ultrasonic bathとは 意味・読み方・使い方

A substrate cleaning apparatus 1 is equipped with a cleaning bath 2, a boundary plate 7, and an ultrasonic oscillator 8.例文帳に追加

基板洗浄装置１は、洗浄槽２と、境界板７と、超音波振動子８とを備えている。 - 特許庁

To provide a continuous ultrasonic-cleaning apparatus for cleaning a metal strip by running it in a cleaning bath in which an ultrasonic wave irradiates the strip.例文帳に追加

金属帯板を洗浄浴中で超音波照射のもとにおいて走行させて洗浄処理を行う超音波式連続洗浄装置を提供する。 - 特許庁

To enable ultrasonic waves irradiated from below to effectively function in an inner bath which is related to a down-flow type substrate processing device.例文帳に追加

ダウンフロー型の基板処理装置において、内槽に下方から照射する超音波を有効に機能させる。 - 特許庁

A lift-off remover 50 comprises a removing solution bath 1, an ultrasonic wave generator 2 provided at the bottom of the removing solution bath 1, and a holder member 3 for holding a substrate 10 to be processed.例文帳に追加

リフトオフ用剥離装置５０は、剥離液槽１と、剥離液槽１の底部に超音波発生装置２と、処理する基板１０を保持する保持部材３とを備える。 - 特許庁

The ultrasonic cleaning apparatus 50 is equipped with an ultrasonic transducer plate (2) with a plurality of ultrasonic transducers (1), an ultrasonic waveguide chamber (3), and a cleaning bath (4) filled with cleaning liquid (20).例文帳に追加

超音波洗浄装置（５０）は、複数の超音波振動子（１）を具備する超音波振動板（２）と、超音波振動板が発生する超音波力を集める超音波導波チャンバ（３）と、洗浄液（２０）が充填されている洗浄槽（４）とを具備する。 - 特許庁

A device for generating modulated ultrasonic waves in which a plurality of frequency components oscillated by a single ultrasonic oscillator are superposed on one another is arranged in the bottom of a cleaning bath.例文帳に追加

洗浄槽の底部に、単一の超音波振動子により発振させた複数の周波数成分が重畳された変調超音波発生装置を設ける。 - 特許庁

A polishing liquid preparation device is composed of a slurry undiluted solution bath (1), an additive bath (2), a mixing bath (3) for mixing the slurry undiluted solution and the additives together, a polishing liquid bath (4) for storing the polishing liquid, and a concentration measuring device (30) which takes advantage of an ultrasonic speed method.例文帳に追加

また、研磨液の調製装置は、スラリー原液の原液槽（１）、添加剤の添加剤槽（２）、スラリー原液と添加剤を混合する混合槽（３）、研磨液を貯蔵する研磨液槽（４）、超音波音速法を利用した濃度測定装置（３０）などから構成される。 - 特許庁

Namely, the wafer is cleaned by applying the ultrasonic waves in the same bath right before the end from simple immersion in the RCA solution and is drawn out.例文帳に追加

すなわち、単なるＲＣＡ液浸漬から終了直前に同じ槽で超音波を加えて洗浄、引き上げる。 - 特許庁