trisilaneとは 意味・読み方・使い方

EPOXY/UNSATURATED POLYESTER/METHYL TRISILANE CONTAINING SILICONE DISPERSION COMPOSITE RESIN COMPOSITION例文帳に追加

エポキシ／不飽和ポリエステル／メチルトリシラン含有シリコーンデスパージョン複合樹脂組成物。 - 特許庁

In a preferred embodiment, a silicon layer is deposited on a substrate using trisilane as a silicon precursor 100.例文帳に追加

好ましい実施態様において、シリコン前駆物質としてトリシランを用いて、シリコン層が基板上に堆積１００される。 - 特許庁

A dopant source may be intermixed with the trisilane and the etchant source to selectively deposit the doped Si-containing film.例文帳に追加

ドーパントソースは、ドープしたＳｉ含有膜を選択的に堆積させるために、トリシランおよびエッチャントソースと混合することもできる。 - 特許庁

Amorphous SiGe layers 600 are deposited on at least one monolayer of a dopant by CVD from trisilane and GeH_4.例文帳に追加

アモルファスＳｉＧｅ層６００が、トリシラン及びＧｅＨ_４からＣＶＤによって、ドーパントの１以下のモノレイヤー上に堆積される。 - 特許庁

In a preferable embodiment, Si-containing thin films useful to the semiconductor industry for various purposes including transistor gate electrodes can be deposited by using trisilane.例文帳に追加

好ましい実施の形態では、トリシランを使用して、トランジスタゲート電極などの様々な用途で半導体産業において有用なＳｉ含有薄膜を堆積する。 - 特許庁

To provide a chemical vapor deposition method using trisilane and a halogen-containing etchant source (such as chlorine) to selectively deposit a Si-containing film over a selected region of a mixed substrate.例文帳に追加

混合基板の選択された領域上に、Ｓｉ含有膜を選択的に堆積するためのトリシランおよびハロゲン含有エッチャントソース（塩素など）を使用する化学気相成長方法を提供すること。 - 特許庁

According to the plasma CVD method, a silicide gas (monosilane, disilane, trisilane, etc.) and fluorine are introduced in a film forming chamber as raw material gases, and a plasma is generated to directly form a semiconductor film containing a crystal structure on a substrate under process.例文帳に追加

本発明は、プラズマＣＶＤ法により、成膜室に珪化物気体（モノシラン、ジシラン、トリシランなど）とフッ素（或いはフッ化ハロゲンガス）を原料ガスとして導入し、プラズマを発生させて結晶構造を含む半導体膜を被処理基板に直接成膜する。 - 特許庁