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PATTERN FORMATIONの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2870



例文

In the pixel formation area preformed on a transparent substrate, an ink layer is formed by selectively sticking the curable color ink of40 wt.% in solid-component density which contains a pigment and a curable component with an ink jet method, and the ink layer is cured by light irradiation and/or heat irradiation to form a prescribed pattern.例文帳に追加

透明基板上に予め形成される画素形成領域に、顔料および硬化可能な成分を含む固形分濃度が40重量%以上である硬化性カラーインクを、インクジェット法によって選択的に付着させて、インク層を形成し、該インク層を、光照射および/または熱照射によって硬化させて所定のパターンを形成する。 - 特許庁

A formation pattern of an adhesive 13 for adhesively holding the movable contact 11 on a base sheet 12 is arranged as a circular arc part 13A formed by dividing a circumference of a circular ring into equally-shaped four parts, and four linear parts 14 on which the adhesive 13 is not applied are formed so as to extend radially from the center of the movable contact 11 at nglean equal angle.例文帳に追加

可動接点11をベースシート12に粘着保持させるための粘着剤13の形成パターンを、一つの円形リングの円周を均等に四分割する円弧部13Aとして設け、粘着剤13の非形成部分としてなる四つの直線部14が可動接点11の中心から均等角度位置に放射状で配される構成とした。 - 特許庁

To provide a method capable of using a rugged pattern formed according to an imprinting process as a mask for controlling a micropore production initiating position when performing micropore formation onto substrate material such as aluminum and silicon according to an electrochemical process and, thereby, efficiently and reliably forming a regular hole array structure.例文帳に追加

インプリントプロセスにより形成される凹凸パターンを利用し、その凹凸パターンを、アルミニウムやシリコン等の基材材料に電気化学プロセスにより細孔形成を行う際の細孔発生開始位置の制御を行うためのマスクとして使用することで規則的なホールアレー構造を効率良く確実に形成できるようにした手法を提供する。 - 特許庁

To provide a high-storage stability dispersion composition having a high dispersibility of titanium black and not undergoing titanium black settlement even after a lapse of time; and to provide a photosensitive composition which, when used in pattern formation, prevents residues in an unexposed area and has a high adhesion sensitivity, a light-shielding color filter of a high light-shielding property, a solid state imaging device, and a liquid display device.例文帳に追加

チタンブラックの分散性が高く、経時後もチタンブラックが沈降しない保存安定性の高い分散組成物を提供し、パターン形成したときに未露光部における残渣が抑制され、さらに密着感度が高い感光性組成物、遮光性の高い遮光性カラーフィルタ、固体撮像素子、及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a method for forming an electrode or a wiring pattern, which is made of a metal thin film that is uniform and has high adhesiveness, from a solution-free and resin-free raw material containing no solution and no resin component, by using an aerosol deposition method having a different film-formation principle from those of a screen printing method using a conventional metal paste composition, a photo-lithographic method and the like.例文帳に追加

従来の金属ペースト組成物を用いたスクリーン印刷法、フォトリソグラフィー法等とはその成膜原理が異なるエアロゾルデポジション法を用い、溶液や樹脂成分を含まない溶液,樹脂フリーの原料から、均一かつ密着性の高い金属薄膜からなる電極又は配線パターンを形成することができる方法を提供する。 - 特許庁


例文

An image pattern for consuming toner is formed to forcibly consume toner before the first image formation after a developer supplied state is attained by dropping the developer 13 from a supply developer storing part 21 into a developer storing case 17 and the toner 13a from a supply toner storing part 22 into a toner hopper, respectively.例文帳に追加

現像剤13が投入用現像剤収容部21から現像剤収容ケース17内に、トナー13aが投入用トナー収容部22からトナーホッパ内にそれぞれ落下して投入された状態になってから初めての画像形成を行う前に、トナー消費用画像パターン形成を行い、強制的にトナーを消費させる。 - 特許庁

To solve the problem that Lov dimensions in a TFT cannot be formed with excellent controllability since a resist pattern sidewall tapering angle occurs from a desired tapering angle, in a photolithography process utilizing diazo naphto quinone(DNQ)-novolac resin-based positive resist in the gate electrode formation process of a GOLD structure TFT.例文帳に追加

GOLD構造TFTのゲート電極形成工程のジアゾナフトキノン(DNQ)−ノボラック樹脂系ポジレジストを利用するフォトリソグラフィ工程に於いて、レジストパターン側壁テーパー角が所望のテーパー角より起っている為、当該TFTのLov寸法を制御性良く形成できない問題があり、この問題を解決することを課題とする。 - 特許庁

In this treatment, the developed original disk is subjected to original disk surface hydrophilic treatment, susceptibility treatment, a first activation treatment, a second activation treatment, nonelectrolytic zinc oxide plating treatment and nonelectrolytic nickel plating treatment according to the conductive coating film formation treatment to form a conductive coating film of nickel on an information pattern surface side of the original disk 3.例文帳に追加

本処理では、現像処理後の原盤に図4のフロー図に示す導電性被膜形成処理に従って原盤表面親水化処理、感受性化処理、第1の活性化処理、第2の活性化処理、無電解酸化亜鉛めっき処理、無電解ニッケルめっき処理を順に行うことにより原盤3の情報パタン面側にニッケルの導電皮膜を形成する。 - 特許庁

To provide an ink jet recorder which can easily and appropriately control a hitting position of ink (formation position of dots) by controlling a scanning speed according to a distance interval between a recording head and a recording medium, controlling a discharge speed of ink to be discharged from the recording head, adjusting a discharge timing of ink by an appropriate test pattern, or the like manner.例文帳に追加

記録ヘッドと記録媒体の距離間隔に応じて走査速度を制御し、又は、記録ヘッドより吐出するインクの吐出速度を制御し、或いは、適切なテストパターンによってインクの吐出タイミングを調整すること等によってインクの着弾位置(ドットの形成位置)を容易に且つ適切に制御することのできるインクジェット記録装置を提供すること。 - 特許庁

例文

In adjacent light-emitting units 160, each color element 92 of the light-emitting element 90, and a frequency 170 of a vibration added for formation of the ruggedness on the interface of a hole transport layer 54 are arranged in a given alignment pattern so that frequencies 170 of the vibration given at least one or more color elements of the same color are to be different.例文帳に追加

隣接する発光単位160において、少なくとも1つ以上の同一色の色要素92に与える振動の周波数170を異なるようにすべく、発光層90の各色要素92と、正孔輸送層54の界面に凸凹を形成すべく付加する振動の周波数170とを所定の配置パターンに従い配置する。 - 特許庁

例文

The Ni film is dissolved and removed using mixed acid aqueous solution containing 15-25 wt.% of sulfuric acid and 5-15 wt.% of nitric acid when the Ni film formed on the surface of the mask member is removed from the mask member made of stainless steel used for forming the Ni film in a prescribed pattern on a substrate by a thin film formation technique.例文帳に追加

薄膜形成技術によって基材上に所定のパターンでNi膜を形成するために使用される、ステンレス鋼製のマスク部材について、その表面に形成されたNi膜を除去するにあたり、硫酸を15〜25wt%、硝酸を5〜15wt%含有する混酸水溶液を用いて、前記Ni膜を溶解、除去することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a positive acting resist composition which is suitably used in a super-microlithography process and other photofabrication processes of manufacturing a VLSI and a high-capacity microchip and has excellent line edge roughness and further a positive acting resist composition which has superior resolving power, defocusing latitude, and an exposure margin in contact-hole pattern formation.例文帳に追加

超LSIや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、ラインエッジラフネスが良好なポジ型レジスト組成物、また更にコンタクトホールパターン形成において解像力及びデフォーカスラチチュード、露光マージンにも優れたポジ型レジスト組成物を提供することである。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus, control method thereof, program, recording medium with the program recorded thereon, and a process cartridge with which image formation is performed using a single color and a plurality of colors other than an uncorrectable color by performing correction on colors other than an undetectable color if an image position deviation correcting pattern can not be detected.例文帳に追加

画像位置ずれ補正用パターンを検出できない場合には、検出できない色以外に関して補正を行い、単色及び補正ができない色を使用しない複数色を使用して画像形成を行う画像形成装置、該装置の制御方法、プログラム、及び該プログラムを記録した記録媒体、プロセスカートリッジを提供することを目的とする。 - 特許庁

The alignment mask D of the head unit 1 carrying a plurality of the droplet delivery heads 3 on the single carriage 2 is provided with a master plate 161 being a pattern formation of a reference position 164 of each droplet delivery head 3 in a planar surface parallel to the nozzle formative surface 52 of the droplet delivery head 3 and a reference position 165 of the carriage 2.例文帳に追加

単一のキャリッジ2に複数の液滴吐出ヘッド3を搭載したヘッドユニット1のアライメントマスクDであって、液滴吐出ヘッド3のノズル形成面52に平行な平面内における各液滴吐出ヘッド3の基準位置164およびキャリッジ2の基準位置165をパターン形成したマスタプレート161を備えたものである。 - 特許庁

To obtain such an inorganic particle-containing resin composition and a transcribing film usable suitably for forming a pattern with a high dimensional accuracy and that is excellent in the storage stability and is preferably used for the formation of a panel material such as a dielectric layer in a plasma display panel, an electrode, a phosphor, a color filter, a partition wall and a black stripe (a matrix).例文帳に追加

寸法精度の高いパターンを形成するために好適に使用することが可能な、保存安定性に優れる、プラズマディスプレイパネルの誘電体層、電極、蛍光体、カラーフィルター、隔壁、ブラックストライプ(マトリクス)などのパネル材料の形成に好ましく用いられる無機粒子含有樹脂組成物および転写フィルムを提供すること。 - 特許庁

To enhance fine dispersibility of a pigment of a pigment dispersion composition to enhance storage stability and coloring force, to enhance optical sensitivity, storage stability, coloring force, a support adhesiveness and developability of a coloring curable composition to suppress reduction of a development residue and a color concentration (removal of color), and to attain formation of pattern of sufficient cross section shape.例文帳に追加

顔料分散組成物の顔料の微細分散性を高め、保存安定性、着色力を向上し、着色硬化性組成物の光感度、保存安定性、着色力、支持体密着性、及び現像性を高め、現像残渣及び色濃度の低下(色抜け)を抑え、良好な断面形状のパターン形成を可能にする。 - 特許庁

On a TFT array substrate 10 of the reflection type electrooptic device 100, an unevenness formation layer 6g in the same layer the a data line 6a is formed in a specified pattern below a light reflecting film 8a and a photosensitive resin layer 7a is formed of photosensitive resin 7 above it by half-exposure through an exposure mask 200, development, and heating.例文帳に追加

反射型電気光学装置100のTFTアレイ基板10において、光反射膜8aの下層側には、データ線6aと同層の凹凸形成層6gが所定のパターンで形成され、その上層には、感光性樹脂7に対して、露光マスク200を介してのハーフ露光、現像、および加熱を行って感光性樹脂層7aを形成してある。 - 特許庁

This method for manufacturing electronic parts for a high frequency a process for performing pattern formation of a plated resist 2 on the surface of a ceramic element assemble or a ceramic element assembly 1 for a dielectric resonator, a process for forming an electroless plating film 5, a process for forming an electroplating film 6 and a process for peeling the plated resist 2.例文帳に追加

本発明に係る高周波用電子部品の製造方法は、セラミック素体または誘電体共振器用セラミック素体1の表面上にめっきレジスト2をパターン形成する工程と、無電解めっき膜5を形成する工程と、電解めっき膜6を形成する工程と、めっきレジスト2を剥離する工程とを有していることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a green sheet and its manufacturing method in which a manufacturing process is simplified and a loss of a material used for an electrode is prevented and an electrode pattern can be formed without a drying process during a formation of the electrode, and provide a plasma display panel using the above green sheet and a manufacturing method of the plasma display panel.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネル及びその製造工程において、製造工程を単純化し、電極に用いられる材料の損失を防止し、電極形成時、乾燥工程なしに電極パターンを形成できるグリーンシート及びその製造方法と製造装置、並びにこれを用いたプラズマディスプレイパネル及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dielectric element of a structure, where voids and seams will not to generated, a Pt electrode having superior electrical characteristics can be formed simply and at the same time, the problems of contamination or the like a processing chamber are not generated and the formation of a microscopic pattern is possible in the dielectric element using a Pt layer as an electrode material, and the manufacturing method of the element.例文帳に追加

電極材料としてPtを用いた誘電体素子において、ボイドやシームが生じることがなく、電気特性に優れたPt電極を簡便に形成することができるとともに、処理室内汚染等の問題がなく、かつ、微細パターンの形成が可能な誘電体素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition having high radiation sensitivity and a development margin that achieves formation of a preferable pattern feature even a developing time exceeds the optimum developing time in a developing process, and capable of forming a patterned thin film with excellent adhesiveness, and to provide an interlayer insulating film and a microlens formed from the composition.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性組成物およびそれから形成された層間絶縁膜およびマイクロレンズを提供することにある。 - 特許庁

To provide a positive resist composition useful for a process using light with shorter wavelength than KrF excimer laser light, for example, F_2 excimer laser light (157 nm) or EUV (vacuum ultraviolet light 13 nm), allowing formation of resist pattern with high resolution and good shape of cross section, and to provide an alkali-soluble polysiloxane resin capable of providing a substrate provided with the resist layer.例文帳に追加

KrFエキシマレーザー以下の短波長光、例えば、F_2エキシマレーザー(157nm)やEUV(真空紫外線13nm)を光源とするプロセスに有用であり、高解像性で断面形状の良好なレジストパターンを形成可能なポジ型レジスト組成物およびそのレジスト層を設けた基材を提供できるアルカリ可溶性ポリシロキサン樹脂を提供すること。 - 特許庁

In this manufacturing method of this inspection probe substrate for forming projections and a wiring pattern connected to the projections on a substrate equipped with a copper foil, formation of the projection is performed by bonding an Au ball and then moving a capillary on which an Au wire is clamped, and thereafter, first plating and second plating are applied onto the projection.例文帳に追加

銅箔を備えた基板に突起と該突起に接続する配線パターンとを形成する検査用プローブ基板の製造方法において、前記突起の形成は、Auボールをボンディングした後にAuワイヤをクランプしたキャピラリを移動することにより行ない、その後前記突起の上に第1のめっき及び第2のめっきを施したことにある。 - 特許庁

To decrease a curing temperature in forming a liquid-repellent pattern, to materialize the formation of a fine recessed part in spite of a relatively thick surface protecting layer, and to eliminate a hindrance for a coating liquid to be repelled even when a filler of a polishing agent is added into the surface protecting layer.例文帳に追加

撥液性模様形成時の硬化のための温度を低くすることができること、比較的厚い表面保護層を有しながらも、細かい凹部の形成が実現できること、また、表面保護層中に研磨剤と呼ばれている充填剤を加えても、コーティング液がはじかれるのに支障がないこと等を実現することを課題としている。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive resin eliminating difficulty of a conventional technique, used for fine pattern formation in semiconductor production, and enhancing resist sensitivity more than in conventional products, wherein an effect of reduction of a foreign matter or the like after development is expected, and also to provide a novel dithiol compound which is used suitably for production of the positive photosensitive resin.例文帳に追加

従来技術の難点を解消し、半導体製造の微細なパターン形成に用いられ、従来品よりもレジスト感度を高めることができると共に、現像後の異物の低減等の効果が期待されるポジ型感光性樹脂、及び、このポジ型感光性樹脂の製造に極めて好適に用いることができる新規ジチオール化合物を提供する。 - 特許庁

At such a time, a transmission bit rate such as a modulation scheme or an encoding rate is adjusted in accordance with an SDMA environmental parameter variation such as the number of multiplexing SDMA, beam formation updating frequency in transmission and variation status of propagation path characteristics, thereby a problem is absorbed of a deviation from an optimal transmission bit pattern that changes with the passage of time.例文帳に追加

このとき、SDMAの多重数、送信時のビーム形成更新頻度、伝搬路特性の変動状況などのSDMA環境パラメータの変動に応じて、変調方式や符号化率などの送信ビットレートを調整することで、時間の経過とともに変化する最適な送信ビットパターンとのずれの問題を吸収する。 - 特許庁

To provide a thermosetting composition rich in pigment with a small amount of a resin used, suitable for etching, excellent in spectroscopic characteristics, pattern form's rectangularity and adhesion to lower and upper layers, and capable of thin-film formation, to provide a color filter and an image recording material each using the composition, and to provide a method for producing the color filter.例文帳に追加

エッチングに好適であり、分光特性、パターン形状の矩形性、並びに、下層および上層との密着性に優れ、かつ、薄膜化が可能であり、更に、樹脂の総使用量が少なく高濃度な顔料含有熱硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルタ、画像記録材料およびカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

A manufacturing method for the circuit board comprises a process of sticking a reinforcing plate on one metal layer formation surface through a peelable organic body layer after forming the metal layer of <5 μm in thickness on at least one surface of the flexible film, and a process of peeling the flexible film off the reinforcing plate after forming a circuit pattern on the surface where the reinforcing plate is not stuck.例文帳に追加

可撓性フィルムの少なくとも一方の面に厚さ5μm未満の金属層を形成した後、該金属層形成面側の一表面に補強板を剥離可能な有機物層を介して貼り合わせ、次いで補強板が貼り合わされていない面に回路パターンを形成してから、該可撓性フィルムを該補強板から剥離する回路基板の製造方法。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a luminous material compounded molding in which occupied time or working time of a molding die in molding is short, in which formation of a local luminous pattern is easy while generation of pinhole defects hardly occurs, and in which durability against wear is superior, and to provide a method of manufacturing a luminous material compounded resin sheet and a luminous material compounded molding.例文帳に追加

成形における成形型の占有時間や作業時間が短く、局所的な蓄光模様の形成が容易で、ピンホール不良が発生し難い、摩耗への耐久性に優れた蓄光材配合成形品を製造できる方法、及び蓄光材配合樹脂シートの製造方法、並びに蓄光材配合成形品の提供を目的とする。 - 特許庁

As a barrier rib formation process to form the barrier rib 110 on a rear substrate of the PDP, a first process to form a barrier rib forming material layer 120, a second process to pattern the barrier rib forming material layer 120, and a third process to form the barrier rib 110 by calcining the patterned barrier rib forming material layer 120 are implemented.例文帳に追加

PDPの背面基板103に隔壁110を形成する隔壁形成工程として、隔壁形成材料層120を形成する第1工程と、隔壁形成材料層120をパターニングする第2工程と、パターニングされた隔壁形成材料層120を焼成して隔壁110を形成する第3工程と、を実施する。 - 特許庁

To produce an inexpensive base stock for a lead frame provided with mechanical strength that a lead material is not easily deformed, capable of radiating the heat generation of an element with high efficiency, excellent in electric characteristics and good in etching and punching properties needed for the pattern formation of a lead frame, to provide a method for producing it and to provide a semiconductor package using it.例文帳に追加

リード材が容易に変形しないような機械的強度を備え、素子の発熱に対して効率よく放散することができ、電気的特性に優れ、リードフレームのパターン形成に必要なエッチング性や打ち抜き性が良好であり,且つ安価であるリードフレーム用素材とその製造方法と、それを用いた半導体パッケージとを提供すること。 - 特許庁

To provide a violaceous-laser-sensitive image forming material and a violaceous-laser-sensitive image forming medium having high sensitivity to violaceous laser light even in the case of a thick film, suitable for use particularly in direct pattern formation with a violaceous laser, and excellent in safelight under a yellow light, and to provide an image forming method using the image forming medium.例文帳に追加

青紫色レーザー光に対して厚膜でも高感度であり、特に青紫色レーザーによる直接描画に用いるのに好適で、黄色灯下でのセーフライト性に優れた青紫色レーザー感光性画像形成材料及び青紫色レーザー感光性画像形成材と、この画像形成材を用いた画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin structure for flexographic printing capable of giving a print according to negative data without forming an unintended relief image in a plate making process in which a negative converted into digital information is used for direct pattern formation with an IR laser without using a negative film and to provide a method for manufacturing such structures in a good yield.例文帳に追加

ネガフィルムを用いることなく、デジタル情報となったネガチブを赤外線レーザーを用いて直接描画する製版プロセスにおいて、本来意図しないレリーフ像を形成させず、ネガチブデータ通りの印刷物を得ることを可能とするフレキソ印刷用感光性樹脂構成体および、その歩留まりのよい製造方法を提供する。 - 特許庁

Such an image, inhibited from being copied, is copied when the copying inhibition cancel condition is met but the pattern is deleted after updated trace information is acquired from a read image; and new trace information associated with the image formation is put together as updated trace information at the position where the original update trace information is present.例文帳に追加

このような複写を禁止した画像について写禁止解除条件を満たした場合には複写を行うが、読取画像から更新追跡情報を取得した上でこのパターンを削除し、当該画像形成に関する新たな追跡情報を更新追跡情報として元の更新追跡情報が存在した位置に合成する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of suppressing occurrence of standing waves, having high sensitivity, having a large depth of focus (DOF) and having excellent in-plane uniformity (CDU) of a linewidth when a highly reflective substrate is directly used without using an antireflection film, and a resist film using the composition, and a pattern formation method.例文帳に追加

反射防止膜を用いず高反射基板をそのまま用いた場合において、定在波の発生が抑制され、感度が高く、焦点深度(DOF)が広く、線幅の面内均一性(CDU)にも優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a barrier rib forming resin compound with excellent barrier rib forming characteristics, stability of preservation, and removal operation efficiency of relief pattern after elapse of time, and a barrier rib formation resin compound element with excellent workability; and a barrier rib manufacturing method which can shorten the manufacturing process of the barrier rib, and form the barrier rib with good shape.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルのバリアリブ形成性及び保存安定性、経時のレリーフパターンはく離除去性に優れたバリアリブ形成用樹脂組成物、さらに作業性に優れるバリアリブ形成用樹脂組成物エレメント並びにプラズマディスプレイパネルのバリアリブ製造工程を短縮化でき、形状の優れたバリアリブを形成できるバリアリブの製造法を提供する。 - 特許庁

In the liquid crystal display device 1 in which the alignment films 40, 40a are formed by the alignment film printing system which is noncontact with respect to the substrate 11, wetting and spreading of an alignment material are controlled to permit formation of the alignment films 40, 40a having uniform thickness by providing a printing control pattern 60 between a seal member 50 and a display area.例文帳に追加

基板11に対して非接触な配向膜印刷方式により配向膜40、40aを形成した液晶表示装置1において、シール材50と表示領域の間に印刷制御パターン60を設けることにより、配向材の濡れ広がりを制御し膜厚を均一にできる配向膜40、40aを形成する。 - 特許庁

In a transistor comprising a gate electrode 11, a gate insulating film 2, a source electrode 17, a drain electrode 16 and the organic semiconductor layer 3 formed on a substrate, the sealing layer 4 is included on the semiconductor layer, and a printing method is used for its formation to form a stripe shape, by which a pattern is simply formed, and high alignment accuracy is obtained together with the high yield.例文帳に追加

基板上に形成されたゲート電極11、ゲート絶縁膜2、ソース電極17、ドレイン電極16および有機半導体層3を含んでなるトランジスタにおいて、半導体層上に封止層4を有し、その形成に印刷法を用い、ストライプ状にすることで、簡易にパターンを形成でき、歩留まりよく、高いアライメント精度が得られる。 - 特許庁

To provide a photosensitive siloxane composition which is used in formation of a planarizing film for a thin film transistor (TFT) substrate having such properties as high transmittance, heat resistance and insulation, an interlayer insulation film of a semiconductor device, or a core or cladding material of an optical waveguide, and which has high sensitivity, shortens developing time, and gives a pattern film readily soluble in an alkaline aqueous solution.例文帳に追加

高い透過率、耐熱性、絶縁性の特性を有する薄膜トランジスタ(TFT)基板用平坦化膜、半導体素子の層間絶縁膜、あるいは光導波路のコアやクラッド材などの形成に用いられる、高感度で現像時間を短縮でき、パターン膜がアルカリ水溶液に容易に溶解する感光性シロキサン組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an ultraviolet curable inkjet composition excelling in storage stability and suitably usable for the formation of a pattern (printed part) excelling in glossiness and scuff resistance, metallic powder used for producing the ultraviolet curable inkjet composition, a method for efficiently producing the metallic powder, and a recorded matter having the pattern excelling in glossiness and scuff resistance which is formed using the ultraviolet curable inkjet composition.例文帳に追加

保存安定性に優れ、光沢感、耐擦性に優れたパターン(印刷部)の形成に好適に用いることのできる紫外線硬化型インクジェット組成物を提供すること、当該紫外線硬化型インクジェット組成物の製造に用いられる金属粉末を提供すること、前記金属粉末を効率よく製造することができる製造方法を提供すること、また、前記紫外線硬化型インクジェット組成物を用いて形成された光沢感、耐擦性に優れたパターンを有する記録物を提供すること。 - 特許庁

The control means is configured to extract the adjacent divided images in a predetermined order from one specified image, detect images in the same pattern formation area included in the overlapping area for each of the two adjacent divided images as a synthetic reference image, then, synthesize the two adjacent divided images based on the synthetic reference image, and then, form an SEM image in the entire observation area.例文帳に追加

制御手段は、指定された一つの分割画像から所定の順序で隣接する分割画像を抽出し、隣接する2つの分割画像毎に重複領域に含まれる同一のパターン形成領域の画像を検出して合成基準画像とし、合成基準画像を基に隣接する2つの分割画像を合成して、観察領域の全体のSEM画像を形成する。 - 特許庁

To provide a positive radiation-sensitive composition that has good radiation sensitivity, and from which high light transmittance, voltage retention, and good developability and pattern forming property capable of reacting on changes in cured film formation condition are provided to an interlayer dielectric film obtained, the interlayer dielectric film formed from the composition and a method for forming the interlayer dielectric film.例文帳に追加

優れた放射線感度を有し、得られる層間絶縁膜が高い光線透過率及び電圧保持率を備えつつ、硬化膜形成条件の変化にも対応できる優れた現像性及びパターン形成性を備えるポジ型感放射線性組成物、その組成物から形成された層間絶縁膜、並びにその層間絶縁膜の形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a superjunction semiconductor by using a multistage epitaxial system, in which a silicon epitaxial growth rate after alignment marker formation is not made slower than that of a typical condition, deterioration of pattern form accuracy of the alignment marker is prevented, and auto doping from a low resistance arsenic-doped silicon substrate used to lower an on resistance of a superjunction semiconductor is prevented.例文帳に追加

アライメントマーカーの形成後に行うシリコンエピタキシャルの成長速度を、通常の条件より遅くすることなく、アライメントマーカーのパターン形状精度の低下を防ぎ、超接合半導体装置を低オン抵抗にするために用いられる低抵抗砒素ドープシリコン基板からのオートドーピングを防止する多段エピタキシャル方式による超接合半導体装置の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The photosensitive coating liquid for transparent conductive film formation with indium acetylacetone and an organic tin compound dissolved in a solvent, and then with photosensitive resin with a pyrolytic property and combustibility and a diluted liquid added, is coated on a substrate, dried, exposed, and developed to form fine patterns, which are baked at a temperature of 400°C or more to form a transparent conductive pattern film.例文帳に追加

アセチルアセトンインジウムと有機錫化合物を溶剤に溶解させた後、熱分解性又は燃焼性を有する感光性樹脂と希釈液を加えた透明導電膜形成用感光性塗布液を用い、この塗布液を基材上に塗布、乾燥し、露光、現像を行って微細なパターンを形成し、400℃以上の温度で焼成して透明導電パターン膜を形成する。 - 特許庁

The color filter is characterized by comprising coloring pixels 14 disposed on a transparent substrate 10 and patterned with a plurality of colors and having a dot pattern with a number of parts where no coloring part constituting the coloring pixel exist (transparent non-coloring parts 16) formed inside at least a certain segment in the pixel in the layer thickness direction or in the layer formation direction of the coloring pixel.例文帳に追加

透明基板10上に設けられた複数色パターン化されている着色画素14中の一画素内の少なくとも一部の領域内に、着色画素の層厚み方向又は層形成面方向に着色画素を構成する着色部が存在しない部分(透明無着色部16)を多数有する網点状パターンが形成されていることを特徴とするカラーフィルター。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive composition for colored layer formation which causes neither reduction of film retention nor chipping or undercut of a pattern even under low exposure energy, yields pixels and a black matrix excellent in solvent resistance and adhesion to a substrate, and has excellent storage stability as a liquid composition even if a pigment is contained in high concentration.例文帳に追加

低露光量でも、残膜率が低下したり、パターンの欠けやアンダーカットを生じることがなく、しかも耐溶剤性、基板との密着性等にも優れた画素およびブラックマトリックスを与え、また顔料を高濃度に含有する条件下でも、液状組成物としての保存安定性に優れる新規な着色層形成用感放射線性組成物等を提供すること。 - 特許庁

The pattern formation method comprises the steps of: forming a resist film on a semiconductor substrate; forming the antistatic film on the resist film; exposing an electron beam to the resist film; peeling the antistatic film by using peeling liquid with a temperature of 30°C or more and 35°C or less; and performing a development to the resist film to form predetermined patterns.例文帳に追加

パターン形成方法が、レジスト膜を半導体基板上に形成する工程、前記レジスト膜上に帯電防止膜を形成する工程、前記レジスト膜に対して電子線を露光する工程、温度30℃以上35℃以下の剥離液を用いて前記帯電防止膜を剥離する工程、および前記レジスト膜に対して現像を行い所定のパターンを形成する工程とを含む。 - 特許庁

Under the set conditions of irregular illumination, a pattern is transferred via a projection optical system PL onto a substrate W where a resist film, an antireflection film or the like are formed with the formation conditions set with reflectivity on the substrate for slant incident light incident onto the substrate W from a direction inclined from the optical axis AX of the projection optical system PL taken into consideration.例文帳に追加

そして、この設定された変形照明条件の下で、投影光学系PLの光軸AXに対して傾斜した方向から基板W上に入射する斜入射光に対するその基板上での反射率を考慮して形成条件が設定されたレジスト膜、反射防止膜などが形成された基板W上に、投影光学系PLを介してパターンが転写される。 - 特許庁

When an average printing ratio of toner images is a stipulated value or below, in non-image-formation, the developing roller and the screws as well as the photoreceptor drum are driven, the developing device is replenished with the nonmagnetic toner as refreshing toner, and an electrostatic latent image region of a stipulated pattern is formed on the photoreceptor drum and developed by the developing device to form a toner region.例文帳に追加

トナー像の平均印字率が規定値以下であると、非画像形成の際感光体ドラムを駆動するとともに現像ローラ及びスクリュー体を駆動して現像装置に非磁性トナーをリフレッシュトナーとして補給した後、感光体ドラムに予め規定されたパターンの静電潜像領域を形成して現像装置によって静電潜像領域を現像してトナー領域とする。 - 特許庁

例文

To provide a photosensitive resin composition which can keep both high adhesion to and high peelability from the substrate even in using the substrate for circuit formation having less surface irregularity, and is excellent in plating resistance, etching resistance and resolution, and to provide a photosensitive element using the composition, a method for producing a resist pattern and a method for producing a printed wiring board.例文帳に追加

表面の凹凸が少ない回路形成用基板を用いる場合であっても、該基板に対する密着性と剥離特性との双方を高水準で維持することができ、耐めっき性、耐エッチング性及び解像性に優れた感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法を提供すること。 - 特許庁




  
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