「"Min to"」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

A swing air-flow begins to be sent to a person in bed at 15 min to the hour of rising.例文帳に追加

起床時刻の１５分前から、寝ている人にスイング気流を吹き付ける。 - 特許庁

A casting band 22 travels at a speed ranging from 20 m/min to 50 m/min.例文帳に追加

流延バンド２２は２０ｍ／分以上５０ｍ／分以下の速度で走行する。 - 特許庁

During the culture, the egg is turned at 45-90° angle at a time at an interval of 7.5 min to 71 h.例文帳に追加

培養中、７．５分〜７１時間おきに１回４５〜９０度の角度で転卵した。 - 特許庁

The melt is held at a temperature not lower than its melting point for ≥3 min to undergo homogenization.例文帳に追加

溶融体を、その融点以上の温度に３分間以上保持して均質化する。 - 特許庁

The heating temperature is preferably 50-99°C and the heating time is preferably 1 min to 2 hr.例文帳に追加

上記加熱時の加熱温度は５０℃〜９９℃、加熱時間を１分〜２時間が好ましい。 - 特許庁

Polluted soil is heated at 250°C or above for at least 5 min to remove oils and at 300°C or above for at least 5 min to remove cyanides.例文帳に追加

油類を除去する場合は、２５０℃以上の温度で５分以上の加熱処理をし、シアン化合物を除去する場合は、３００℃以上の温度で５分以上の加熱処理をする。 - 特許庁

Primary fermentation of the dough is preferably carried out for 90 min to 180 min at 22°C to 38°C.例文帳に追加

生地の一次発酵は、２２℃〜３８℃の温度で９０分〜１８０分間行うことが好ましい。 - 特許庁

Alternatively, the sterilization treatment is performed by immersing the same in alcoholic drinks having 20 to 50% alcohol content for 20 min to 3 hr.例文帳に追加

又はアルコール度数２０〜５０％の酒類に２０分〜３時間、浸漬させ殺菌処理を行う。 - 特許庁

The substrate 2 is baked at 70°C for 5 min to form adhesive agent layers 40a and 45b on a surface thereof.例文帳に追加

７０℃で５分間焼成して、基板２の表面に接着剤層４０ａ、４５ｂを形成する。 - 特許庁

In a dechlorinator 1, waste plastic P is heated for several tens min to several hr at 250-350°C.例文帳に追加

脱塩素化処理炉１において廃プラスチックＰを２５０〜３５０℃で数１０分〜数時間加熱する。 - 特許庁

The hermetically-sealed container, charged with the grated food produced with the device, is immersed in hot water at 80-85°C for 8-12 min, to heat the container, and thereafter, is immersed in cool water, at 0-5°C for 5-15 min to cool the container.例文帳に追加

この装置で製造された擦りおろし食品入り密封容器を、８０〜８５℃の温水中に８〜１２分間浸漬して加熱せしめた後、０〜５℃の冷水中に５〜１５分間浸漬して冷却する。 - 特許庁

Then, the dresser 22 is traversed at a high speed (1600 m/min) to finish dressing of the circumferential face of the grindstone 13.例文帳に追加

その後、高速（１６００ｍｍ／ｍｉｎ）でドレッサ２２をトラバースして砥石１３の周面を仕上げドレスする。 - 特許庁

Further, in stress relieving annealing, the temperature is raised at ≤15°C/sec, and, annealing is performed at 750 to 900°C for 30 min to 3 hr.例文帳に追加

更に歪取焼鈍に際しては15℃/sec以下で昇温し、750℃以上900℃以下で30分以上3時間以下の焼鈍を行なう。 - 特許庁

After homogenization, the mixture is charged in a container, heat-sterilized at 121°C for 20 min to obtain the coconut milk drink improved in flavor.例文帳に追加

ホモゲナイズ後、容器充填し、１２１℃２０分間加熱殺菌を行い、風味の改良されたココナッツミルク飲料を得る。 - 特許庁

A treatment using the meat freshness- retaining agent is preferably carried out by immersing the meat in the meat freshness-retaining agent for 10 min to 24 hr.例文帳に追加

鮮度保持材による処理では、食肉類を該保持材中に、１０分〜２４時間浸漬する処理が好ましい。 - 特許庁

The heating time in this case is 5-60 min to complete the purpose, and a generally used heating device such as an autoclave can be adopted.例文帳に追加

このときの加熱時間は、５〜６０分間で目的が達せられ、オートクレーブなどの汎用的な加熱装置が採用できる。 - 特許庁

Further, the cycle of the rolling reduction to the plate thickness with the plate thickness pressing apparatus 6, is made to ≥ 50 times/min to restrain the lowering of the temperature on the slab surface layer.例文帳に追加

また、板厚プレス装置６による板厚圧下サイクルを５０回／分以上として、スラブ表層の温度低下を抑制する。 - 特許庁

When the battery pack used in a range of MIN% to MAX% is assembled, batteries charged until charging rate reaches less than MIN% are assembled.例文帳に追加

MIN％〜MAX％の範囲で使用される組電池に組付ける場合に、充電率がMIN％未満にまで充電された電池を組付ける。 - 特許庁

The obtained peanuts are roasted at 60-80°C for 7-8 min, and further roasted at 110-120°C for 12-13 min to provide the objective roasted peanuts.例文帳に追加

得られた落花生を６０℃〜８０℃の温度で７〜８分間焙焼し、次に１１０℃〜１２０℃の温度で１２〜１３分間焙焼する。 - 特許庁

The heat humidification treatment is preferably carried out at 65-95°C for 20 min to 12 hr.例文帳に追加

このアグロメレートを蒸煮し、同時に熱処理するか、又はその代わりに穏やかに乾燥し、次いで熱処理して所望の最終水分含量とする。 - 特許庁

In the method for producing the InGaN layer, under conditions that a growing temperature is 700°C to 790°C, a growing speed is 30 Å/min to 93 Å/min, and a flow rate of trimethyl indium is 1.76×10^-5 mol/min to 3.53×10^-5 mol/min, the InGaN layer is grown.例文帳に追加

本発明に係るＩｎＧａＮ層の製造方法は、７００℃〜７９０℃の成長温度、３０Å／分〜９３Å／分の成長速度及び１．７６×１０^−５モル／分〜３．５３×１０^−５モル／分のトリメチルインジウムの流量の条件下でＩｎＧａＮ層を成長させる。 - 特許庁

When the monitor voltage exceeds a starting power passing value MIN to enable a bias adjustment process to start, the bias adjustment process is started immediately.例文帳に追加

また、モニタ電圧が起動パワー合格値ＭＩＮを超えてバイアス調整工程が開始可能になったら、即座にバイアス調整工程を開始する。 - 特許庁

This method for producing pickles comprises keeping vegetables in a seasoning liquid at 45-65°C for 5 min to 48 h followed by maturing the resultant vegetables at normal temperatures or lower.例文帳に追加

野菜類を、調味液中で４５〜６５℃で５分間〜４８時間保持し、次いで常温以下で熟成させる、漬物の製造方法である。 - 特許庁

The saturated norbornene-based resin film is produced by casting a solution at a casting rate of 10 m/min to 90 m/min.例文帳に追加

流延速度１０ｍ／分以上９０ｍ／分以下で溶液流延することによって製造された飽和ノルボルネン系樹脂フィルムである。 - 特許庁

The p-tert- butoxystyrene or the solution thereof is usually added at a temperature ranging from -80°C to 0°C over 10 min to 10 h.例文帳に追加

ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシスチレンまたはその溶媒溶液は通常、−８０℃以上０℃以下の温度範囲で１０分〜１０時間かけて順次加えられる。 - 特許庁

Powdery metakaolin 2 at 5°C and another powder 3 at 5°C are put in the aqueous potassium silicate solution 1 and mixed for 15 min to obtain the objective inorganic hardenable composition (slurry) 4 at 34°C.例文帳に追加

これに５℃のメタカオリン〔粉体（Ａ）〕２とその他の粉体３とを投入し１５分間混合し、３４℃の無機質硬化性組成物（スラリー）４を得た。 - 特許庁

Then, the gallium nitride layer formed on the substrate is heated at a temperature of ≥800°C for 5 min or more and further heated at a ramp-down rate of ≤50°C/min to form a gallium nitride film.例文帳に追加

次に、基板上に形成された窒化ガリウム層を８００℃以上で５分以上加熱し、さらに５０℃／分以下の降温速度で加熱する。 - 特許庁

First, its temperature is raised from an ambient temperature up to a baking temperature (450°C to 550°C) of the first stage at a temperature-raising speed of 0.5 to 15°C per min. to be kept there for 1 to 10 hours.例文帳に追加

まず室温より昇温速度０．５〜１５℃／ｍｉｎで１段目の焼成温度（４５０℃〜５５０℃）まで昇温を行い、１〜１０時間保持する。 - 特許庁

Preferably, the cold soaking is carried out at 5-20°C for 45 min to 2 hours, and the hot smoking is carried out at 30-80°C for 1 min and a half to 4 min.例文帳に追加

好ましくは、冷蔵浸漬が、５℃〜２０℃で４５分間〜２時間浸漬するものであり、温燻製が、３０℃〜８０℃で１分半〜４分間燻製するものである。 - 特許庁

Substantially pure cobalt is cast and then cooled slowly at a rate of ≤15°C/min to form a cast target of single-phase h.c.p. crystal structure.例文帳に追加

実質的に純なコバルトをキャストしかつ速度１５℃／分以下でゆっくり冷却して単相ｈ．ｃ．ｐ．結晶構造のキャストされたターゲットを形成する。 - 特許庁

A diamond membrane is set up in a 0.1 M KOH solution and a voltage of 2.4 V (vs. SCE) is applied to the diamond membrane for 75 min to perform the anodic oxidation of the diamond membrane.例文帳に追加

陽極酸化処理は、0.1Ｍ ＫＯＨ溶液中にダイヤモンド薄膜をセットアップし、2.4V（vs.SCE）の電圧を75分間印加して、陽極酸化を行うものである。 - 特許庁

An adder 10 shifts a minimum value MIN on the basis of the correction amount and a subtractor 12 uses a minimum value MIN' to normalize the input data.例文帳に追加

加算器１０では、その補正量に基づいて最小値ＭＩＮがシフトされ、減算器１２において、最小値ＭＩＮ´を用いて入力データが正規化される。 - 特許庁

Since the fine substance having entered deeply causes dehydration trouble, the start of the operation of the vacuum pump is delayed for about 3-5 min to allow the slurry to settle.例文帳に追加

この奥深く入り込んだ微細な物質が脱水障害を起こす原因になる為３〜５分程真空ポンプの運転開始を遅らせスラリーを静置させる。 - 特許庁

In the low foaming container, its innermost surface is molded of a polyethylene resin having a melt flow rate of 0.1 g/10 min to 10 g/10 min (at a temperature of 190°C and under a load of 2.16 kg), and a gloss value of the innermost surface ranges 10 to 60%.例文帳に追加

低起泡性容器は、最内面がメルトフローレート（190℃、2.16kg加重）0.1g/10min〜10g/10minであるポリエチレン樹脂で成型され、その最内表面のグロス値が10％〜60％である。 - 特許庁

In the case of sitting detection, the absorption flow is set in 0. 16 m3/min or less, and after the sitting, the absorption flow can be set in 0. 16 m3/min to 0. 20 m3/min.例文帳に追加

さらに、着座検出時には、０．１６ｍ^^3／ｍｉｎ以下の吸込風量とし、着座後に０．１６ｍ^3／ｍｉｎ〜０．２０ｍ^3／ｍｉｎの吸込風量とすることもできる。 - 特許庁

On the condition of 25°C 65% RH, the solution is uniformly spread and coated on a PET sheet with a bar coater and dried at 40°C for 60 min to provide a test sample.例文帳に追加

２５℃６５％の環境において、この溶液をＰＥＴ製シート上にバーコーターを用いて均一に広げて塗布し、４０℃で６０分間乾燥させ、測定試料とする。 - 特許庁

This plastic artificial light-weight aggregate has a coating on at least a part of plastic crushed materials with hardened product of a hydraulic inorganic composition having 5 min to 2 hours of termination time in the coagulation test.例文帳に追加

プラスチック粉砕物の表面の少なくとも一部に、凝結試験における終結時間が５分〜２時間の水硬性無機質組成物の硬化物が被覆されている。 - 特許庁

Subsequently, a titanium complex compound (titanium potassium fluoride, or the like) which has been dissolved in hot water is poured from a pouring tank 6, and the aqueous solution is allowed to stand for 10 min to make it homogeneous.例文帳に追加

その後、熱湯で溶解したチタン錯体化合物（チタンフッ化カリウム等）を注入槽６から注入し、水溶液を均一にするため１０分間放置した。 - 特許庁

A chlorinated rubber adhesive is coated on the surface of the layer 2, and dried in the atmosphere at 70°C for 5 min to form a second adhesive layer 3.例文帳に追加

前記第１接着剤層２表面には、塩化ゴム系接着剤を塗布し、７０℃の温度雰囲気下で５分間乾燥させて第２接着剤層３を形成する。 - 特許庁

The pitting corrosion resistance of the pipe material remarkably improves by performing heat treatment under the conditions of 600 to 1,050°×1 min to 5 hr in a nonoxidizing atmosphere.例文帳に追加

この管材は、非酸化性雰囲気中において６００℃〜１０５０℃、１分〜５時間の条件で熱処理を行なうことにより、耐孔食性が飛躍的に向上する。 - 特許庁

In this case, at an especially necessary time, a voltage of +4--4 V (vs. SCE) is applied in the 0.1 m KOH solution at a speed of 0.1 V/sea to perform sweeping three times and a voltage of 4 V is held for 1 min to perform anodic oxidation.例文帳に追加

この場合、特に必要な時には、0.1Ｍ ＫＯＨ溶液中で+4Vから-4V（vs.SCE）を0.1V／secの速さで、3回スイープしたのち、4Vで1分間保持する処理を行った。 - 特許庁

Further, in the method for producing a heat resistant spring, the resistant stainless steel wire is subjected to spring working, and is thereafter subjected to low temperature annealing at 500 to 650°C for 1 min to <1 hr.例文帳に追加

また、耐熱ばねの製造方法は、上記耐熱ステンレス鋼線をばね加工した後、500℃以上650℃以下の条件で1分以上1時間未満の低温焼鈍する。 - 特許庁

An anatase type titanium oxide precursor is mixed with a hydroxyapatite precursor and sintered at 550-800°C with a retention time of ≥15 min to achieve a porosity of 40-75%.例文帳に追加

アナターゼ型酸化チタン前駆体及びハイドロキシアパタイト前駆体を混合して、５５０〜８００℃、保持時間１５分以上で焼結し、４０〜７５％の空隙率を形成する。 - 特許庁

An alkyl hydroxyalkyl carbonate of intermediate is decomposed at a bottom temperature of 170 to 220°C for a retention time of 5 min to 2 hr in a distillation tower just after the reaction.例文帳に追加

中間体のアルキルヒドロキシアルキルカーボネートは反応直後の蒸留塔内で塔底温度１７０〜２２０℃、滞留時間５分〜２時間の範囲内で分解する。 - 特許庁

After cutting wafers out of the single crystal, each wafer is subjected to a heat treatment at a temperature of ≥700 and <900°C for 30 min to 4 h, and is then mirror polished.例文帳に追加

この単結晶よりウェーハを切り出した後、７００℃以上、９００℃未満の温度で３０分から４時間までの熱処理を施し、その後に鏡面研磨する。 - 特許庁