevented from adhering to the surface of a nano-column 2 and causing a leak current to flow, thus decreasing the efficiency.例文帳に追加

したがって、ナノコラム2を真空状態のまま外気に曝さずにでき、ナノコラム2の表面に異物が付着し、リーク電流が流れることによる効率低下を防止できる。 - 特許庁

The protective layer is easy to remove using standard cleaning method, while providing satisfactory surface protection against particle contamination and scratches, at a very low coating thickness.例文帳に追加

保護層は、きわめて薄いコーティング厚で、粒子汚染および引っかき傷に対する十分な表面保護をもたらす一方、標準的なクリーニング法を用いて容易に除去される。 - 特許庁

To prevent contamination or flaw on the surface of a glass and adhesion of foreign substance thereto because of the complication of facility, in a manufacturing device wherein an optical device is built in a hollow type package and glass boards are adhered.例文帳に追加

中空型パッケージに光学デバイスを内蔵し、ガラス板を接着する製造装置で、設備が複雑化し、ガラス表面の汚染や傷、異物が付着することを防止する。 - 特許庁

Therefore, without regarding the contamination of the washing liquid to the treating liquid, the treated surface and the part holding the body to be treated can be adequately washed by a washing mechanism which is different from the treating vessel.例文帳に追加

よって、処理液への洗浄液の混入に留意することなく、処理槽とは異なる洗浄機構により十分に処理面および被処理体保持部を洗浄することができる。 - 特許庁

To prevent an additive having a large particle size from being desorbed in a developer for electrophotography or the like and to prevent decrease in image density and contamination on a surface during printing a great number of sheets.例文帳に追加

電子写真等の現像剤において、大粒径添加剤の脱離防止を図り、多数枚印字時の画像濃度の低下及び地肌汚れを防止することを目的とする。 - 特許庁

When contamination of urine or the like is attached to an upper surface of the toilet stool 1 under the toilet seat box 4, cleaning devices or hands can be inserted into the space 8 to easily remove it for cleaning.例文帳に追加

便座ボックス4の下側の洋風便器1の上面に尿等の汚れが付着しても、スペース8内に清掃用具や手を差し込んで簡単に清掃除去することができる。 - 特許庁

To provide an image forming toner which has excellent low temperature fixation, off-set resistance and durability and gives a high quality picture having satisfactory resolution and having no surface contamination and no density variations.例文帳に追加

低温定着性、耐オフセット性及び耐久性にすぐれるとともに、解像度が良く、地肌汚れや濃度むらがない高品質の画像を与える画像形成用トナーを提供する。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus which is reduced in cost, prevents toner adhesion to the distal end of a guide member and prevents contamination of the distal end or edge surface of a recording paper sheet.例文帳に追加

コスト的に負担が少ないと共に案内部材先端へのトナー付着を防止し、記録紙の先端、コバ面の汚れを防止する画像形成装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a dump truck capable of precluding contamination with a bumper or objects stacked on the road surface and of establishing simply at low cost the constitution to support a load container on the chassis and also the configuration around the bumper.例文帳に追加

バンパーや路面の積載物による汚染を防止できる上、載荷容器をシャーシに支持する構成やバンパー周りの構成を簡単で安価にすることができるダンプカーを提供する。 - 特許庁

To provide a light diffusion sheet being in no danger of secondary contamination due to bleeding of additives and having uniform sliding property on the surface and a backlight unit using the same.例文帳に追加

添加剤のブリードアウトによる2次汚染のおそれがなく、表面に均一な滑り性を有する光拡散シート及びこれを用いたバックライトユニットの提供を目的とするものである。 - 特許庁

In this manner, substantially all surfaces that confine the high density plasma will have surface roughness characteristics that promote polymer adhesion, and particulate contamination inside the reactor can be substantially reduced.例文帳に追加

高密度プラズマを閉じ込める実質的に全ての面がポリマーの付着を促進する表面粗さ特性を持つことができ、反応器内のパーティクル汚染は実質的に減少され得る。 - 特許庁

A plasma etching electrode is formed of glassy carbon with an Fe contamination amount to a silicon wafer surface being10^10 atoms/cm^2 to 10×10^10 atoms/cm^2.例文帳に追加

シリコンウエハ表面へのFe汚染量が1×10^10atoms/cm^2〜10×10^10atoms/cm^2であるガラス状炭素からなるプラズマエッチング電極。 - 特許庁

To provide a susceptor for manufacturing a semiconductor and a semiconductor-manufacturing device for obtaining the highly reliable semiconduc tor by preventing contamination in a semiconductor-manufacturing process and preventing a temperature gradient from occurring within a surface.例文帳に追加

半導体製造プロセスでの汚染が防止され、面内温度勾配の発生もなく、信頼性の高い半導体が得られる半導体製造用サセプタ、半導体製造装置の提供。 - 特許庁

In the method of removing contamination of a surface having an oxide layer of a component or a system in nuclear power facilities, the oxide layer is treated by a gas nitrogen oxide (NO_x) as an oxidizing agent.例文帳に追加

原子力施設の部品または系の酸化物層を有する表面を汚染除去する方法であって、前記酸化物層を酸化剤としての気体窒素酸化物(NO_x)で処理する。 - 特許庁

Problems related to chemical contamination of surface water supplies, particularly those associated with byproducts from new treatment technologies, are rational in scope and receive national attention.例文帳に追加

表流水給水における科学汚染に関連付けられ,とりわけ新しい水処理技術の副産物に結び付く問題は,その道理性を認められており,全国的な注目を集めている。 - 英語論文検索例文集

Problems related to chemical contamination of surface water supplies, particularly those associated with byproducts from new treatment technologies, are rational in scope and receive national attention.例文帳に追加

表流水給水における科学汚染に関連付けられ,とりわけ新しい水処理技術の副産物に結び付く問題は,その道理性を認められており,全国的な注目を集めている。 - 英語論文検索例文集

To provide a ventilating device demonstrating excellent effect sanitarily and environmentally by reducing contamination attached to the surface of a ventilation device and purifying the air discharged.例文帳に追加

換気装置の表面に付着する汚れを軽減すると共に、排出される空気を浄化させることにより、衛生的で環境的にも優れた効果を発揮する換気装置を提供すること。 - 特許庁

In the anti-contamination insulator, a coated layer 5 of an anti-static agent is formed on the surface of an insulator body 1 made of porcelain wherein a regular glaze is applied in order to prevent electrified sticking of contaminated substances included in the atmosphere.例文帳に追加

通常の釉薬が施釉された磁器製のがいし本体1の表面に、帯電防止剤のコーティング層5を形成し、大気中に含まれる汚損物質の帯電付着を防止する。 - 特許庁

To provide a wafer cleaning apparatus for cleaning effectively the surface and back face of a semiconductor wafer, and for preventing the contamination of the wafer, and a wafer carrying and holding mechanism applied to the wafer cleaning apparatus.例文帳に追加

半導体ウェーハの表裏面を効果的に洗浄でき、ウェーハの汚染を防止できるウェーハ洗浄装置およびウェーハ洗浄装置に適用されるウェーハ搬送保持機構を提供する。 - 特許庁

To provide a preprocessing method for recombination lifetime evaluation in which a suitable recombination lifetime is measured by suppressing a recombination process on a wafer surface of a low-contamination and long-lifetime silicon wafer.例文帳に追加

低汚染で高ライフタイムのシリコンウェーハにおいてウェーハ表面での再結合過程を抑制し、適切な再結合ライフタイムが測定できるような前処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for evaluating contamination by a molecular or cluster chemical substance adsorbed on the surface of a desirable region without damaging a semiconductor substrate having a complicated shape and the surface constituted with plural kinds of materials, and provide a device for evaluation and a manufacturing method for a semiconductor device based on contamination evaluation.例文帳に追加

複雑な形状を有しかつその表面が複数の種類の材料で構成されている半導体基板に対して、該基板に損傷を与えることなく、所望の領域の表面に吸着する分子状あるいはクラスター状化学物質等の汚染を評価する方法と、評価を行うための装置、さらに、汚染評価に基づく半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the method for evaluating the Ni contamination in the silicon wafer, the silicon wafer is cleaved, the cleaved silicon wafer is heat-treated, selection etching is made to the cleaved surface of the silicon wafer for forming a shallow etch pit (shallow pit), and the Ni contamination in the silicon wafer is evaluated by observing the shallow etch pit formed on the cleaved surface.例文帳に追加

シリコンウエーハのNi汚染を評価する方法であって、前記シリコンウエーハを劈開し、該劈開したシリコンウエーハに熱処理を行った後、シリコンウエーハの劈開面に選択エッチングを行って浅いエッチピット(シャローピット)を形成し、該劈開面に形成された浅いエッチピットを観察することによってシリコンウエーハのNi汚染を評価することを特徴とするシリコンウエーハのNi汚染の評価方法。 - 特許庁

The system which detects at least one contamination species in the internal space of a lithography device includes at least one monitoring surface constituted as an internal space contact is carried out, a thermal controller configured so that the temperature on the monitoring surface may be controlled to at least one detection temperature, and at least one detector constituted so that the condensation of up to at least one monitoring surface of the contamination species might be detected.例文帳に追加

リソグラフィ装置の内部空間内の少なくとも1つの汚染種を検出するシステムであって、内部空間に接触しているように構成された少なくとも1つのモニタリング表面と、モニタリング表面の温度を少なくとも1つの検出温度に制御するように構成された熱コントローラと、少なくとも1つの汚染種のモニタリング表面上への凝縮を検出するように構成された少なくとも1つのディテクタとを含む。 - 特許庁

To eliminate the difference of boron concentration on the surface of a wafer and in a bulk by providing a method for eliminating boron contamination accompanying the annealing treatment of a silicon wafer and namely a method for preventing the increase of the boron concentration near the surface of the wafer accompanying the annealing treatment.例文帳に追加

シリコンウェーハのアニール処理に伴うボロン汚染の消滅方法、即ちアニール処理に伴うウェーハ表面近傍のボロン濃度増加の防止方法を提供することにより、ウェーハの表面とバルク中のボロン濃度差を無くすことである。 - 特許庁

This cleaning member 4 contacts-slides the surface of an adjacent lens element L10 during retreating motion from the optical axis and entry motion into the optical axis of the third lens group 31G, and wipes the contamination such as dusts and dirt on the surface.例文帳に追加

この清掃部材4は、第3レンズ群31Gの光軸上からの退避動作および光軸上への進入動作の際に、隣接するレンズ要素L10の表面に当設・摺動し、当該表面の塵や埃などの異物を払拭する。 - 特許庁

To provide a multilayered transfer belt for a image forming apparatus consisting of a base layer and a surface layer, having a large surface resistance, excellent for releasing the toner, and also excellent against contamination with a stabilized volume resistance value.例文帳に追加

ベース層と表層を有する画像形成装置用の多層の転写ベルトであって、大きな表面抵抗率、優れた離トナー性、優れた非汚染性、さらに安定した体積抵抗値などを有する画像形成装置用転写ベルトを提供すること。 - 特許庁

To provide a method for securely preventing exposure of a metal surface due to abrasion of a cover in the method for preventing metal contamination of polysilicon by providing the resin-made cover on the surface of a metal member contacting with the polysilicon.例文帳に追加

ポリシリコンと接触する金属部材の表面に樹脂製カバーを設けることによりポリシリコンの金属汚染を防止する方法において、該カバーの摩耗による金属の表面露出を確実に防止することができる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sheet for coverlay film thermocompression bonding, to which unevenness trackability and mold releasability are imparted by forming a low-energy surface on at least one surface of a polypropylene-made base and which is free of contamination.例文帳に追加

ポリプロピレン製基材の少なくとも片面により安価で簡便な方法で密着性良く低エネルギー表面を形成し、凸凹追随性および離型性が付与され、且つカバーレイフィルムへの汚染が無いカバーレイフィルム熱圧着用シートを提供する。 - 特許庁

To use a boron nitride formed article even under conditions requiring a clean atmosphere by forming a dense surface layer or the like on a boron nitride sintered compact and a composite sintered compact, thus controlling contamination generated from the surface.例文帳に追加

本願発明は、窒化ホウ素焼結体及び複合焼結体に緻密な表面層等を形成することにより、表面から発生するコンタミネーションを抑制することによって、クリーンな雰囲気が求められる条件下でも使用可能とする。 - 特許庁

Residual slurry particles, particularly copper or other metal particles, are removed from the wafer surface without significantly etching the metal, leaving deposits on the surface, or imparting significant contamination to the wafer while also protecting the metal from oxidation and corrosion.例文帳に追加

残留スラリーパーティクル、特に銅または他の金属パーティクルは金属を十分にエッチングする、表面に堆積物を放置する、十分な汚染物を与える、ことをせずに半導体表面から除去され、同時に金属を酸化および腐食から保護する。 - 特許庁

To provide an image forming device, capable of cleaning excessive toner adhered to an end surface of a recording sheet and suppressing contamination of the end surface by providing an image forming area larger than the recording sheet for attaining borderless recording.例文帳に追加

本発明は、縁なし記録を実現するために記録シートより大きな画像形成領域を設けたために、記録シートの端面に付着した剰余トナーを清掃し、端面汚れを抑制できる画像形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a flexible magnetic recording medium which is excellent in handling, contamination resistance, a surface property and productivity, in the manufacturing method of the flexible magnetic recording medium in which primary-coated layer of which the purpose is smoothing and control of surface coarseness is formed .例文帳に追加

平滑化および表面粗さ制御を目的とした下塗り層を形成したフレキシブル磁気記録媒体の製造方法において、ハンドリング性、耐汚染性、表面性、生産性に優れるフレキシブル磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a high-speed traveling washing method and high-speed traveling washing device for tunnel, capable of washing a wall surface of a tunnel, rain markers on a road surface or the like while traveling at a legally lowest traveling speed without needing a traffic regulation or causing environmental contamination.例文帳に追加

通行規制がなく、環境汚染がない、法定最低走行速度で走行して、トンネルの壁面や路面上のレインマーカ等を洗浄可能なトンネルの高速走行洗浄方法と高速走行洗浄装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To improve the cleaning performance of a conveyor belt and to prevent contamination with a substrate carried on the belt surface by cleaning an extension roller for the conveyor belt with a member having many gaps that foreign matters on the roller surface can enter.例文帳に追加

搬送ベルトの張架ローラを該ローラ表面の異物が侵入し得る多数の間隙を有する部材でクリーニングすることにより、搬送ベルトのクリーニング性能を良好にし、ベルト表面に担持している被担持物質の汚れを防止できるようにする。 - 特許庁

Fluorescent lamps 14 and 15, which are illuminating light sources able to outgo illuminating light for illuminating a testing surface of a product to be tested, are covered with stain-proofing covers 20 detachably so that the outgoing surface of illuminating light can be prevented from contamination anyway.例文帳に追加

被検査物の被検査面を照明するための照明光を出射し得る照明光源である蛍光灯14、15における少なくとも照明光の出射面を汚損防止し得るように防汚カバー20で交換可能に被覆する。 - 特許庁

To provide a method for producing a CMP abrasive capable of reducing contamination by impurities at the step for producing a slurry of cerium oxide, capable of highly flattening a surface, and capable of allowing the surface to be ground, such as an insulating film of silicon oxide to be polished without defects at a high speed.例文帳に追加

酸化セリウムスラリーの製造工程における不純物混入を低減させ、且つ高平坦化可能であり酸化珪素絶縁膜等の被研磨面を傷なく高速に研磨することが可能なCMP研磨剤の製造方法を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a protector for an analytical sample, that is a protector of a sample for analyzing a minute specific place on a certain surface, and that allows the sample to be processed in a state that contamination or state change does not occur even on an outermost surface of an analytical target place.例文帳に追加

一定面の微小な特定箇所を分析する試料用の保護具において、分析対象箇所の最表面にも汚染や状態変化が生じない状態で試料を加工出来る分析用試料の保護具を提供する。 - 特許庁




  
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