「Ra to」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

The liner 7 comprises a synthetic resin film and emboss processing is applied to the surface of the liner to bring the surface roughness Ra of the liner to 0.5-500 μm.例文帳に追加

また、ライナー７は合成樹脂製のフィルムからなり、表面には表面粗度Ｒａ＝０．５〜５００μｍのエンボス加工が施されたものを用いる。 - 特許庁

The matrix Ra is then subjected to DFT processing (S330) to determine a spectrum Y1 corresponding to the integrated signal of the plurality of cycles of the beat signals in the up modulation.例文帳に追加

その後、行列ＲａをＤＦＴ処理し（Ｓ３３０）、複数サイクル分の上り変調時のビート信号の積算信号に対応するスペクトルＹ１を求める。 - 特許庁

This mobile station UE is equipped with an RACH procedure section 12 configured to attempt to detect an RA response for an RA preamble only by the DL carrier for a UL carrier from a plurality of DL carriers when CA is performed and the UL carrier transmits the RA preamble.例文帳に追加

本発明に係る移動局ＵＥは、ＣＡを行っている場合で、かつ、ＵＬキャリアにおいてＲＡプリアンブルを送信した場合に、複数のＤＬキャリアの中から、かかるＵＬキャリアに対応するＤＬキャリアでのみ、かかるＲＡプリアンブルに対するＲＡレスポンスの検出を試みるように構成されているＲＡＣＨ手順部１２を具備する。 - 特許庁

(1)In the leader tape bonded to the tip of a magnetic tape, the center line average roughness (Ra) of a coated layer on a support is 10 to 60 nm, and a ratio of the stiffness in the longitudinal (MD) direction of the leader tape to that of the magnetic tape is 6.0 to 400.例文帳に追加

１）磁気テープの先端に接合されるリーダーテープにおいて、支持体上の塗布層の中心線平均粗さ（Ra）が１０〜６０ｎｍであり、かつ前記リーダーテープと磁気テープの長手（ＭＤ）方向のスティフネスの比率が６．０〜４００であることを特徴とするリーダーテープ。 - 特許庁

The leader has a coating layer containing a powder and a binder on at least one face of a support, and a center line average roughness (Ra) of at least one face of the leader tape is from 10 to 60 nm, and a magnetic tape to be bonded to the leader tape has a thickness of 3 to 11 μm.例文帳に追加

支持体上の少なくとも一方の面に粉体と結合剤を含む塗布層を設けてなるリーダーテープにおいて、前記リーダーテープの少なくとも一方の面の中心線平均粗さ（Ra）が１０〜６０ｎｍであり、かつリーダーテープに接合される磁気テープの厚みが３〜１１μｍであること。 - 特許庁

To an assist slope compensation control part 28, assist slope Ra is inputted and F/B gain slope Rp is inputted, and the F/B gain slope Rp is added to the assist slope Ra in an adder 36 and is inputted to a switching control part 32.例文帳に追加

アシスト勾配補償制御部２８には、アシスト勾配Ｒaが入力されるとともに、Ｆ／Ｂゲイン勾配Ｒpが入力されるようになっており、同Ｆ／Ｂゲイン勾配Ｒpは、加算器３６においてアシスト勾配Ｒaに加算され、切替制御部３２へと入力される。 - 特許庁

Further, the high pressure water is sprayed to impart a surface roughness of 1.8 to 3.5 μm by a center line average roughness Ra, and after that, the skinpass rolling is performed by using work rolls having a surface roughness of 0.3 to 6.0 μm by a center line average roughness Ra.例文帳に追加

また前記で高圧水を吹き付けて、めっき鋼板表面に中心線平均粗さＲａで１．８〜３．５μｍの表面粗さを付与し、しかる後に表面粗さが中心線平均粗さＲａで０．３〜６．０μｍのワークロールを用いて調質圧延する。 - 特許庁

A lighting control section controls a light source section of lighting devices 10a-10c corresponding to a route area RA from a human presence area so that an optical output is different, as compared to a light source section of lighting devices 10d-10f corresponding to any other area than the route area RA.例文帳に追加

点灯制御部は、人の存在エリアからルートエリアＲＡに対応する照明装置１０ａ〜１０ｃの光源部をルートエリアＲＡ以外のエリアに対応する照明装置１０ｄ〜１０ｆの光源部と比較して光出力が異なるように制御する。 - 特許庁

A third element Ra is coupled to a fifth element Cb to form a first coupled body, and a sixth element Rb is coupled to a ninth element Sc to form a second coupled body.例文帳に追加

第３要素Ｒａと第５要素Ｃｂを連結して第１連結体とし、第６要素Ｒｂと第９要素Ｓｃを連結して第２連結体とする。 - 特許庁

In the magnetic head device, at least either the flat contact surface or the hemispherical contact surface is subjected to laser polishing to give the hemispherical contact surface a surface roughness Ra of 100 nm or below and the flat contact surface a surface roughness Ra of 50 nm or below.例文帳に追加

平面状接触面と半球状接触部の少なくとも一方に、レーザポリッシュを施し、半球状接触部の面粗さＲａを１００ｎｍ以下、平面状接触面の面粗さＲａを５０ｎｍ以下とした磁気ヘッド装置。 - 特許庁

The output means excludes a part range PR including an entry section ES of the document DC from a tint block addition target area RA, and adds a tint block to the target area RA to print and output a document DC (DP1).例文帳に追加

当該印刷出力手段は、文書ＤＣの記入欄ＥＳを含む部分領域ＰＲを地紋付加対象領域ＲＡから除外し、当該地紋付加対象領域ＲＡに地紋を付加して文書ＤＣ（ＤＰ１）を印刷出力する。 - 特許庁

The arithmetic mean roughness Ra based on JIS of a surface on a PDP-treating-board touching side of the platen for calcination is made to satisfy 1.0 μm≤Ra≤5.0 μm, and the maximum height Ry based on JIS is made to satisfy 7 μm≤Ry≤20 μm.例文帳に追加

焼成用定盤の、ＰＤＰ処理基板と接する側の表面のＪＩＳに基づく算術平均粗さＲａを１．０μｍ≦Ｒａ≦５．０μｍとし、かつ、ＪＩＳに基づく最大高さＲｙを、７μｍ≦Ｒｙ≦２０μｍとなるようにする。 - 特許庁

Although the supplying pump 1 has to be continuously driven by a motor in the conventional Rankine cycle Ra, it can be driven by the expander 4 using the Rankine cycle Ra so that the expander 4 continues to drive the supplying pump 1 as far as it is supplied with heat energy, so the expansion energy is continuously received to continue the operation of the Rankine cycle Ra.例文帳に追加

また、従来のランキンサイクルＲａであれば給液ポンプ１はモータ等で駆動し続けなければならないが、本発明ではランキンサイクルＲａを用いた膨張４によって駆動することができるため、熱エネルギーが供給される限り膨張機４は給液ポンプ１を駆動し続け、結果膨張エネルギーを受け続けてランキンサイクルＲａの運転を続けることができる。 - 特許庁

A selector 14 gives a read address RA, whose number is sequentially increased to the memory 12, and a selector 15 gives read data to a speed conversion section 6.例文帳に追加

セレクタ１４は順次増加する読出アドレスＲＡをメモリ１２に与えて読み出されたデータをセレクタ１５から速度変換部６に供給する。 - 特許庁

In addition to the increase in exchange-bias magnetic field in the AFM layer 12, the resistance-area (RA) product and the MR ratio which contribute to reproducing characteristics are increased.例文帳に追加

ＡＦＭ層１２において交換バイアス磁界が増加すると共に、再生特性に寄与する抵抗（ＲＡ）およびＭＲ比が増加する。 - 特許庁

Preferably, the surface mean roughness (Ra) after the pickling is 1.5 to 2.5 μm, and Rmax is 10 to 20 μm.例文帳に追加

また、酸洗後の表面平均粗度（Ｒａ）が１．５μｍ以上２．５μｍ以下で、Ｒmax が１０μｍ以上２０μｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

Preferably, a center line average roughness Ra of the driven gear (the worm wheel 12) is set to be 0.9 μm or less.例文帳に追加

好適には、図（ｂ）に示すように、従動ギヤ（ウォームホイール１２）の中心線平均粗さＲａは、０．９μｍ以下に設定してある。 - 特許庁

The surface of the thick film conductor layer 2 is flattened to surface roughness Ra of 0.02 μm or less by wet-blast treatment.例文帳に追加

この厚膜導体層２は、表面がウェットブラスト処理により０．０２μｍ以下の表面粗さＲａに平坦化されている。 - 特許庁

The roughened surface 162 of the conductor circuit 158 exposed by the etching is set to a mean roughness Ra of 1 μm or smaller.例文帳に追加

当該エッチング処理により露出した導体回路１５８の粗化層１６２の平均粗度（Ｒａ）を１μｍ以下にする。 - 特許庁

To obtain a TMR head which allows reduced deterioration in the MR ratio in a region in which area resistance RA of a TM sensor is 1.0 Ωμm^2 or less.例文帳に追加

ＴＭＲセンサの面積抵抗ＲＡが1.0Ωμm^2以下の領域で、ＭＲ比の劣化の少ないＴＭＲヘッドを得る。 - 特許庁

To provide a magnetic tunnel junction element comprising a low magnetization cap layer capable of achieving a high MR ratio and an excellent RA value.例文帳に追加

高いＭＲ比と良好なＲＡ値とを達成可能な低磁化キャップ層を備えた磁気トンネル接合素子を提供する。 - 特許庁

In this case, even in the case of V(Ra)≠0, vibration is not generated at a position having a state of sin(nθ)=0, relative to displacement in the Tangential direction.例文帳に追加

このとき、Ｖ（Ｒａ）≠０であっても、Ｔａｎｇｅｎｔｉａｌ方向の変位は、ｓｉｎ（ｎθ）＝０となる位置においては振動が生じない。 - 特許庁

This toilet seat 10 has recesses/projections with irregular heights due to aggregates 4 and the arithmetic mean roughness Ra is 0.4-1.5 μm.例文帳に追加

便座１０は、骨材４によって高さにバラツキのある凹凸を有し、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．４〜１．５μｍである。 - 特許庁

To provide a tunnel junction type magnetoresistive effect element with little degradation of an MR ratio in a region where area resistance RA is ≤1.0 Ωμm^2.例文帳に追加

面積抵抗ＲＡが１．０Ωμｍ^2以下の領域で、ＭＲ比の劣化の少ないトンネル型磁気抵抗効果素子を得る。 - 特許庁

The thick conductor layer 2 has its surface flattened by wet blast processing to a surface roughness Ra of at most 0.02 μm.例文帳に追加

この厚膜導体層２は、表面がウェットブラスト処理により０．０２μｍ以下の表面粗さＲａに平坦化されている。 - 特許庁

To provide a magnetoresistive device having a high giant magnetoresistance (GMR) value and a moderate low resistance area product (RA).例文帳に追加

高い巨大磁気抵抗（ＧＭＲ）値と中程度に低い抵抗面積積（ＲＡ）とを有する磁気抵抗装置を提供する。 - 特許庁

In the image editing apparatus, the attachment resolution Ra of an optional image A attached to an optional image frame F is calculated.例文帳に追加

画像編集装置は、任意の画像フレームＦに貼り付けられた任意の画像Ａの貼り付け解像度Ｒａを算出する。 - 特許庁

In a method for measuring the impact of the robot arm, the robot arm R is held with a braking torque applied to a joint portion Ra of a base end thereof by a torque limiter 4.例文帳に追加

ロボットアームＲをその基端の関節部Ｒａにトルクリミッタ４により制動トルクを付与した状態で保持する。 - 特許庁

The surface roughness Ra of the surface layer 4 is controlled in a range of 0.5 to 3.5 by the add amount of the phenol resin particles.例文帳に追加

表面層４の表面粗さＲａは，フェノール樹脂粒子の添加量により，０．５〜３．５の範囲内に調整されている。 - 特許庁

The substrate K is provided with stripe like ribs Ra or lattice like ribs Rb as shown by figure 3 to form the projecting and recessed parts.例文帳に追加

基板Ｋには、図３に示すような、ストライプ状のＲａや井桁状のリブＲｂが設けられ、凸凹状をなしている。 - 特許庁

Al and the balance Zn with impurities and no η phase to form the surface layer consisting essentially of Zn compound in the coated layer.例文帳に追加

表面の算術平均粗さ[Ra]が0.5 μｍ以上、1.5 μｍ以下で、表面層中のZn量[Zn](mg/m^2) が次式を満たすようにする。 - 特許庁

In order to attain sufficiently high level of effects, the surface roughness of the ribbon should preferably be 0.45μm or less as measured by Ra.例文帳に追加

また、本発明の効果を十分に発揮するためには、その表面粗さをＲａで０．４５μｍ以下とすることが好ましい。 - 特許庁

A database update section 103 uses router identification information or the like included in the received RA packet to update a database 102.例文帳に追加

データベース更新部１０３は、受信したＲＡパケットに含まれるルータ識別情報などを用いてデータベース１０２を更新する。 - 特許庁

(2) Roughness of a surface (Ra), on which the insulator layer of the first ferromagnetic body layer is formed, is made to be ≤2.5.例文帳に追加

(2)第一の強磁性体層の絶縁体層を形成させる面の粗さを、Ｒａにて2.5 以下とする上記素子の製造方法。 - 特許庁

Continuously, the deviation in angles with respect to the optical axis of the lens 2 is corrected by rotating the base 4A in the radial direction Ra.例文帳に追加

引き続いて、ダンパベース４Ａをラジアル方向Ｒａに回転させて、対物レンズの光軸に対する角度ずれを修正する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a biaxially oriented polyester film which can realize the desired surface roughness (Ra) of a film surface when calcium carbonate is used as a lubricant.例文帳に追加

滑剤として炭酸カルシウムを用いた時に、所望のフィルム表面のＲａを実現する製造方法を提供する。 - 特許庁

The surface roughness on a peripheral direction of the internal diameter surface 11c of the shell type outer ring 11 is in a range of Ra 0.05 to 0.3 μm.例文帳に追加

シェル型の外輪１１の内径面１１ｃの周方向面粗度を、Ｒａ０．０５〜０．３μｍの数値範囲とする。 - 特許庁

To provide an ITO film having a surface roughness (Ra) of ≤1 nm without any new manufacturing step such as a polishing step.例文帳に追加

研磨のような新たな製造工程を経ること無く表面粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ以下であるＩＴＯ膜を提供すること。 - 特許庁

An X-ray protection door D is opened to move the CT gantry 40 into the blood vessel imaging room Ra, and blood vessel imaging and computed tomographing for the subject Ha are done alternately for example, every five minutes in the blood vessel imaging room Ra.例文帳に追加

Ｘ線防護ドアＤを開けてＣＴガントリ４０を血管撮影室Ｒａに移動し、血管撮影室Ｒａで被検体Ｈａに対する血管撮影とＣＴ撮影とを例えば５分間毎に交互に行う。 - 特許庁

Further, the switching control part 32 outputs the addition value (Ra+Rp) of the assist slope Ra and the R/B gain slope Rp to a filter constant operation part 30 and an assist slope gain operation part 31 at execution of torque feedback control.例文帳に追加

そして、切替制御部３２は、トルクフィードバック制御の実行時には、アシスト勾配ＲaとＦ／Ｂゲイン勾配Ｒpとの加算値（Ｒa＋Ｒp）を上記フィルタ定数演算部３０及びアシスト勾配ゲイン演算部３１へと出力する。 - 特許庁

Intermediate tomographic data ra(z) and rb(z) are respectively acquired from the respective interference signals ISa and ISb and tomographic data r(z) is formed from the intermediate tomographic data ra(z) and rb(z) to form a tomographic image.例文帳に追加

各干渉信号ＩＳａ、ＩＳｂからそれぞれ中間断層情報ｒａ（ｚ）、ｒｂ（ｚ）が取得され、中間断層情報ｒａ（ｚ）、ｒｂ（ｚ）から断層情報ｒ（ｚ）が生成され、断層画像が生成される。 - 特許庁

Ink is aqueous ink of which the viscosity at 25°C is 20-600 mPa.sec at a shearing speed of 38.4 sec^-1 and 10-120 mPa.sec at a shearing speed of 384 sec^-1 and the arithmetic average roughness (Ra) of the surface of a leading end ball is set to 0.005-0.030 μm.例文帳に追加

前記インクは、摂氏25度における剪断速度38.4sec^-1の粘度が20mPa・sec以上600mPa・sec以下、かつ剪断速度384sec^-1の粘度が10mPa・sec以上120mPa・sec以下の水性インクであり、前記先端ボールは、表面の算術平均粗さ(Ra)が、0.005μm以上0.030μm以下とした。 - 特許庁

The saddle face 27 is comprised of a main face 36 of a curvature of radius Ra to which the ring 11 mainly abuts and an end face 37 of a curvature of radius Rb smaller than the curvature of radius Ra formed on the pillar side of the main face 36.例文帳に追加

サドル面２７は、リング１１が主に当接する曲率半径Ｒａの主面３６と、主面３６よりピラー側に形成され曲率半径Ｒａより小さい曲率半径Ｒｂの端部面３７とを有する。 - 特許庁

Further, when the switch MSW is off, switch circuits SWA, SWB connected in series with the resistors RA, RB are turned off to prevent useless current from flowing through terminals a, b at a low level via the resistors RA, RB.例文帳に追加

また、スイッチＭＳＷがオフしている時、抵抗ＲＡ、ＲＢと直列に接続されたスイッチ回路ＳＷＡ、ＳＷＢをオフし、抵抗ＲＡ、ＲＢを介してローレベルにある端子ａ、ｂへ無駄な電流が流れることを防止する。 - 特許庁

The centerline average height (Ra) of the contact surface with the wire of the guide capstan is 0.05 μm or less and the centerline average height (Ra) of the contact surface with the wire of the driving capstan is 0.005 to 0.05 μm.例文帳に追加

案内キャプスタンのワイヤとの接触面の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）が０．０５μｍ以下であり、かつ、駆動キャプスタンのワイヤとの接触面の中心線平均表面粗さ（Ｒａ）が０．００５〜０．０５μｍである。 - 特許庁