tetramethoxysilaneとは 意味・読み方・使い方

Film formation is executed by a plasma CVD method using as a material for insulating film trivinylmethoxysilane, divinyldithoxysilane, vinyltrimethoxysilane, hexaalkoxydisilamethane, tetraalkoxydisilamethane, dilkoxytetrasilamethane, disilamethane and tetramethoxysilane etc.例文帳に追加

絶縁膜材料として、トリビニルメトキシシラン、ジビニルジトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ヘキサアルコキシジシラメタン、テトラアルコキシジシラメタン、ジルコキシテトラシラメタン、ジシラメタン、テトラメトキシシランなどを用い、プラズマＣＶＤ法によって成膜する。 - 特許庁

A solution containing a silicate oligomer having an average molecular weight of 500-1,800 obtained by hydrolytic condensation of tetramethoxysilane is applied to the surface of a surface-polished ceramic tile having many micropores on the surface.例文帳に追加

テトラメトキシシランを加水分解縮合して得られる平均分子量が５００〜１８００よりなるシリケートオリゴマーを含む溶液を、表面に多数の微孔を持つ表面研磨陶磁器タイルの表面に塗布する。 - 特許庁

In this film forming method, a treatment gas containing TMOS (tetramethoxysilane) is made plasma and reacted to form a silicon oxide film 204 on a deposition target substrate 103.例文帳に追加

ＴＭＯＳ（Ｔｅｔｒａ−Ｍｅｔｈｏｘｙ−Ｓｉｌａｎｅ）と酸化性ガスとを含む反応ガスをプラズマ化し、反応させてシリコン酸化膜２０４を被堆積基板１０３上に形成する成膜方法。 - 特許庁

In this highly-reflective film or sheet material, the coating composition is prepared by mixing tetraalkoxy titanium or a hydrolysate thereof, a chelating agent thereof, a hydrolysate of tetramethoxysilane and a solvent, and a high-refractive-index coated film layer is formed by applying the coating composition to a substrate.例文帳に追加

テトラアルコキシチタン又はその加水分解物、そのキレート剤、テトラメトキシシランの加水分解物、及び溶剤を混合して調整したコーティング用組成物を基材に塗布して高屈折率塗膜層を形成させる。 - 特許庁

A white defect in a halftone phase shift mask or a recessed phase defect in a Levenson type phase shift mask is corrected to match the phase by depositing an electron beam CVD film 6 having high transmittance and a high phase effect such as tetramethoxysilane or the like.例文帳に追加

透過率が高く位相効果のあるテトラメトキシシラン等の電子ビームCVD膜６でハーフトーン型位相シフトマスクの白欠陥やレベンソン型位相シフトマスクの凹型の位相欠陥を位相が合うように修正する。 - 特許庁

The impregnation sealer composition to be applied to a ligneous material includes an isocyanate compound (A) and a silane compound (B) selected from the group consisting of tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, and vinyltriethoxysilane.例文帳に追加

イソシアネート化合物(A)と、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン及びビニルトリエトキシシランよりなる群から選ばれたシラン化合物(B)とを含有することを特徴とする、木質材に適用するための含浸シーラー剤組成物を用いる。 - 特許庁

The silane compound is at least one compound selected from the group consisting of tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-iso-propoxysilane and tetraphenoxysilane.例文帳に追加

上記シラン化合物は、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン及びテトラフェノキシシランからなる群より選ばれる少なくとも１種の化合物であることを特徴とするレジスト下層膜用組成物である。 - 特許庁

The radiation-sensitive composition comprises (A) a decomposable compound, (B) a hydrolyzable of an alkoxide such as tetrabutoxytitanium, tetramethoxyzirconium, tetramethoxygermanium, tetramethoxysilane and the like or of a halogen compound such as tetrachlorosilane and the like, and (C) a radiation-sensitive decomposing agent.例文帳に追加

（Ａ）分解性化合物、（Ｂ）テトラブトキシチタン、テトラメトキシジルコニウム、テトラメトキシゲルマニウム、テトラメトキシシランの如きアルコキシドあるいはテトラクロロシランの如きハロゲン化合物の加水分解生成物および（Ｃ）感放射線分解剤を含有する感放射線性組成物。 - 特許庁