Ra toの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1265件
An ADC 4 converts a known analog reference signal RA to a digital reference signal RD and gives it to a correction signal generating section 5.例文帳に追加
ADC4は,既知のアナログ参照信号R_Aをディジタル参照信号R_Dに変換し,補正信号作成部5に与える。 - 特許庁
The ARs 111 to 118 transmit the router advertisement RA generated by the MAP 101 to an MN (e.g., MN 107) during communication.例文帳に追加
AR111〜118は、MAP101が生成したルータ広告RAを通信中のMN(例えばMN107)に送信する。 - 特許庁
The surface roughness Ra of a face of a single crystal 116 which contacts to a raw material molten liquid 104 is controlled to be 0.5 μm or less.例文帳に追加
種結晶体116の原料溶融液104と接触する面の表面粗さRaを0.5μm以下とする。 - 特許庁
The angle of the chamfer honing is -15° to 60° and a surface roughness Ra of the chamfer honing portion is 0.05 μm to 10 μm.例文帳に追加
チャンファホーニングの角度は−15〜60°とし、チャンファホーニング部の面粗さRaは0.05μm以上10μm以下とする。 - 特許庁
The sealed type retroreflective sheet having 0.1 to 1.0 μm surface roughness Ra and excellent characteristics in the antistatic property and printing property is obtained by applying a resin for the binder resin layer having 80 to 400 cP viscosity during coating on the process base material subjected to blast treatment.例文帳に追加
塗工時における粘度が80〜400cPである結合剤層樹脂をブラスト処理された工程基材に塗工することによって、帯電防止性、印刷性に優れた特性を持つ表面粗さRaを0.1〜1.0μmの封入型再帰反射シートを得る。 - 特許庁
Cell selection circuits 2, 3 are operative to select from the memory cell array MA a memory cell MC whose data is to be read, and to select from the reference cell array RA a reference cell RA at a position corresponding to a position of the memory cell MC selected in the memory cell array MA.例文帳に追加
セル選択回路2,3は、メモリセルアレイMAの中からデータを読み出すメモリセルMCを選択すると共に参照セルアレイRAの中からメモリセルアレイMAにおける選択されたメモリセルMCの位置に対応する位置の参照セルRAを選択する。 - 特許庁
Then, the control unit 100 calculates a tempo Tp for indicating it to a performance unit 17, according to Tp=kt×Tp0×Ra using the extracted numeric value Ra, the standard tempo Tp0, and a predetermined coefficient kt.例文帳に追加
そして、制御部100は、抽出した数値Ra、標準テンポTp0、および予め定められた係数ktを用いてTp=kt×Tp0×Raに従い、演奏部17に指定するテンポTpを算出する。 - 特許庁
The control unit 100 calculates a delay amount Dp for indicating it to an effector 12, according to Dp=kd×Dp0/Ra, using the specified reference delay amount Dp0, the numeric value Ra, and a predetermined coefficient kd.例文帳に追加
そして、制御部100は、特定した基準ディレイ量Dp0、数値Ra、および予め定められた係数kdを用いてDp=kd×Dp0/Raに従い、エフェクタ12に対して指定するディレイ量Dpを算出する。 - 特許庁
Fine ruggedness of 0.5 to 5.0 μm by arithmetic mean surface roughness Ra is applied to the surface (3a) of the surface treatment layer, and further, the mean spacing S of the local crests of the fine ruggedness is controlled to 0.5 to 50 μm, and also, an S/Ra ratio is controlled to <10.例文帳に追加
表面処理層の表面(3a)には0.5μm〜5.0μmの算術平均表面粗さRaで微細凹凸を与えるとともに、微細凹凸の局部山頂の平均間隔Sを0.5μm〜50μm、且つ、S/Ra比を10未満としたことを特徴とする。 - 特許庁
It is desirable that arithmetic surface roughness (Ra) on the surface 133A of the board 133 is set to be 1 to 10 μm.例文帳に追加
防着板133の表面133Aも、算術表面粗さ(Ra)が1μm以上10μm未満とされていることが好ましい。 - 特許庁
The film thickness T of the resin coating film 4 is 0.05 to 1.0 μm, and the surface roughness Ra of the base 2 is 0.1 to 0.8 μm.例文帳に追加
樹脂塗膜4の膜厚Tは0.05μm〜1.0μmであり、基板2の表面粗さRaは0.1μm〜0.8μmである。 - 特許庁
Surface roughness of an inner wall face of the outer cup 22 is adjusted to Ra of 0.5 to 10.0 so that it functions as a hydrophilic front surface.例文帳に追加
外カップ22の内壁面は親水性表面として機能するように表面粗度がRa0.5〜10.0に調整されている。 - 特許庁
Surface roughness Ra on the clamp reference surface 3a is set to 120 nm or higher, and its dynamic friction coefficient is set to 0.5 or higher.例文帳に追加
そして、クランプ基準面3aにおける表面粗さRaを120nm以上として、その動摩擦係数を0.5以上とする。 - 特許庁
The surface roughness is set as follows; Ra=0.08 to 0.10 μm, Rz=0.45 to 0.60 μm, and the pitch P of the linear groove is about 17 μm.例文帳に追加
その表面粗さは、Ra=0.08〜0.10μm、Rz=0.45〜0.60μmであり、線状溝のピッチPは約17μmである。 - 特許庁
The part which is coupled to the encoder 4, however, is formed as a rough surface of about 1.0 to 1.5 Ra, and the coupling strength is endured.例文帳に追加
これに対して、上記エンコーダ4を結合する部分を1.0〜1.5Ra程度の粗面として、上記結合強度を確保する。 - 特許庁
A sheet stock 1 consists of an aluminum alloy containing 2.0 to 6.0 mass% Mg and having surface roughness of 0.1 to 2 μm by Ra.例文帳に追加
素板1は、Mg含有量が2.0乃至6.0質量%、表面粗度がRaで0.1乃至2μmのアルミニウム合金からなる。 - 特許庁
The surface roughness (Ra) of the cleaning sheet 13 is 0.01 to 1 μm and the hardness of the elastic body 12 is Hs10 to Hs100.例文帳に追加
クリーニングシート13の表面粗さ(Ra)を0.01μm〜1μmとし、弾性体12の硬度をHs10〜Hs100とする。 - 特許庁
The arithmetic average roughness Ra of the surface of the active material support forming the intermediate layer 231 is controlled to 4 to 10 μm.例文帳に追加
中間層231を形成する活物質支持体の表面の算術平均粗さRaを4μm以上10μm以下とする。 - 特許庁
The output-adjusting resistances RV1 to RV4 are composed of resistances RA, for coarse adjustment and resistances VR. for fine adjustment, which are composed of variable resistances, Temperature-sensitive resistances are used at least for the resistances RA for coarse adjustment.例文帳に追加
出力調整抵抗RV1〜RV4は、粗調用抵抗RAと可変抵抗からなる微調用抵抗VRとから構成し、少なくとも粗調用抵抗RAに感温抵抗を用いる。 - 特許庁
The optimal MR/RA area (value) is determined by referring to a sense time constant curve showing the relation of the MR ratio/RA and the sense time based on the significantly considered application determined in the step S2 in a step S3.例文帳に追加
ステップS3において、ステップS2で決定した重視用途に基づき、MR比,RAとセンス時間の関係を示すセンス時間一定曲線を参考にして、最適MR/RA領域(値)を決定する。 - 特許庁
The wrap film storage case includes a core member 1 to be inserted in a wrap film roll R in which a wrap film Ra is wound in a roll shape, and a casing 2 in which the wrap film roll R is stored therein and the wrap film Ra can be delivered therefrom.例文帳に追加
ラップフィルムRaがロール状に巻回されたラップフィルムロールRに挿入される芯部材1と、ラップフィルムロールRを内部に収納してラップフィルムRaを繰出し可能にするケーシング2とを備えている。 - 特許庁
The color filter pixels are polished almost to 1.7 nm center line mean roughness (Ra), the transparent conductive film of ≥1.76 nm in center line mean roughness (Ra) is formed, and the spacer column is formed on the transparent conductive film.例文帳に追加
カラーフィルタ画素を中心線平均粗さ(Ra)1.7nm近くまで研磨し、中心線平均粗さ(Ra)1.76nm以上の透明導電膜を形成し、スペーサ柱を透明導電膜上に形成すること。 - 特許庁
The highest order router R1 receives the route information notification from the intermediate layer router Ra, and prepares a route whose network address "xxxx::1" to the mobile terminal MN1 destination is present in the intermediate layer router Ra.例文帳に追加
最上位ルータR1は中間層ルータRaから経路情報通知を受信すると、移動端末MN1宛のネットワークアドレス「xxxx::1」が中間層ルータRaに居るという経路を作成する。 - 特許庁
In measurement conforming to JIS B 0601, surface roughness Ra of both the front and rear of the base film is not more than 0.8 μm and that Ra of at least one surface is not less than 0.05 μm (1).例文帳に追加
1)JIS B0601に準拠して測定したときの、基材フィルムの表裏両面の表面粗さRaが0.8μm以下であり、かつ少なくとも一方の面の表面粗さRaが0.05μm以上である。 - 特許庁
Each section is often inscribed with the Shuji (種子) (Sanskrit letters) or Chinese letters from top to bottom, kha (void, or 空), ha (air, or 風), ra (fire, or 火), va (water, or 水), and a (earth, or 地), and in Nichiren and Tendai sect temples sometimes Gorinto are inscribed with the five Chinese letters '妙法蓮華経' (the Lotus Sutra). 例文帳に追加
それぞれの部位に「空(キャkha)、風(カha)、火(ラra)、水(バva)、地(アa)」の種子や漢字を刻むことが多いが、天台宗・日蓮宗の寺院では「妙法蓮華経」の五字が刻まれる場合がある。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
To provide a method and device for manufacturing a magnetoresistive effect element having a high MR ratio (Magnetoresistance ratio) even at a low RA (electrical resistance value).例文帳に追加
低RAでも高MR比を有する磁気抵抗効果素子の製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁
In a plasma chemical vapor phase deposition(CVD) apparatus, the surface roughness (Ra) of a member in a vacuum tank is set to be ≤5.0 μm.例文帳に追加
プラズマ化学気相堆積(CVD)装置において、真空槽内の部材の表面粗さ(Ra)を5.0μm以下とする。 - 特許庁
The first score line 430 is formed so as to surround a region RA pressed by the tab, in the panel 400.例文帳に追加
第1スコア線430は、パネル400のうちのタブにより押圧される領域RAを囲むように形成されている。 - 特許庁
The transfer object has an average surface roughness Ra (in conformity to JIS-0601-1994) of 0.1-1.5 μm.例文帳に追加
さらに、被転写体の表面平均粗さRa(JIS−0601−1994に準拠)を0.1〜1.5μmとする。 - 特許庁
In the stage 24 for projecting the solid particles, the average roughness Ra of the surface of the steel sheet is adjusted to 0.5-2.0 μm.例文帳に追加
固体粒子を投射する工程24では、鋼板表面の平均粗さRa0.5〜2.0μmに調整する。 - 特許庁
Means 1: the cam lobe comprises iron-based sintered material, and surface roughness Ra of its outer circumferential surface is set to be 0.4-2.2 μm.例文帳に追加
(手段1)鉄系焼結材からなるカムロブを用い、その外周面の表面粗さRaを0.4〜2.2μmとする。 - 特許庁
Surface roughness Ra of the polishing work-applied first and second margin parts is set in a range of 0.1 μm to 0.3 μm.例文帳に追加
ポリッシュ加工が施された第1,第2マージン部の表面粗さRaを、0.1μm〜0.3μmの範囲に設定する。 - 特許庁
Next, the average roughness Ra of the center line on the surface of the raceway 1c is finished to be ≥0.35 μm by turning.例文帳に追加
次いで、旋削によって当該軌道部1cの表面の中心線平均粗さRaを0.35μm以上に仕上げる。 - 特許庁
The randomized input data RA is separated into 8-bit data parts sequentially from higher-order bits to produce ra0, ra1, ra2, and ra3.例文帳に追加
ランダム化入力データRAは、上位から8ビットずつ分割されて、ra0、ra1、ra2、ra3とされる。 - 特許庁
The center line average roughness Ra of the substrate 111 in contact with the developer is controlled to be between 0.2 μm and 0.5 μm.例文帳に追加
基板111の現像剤接触面の中心線平均粗さRaを0.2μm以上0.5μm以下とする。 - 特許庁
To provide a bridge apparatus for relieving a processing load imposed on a communication terminal caused by reception of an RA packet periodically transmitted from a router.例文帳に追加
ルータから定期的に送信されるRAパケットを受信することによる通信端末の処理負荷を軽減する。 - 特許庁
Plastic working is applied to a magnesium alloy stock, a surface roughness of a principal part after plastic working is ≤70 μm Ra.例文帳に追加
マグネシウム合金素材に塑性加工を施し、塑性加工後の主要部の表面粗さを70μmRa以下にする。 - 特許庁
To provide apparatuses and methods for handling timers for RA update procedures or attachment procedures without integrity protection.例文帳に追加
完全性保護のないRA更新手順又はアタッチ手順用のタイマを処理する装置及び方法を提供する。 - 特許庁
Among them, the carbon coated layer 13 is used in which the surface roughness Ra of the layer surface 13a is 0.5 to 1.0 μm.例文帳に追加
このうち、カーボンコート層13は、層表面13aの表面粗さRaが0.5μm〜1.0μmとされてなる。 - 特許庁
The average surface roughness Ra of the light extraction side surface of the transparent protective layer 7 is set to 5-30 nm.例文帳に追加
透明保護層7の光取り出し側面の表面平均粗さRaを、5nm以上30nm以下に設定する。 - 特許庁
Preferably, the ratio Ra of a surface occupied by the whole thickness part Pt to the whole surface of the sole is 15% or more.例文帳に追加
好ましくは、ソール面積のうち、上記全厚み部Ptの占める面積の割合Raが、15%以上である。 - 特許庁
The surface roughnesses Ra of the raceway surfaces 1a, 2a subjected to these treatment are between 0.01 μm and 0.07 μm.例文帳に追加
これらの処理が施された軌道面1a,2aの表面粗さRaは、0.01μm以上0.07μm以下である。 - 特許庁
The glass substrate for a magnetic disk has a conductive film having 0.1 to 1.5 nm average surface roughness (Ra) on a glass plate.例文帳に追加
ガラス板上に平均表面粗さ(R_a )が、0. 1〜1.5nmである導電性膜を有する磁気ディスク用ガラス基板。 - 特許庁
The arithmetic average roughness Ra of the surface of the high polymer film opposed to the toner carrier 12 is 0.01-2μm.例文帳に追加
高分子フィルムのトナー担持体12に対向する表面の算術平均粗さRaは0.01μm〜2μmである。 - 特許庁
The hearth roll has the roughness parameter Ra measured by setting the cut-off value to 2.5 mm of ≥2 μm.例文帳に追加
カットオフ値を2.5mmに設定して測定した粗さパラメータRaが2μm以上であることを特徴とするハースロール。 - 特許庁
An electric motor MOT capable of transmitting power to a first input element Ra of the planetary gear mechanism PG1 is provided.例文帳に追加
遊星歯車機構PG1の第1入力要素Raに動力を伝達自在な電動機MOTが設けられる。 - 特許庁
When multiple exposure is carried out, organic EL elements Ra corresponding to the non-print parts are turned on during one horizontal scan in (a).例文帳に追加
多重露光を行う際に、(a)では1主走査中に非印字部に対応する有機EL素子Raを点灯する。 - 特許庁
In the pre-processing process, the roughness of the surface is adjusted to Ra 1.0μm or more and 3.0μm or less.例文帳に追加
そして、前処理工程においては、Ra1.0μm以上3.0μm以下となるように表面の粗さが調整される。 - 特許庁
Second substrate conveyors RA-CH-1, RA-CH-2, RA-CH-3 only convey the substrate 1 from prescribed one of the heating parts CH-1-H, CH-2-H, CH-3-H to specified one of cooling parts CH-1-C, CH-2-C, CH-3-C, respectively.例文帳に追加
第2の基板搬送装置RA−CH−1,RA−CH−2,RA−CH−3は、それぞれ、特定の1つの加熱処理部CH−1−H,CH−2−H,CH−3−Hから特定の1つの冷却処理部CH−1−C,CH−2−C,CH−3−Cへの基板1の搬送のみを行う。 - 特許庁
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