vacuum transportation systemとは 意味・読み方・使い方

VACUUM TRANSPORTATION SYSTEM例文帳に追加

真空輸送システム - 特許庁

This device is provided with a focused ion beam device 21, a vacuum evaporation system 33 and a transportation mechanism chamber 47.例文帳に追加

集束イオンビーム装置２１と真空蒸着装置３３と搬送機構室４７を備えている。 - 特許庁

To maintain arc discharge in a vacuum arc evaporation source without introducing gas even in the case where the magnetic field intensity of a magnetic filter is raised to increase plasma transportation efficiency in a vacuum arc evaporation system constituted by combining the vacuum arc evaporation source and the magnetic filter.例文帳に追加

真空アーク蒸発源と磁気フィルタとを組み合わせた真空アーク蒸発装置において、磁気フィルタの磁場強度を高めてプラズマの輸送効率を高める場合にでも、ガス導入を行わなくても真空アーク蒸発源においてアーク放電の維持を可能にする。 - 特許庁

To prevent corrosion of a transportation robot, a trouble in gas exhausting system in a vacuum chamber, pollution and degradation of quality of a product in a substrate treatment apparatus carrying out washing with washing liquid.例文帳に追加

洗浄液による洗浄を行う基板処理装置において、搬送ロボットの腐食、真空チャンバーにおける排気特性の障害、処理の品質を汚損等を防止する。 - 特許庁

Between the place on a stage 30 in a working chamber 23 of the focused ion beam device and a holder 38 of a film-formation chamber 34 of a vacuum evaporation system 23, a target 31 for manufacturing a semiconductor element is moved with a transportation mechanism (a first transportation mechanism 48, an elevating table 64 and a second transportation mechanism 58) through the transportation mechanism chamber 47.例文帳に追加

集束イオンビーム装置の加工室２３のステージ３０上と真空蒸着装置２３の成膜チャンバー３４のホルダー３８との間で、半導体素子製作用ターゲット３１を、搬送機構室４７を介して搬送機構（第１搬送機構４８，昇降テーブル６４及び第２搬送機構５８）により移動させる様に成す。 - 特許庁

To provide a vacuum transportation system having very small air resistance to allow movement with higher speed and capable of transporting cargoes, passengers or the like at high speed.例文帳に追加

空気抵抗が格段に小さくてより高速に移動でき、貨物、旅客等の輸送物を高速輸送することができる真空輸送システムを提供することを課題とするものである。 - 特許庁

The gas introduction system 32 for adjusting a pressure introduces a gas which does not exert an adverse effect on film formation, and keeps the inside of the transportation chamber 3 at such a vacuum pressure as to exceed that in the film-forming chamber 1 and exceed 1 pascal.例文帳に追加

調圧用ガス導入系３２により、成膜に悪影響を与えないガスが導入され、搬送チャンバー３内は成膜チャンバー１内よりも大きく１パスカルより大きい真空圧力に維持される。 - 特許庁