tangential componentとは 意味・読み方・使い方

A curled distortion region specifying part 256 compares the inclination of the tangential line extracted by the tangential line inclination extracting part 254 with a preset threshold value to specify a region having a three-dimensional distortion component.例文帳に追加

カール歪領域特定部２５６は、接線傾き抽出部２５４が抽出した接線の傾きと所定の閾値とを比較することで３次元状の歪み成分を持つ領域を特定する。 - 特許庁

A beating sound is obtained on the basis of a sound model 178c stored in the storage part 260 and the normal component, and a contact sound is obtained on the basis of the sound model 178c and the tangential component.例文帳に追加

また、記憶部２６０に格納された音モデル１７８ｃと法線成分とに基づいて叩き音を、音モデル１７８ｃと接面成分とに基づいてこすり音を、それぞれ求める。 - 特許庁

A two-dimensional velocity vector operation part 520 finds the two-dimensional velocity vector v of each point from the component of velocity vϕ in the tangential direction and the component of velocity v_k in the direction of ultrasonic beams of each point.例文帳に追加

二次元速度ベクトル演算部５２０は、各点の接線方向速度成分ｖφと超音波ビーム方向速度成分ｖ_k から各点の二次元速度ベクトル［ｖ］を求める。 - 特許庁

To prevent overlapping on a side wall having a tangential component in the direction [0-11] of the mesa.例文帳に追加

光半導体装置の製造方法に関し、メサの〔０−１１〕方向の接線成分を有する側壁における被さり成長の発生を防止する。 - 特許庁

The control part 200 calculates a normal component and a tangential component of a reaction force from a virtual object on the basis of a 3D model 178a and physical properties 178b stored in the storage part 260.例文帳に追加

制御部２００は、記憶部２６０に格納された３Ｄモデル１７８ａおよび物性１７８ｂに基づき、仮想物体からの反力の法線成分および接面成分を算出する。 - 特許庁

A developer control roll 50 is disposed so that a downstream side layer thickness control range (range B) is located in a region where a normal component of magnetic flux density on a development roll 86 is larger than a tangential component.例文帳に追加

下流側層厚規制範囲（範囲Ｂ）が現像ロール８６上の磁束密度の法線方向成分が接線方向成分より大きい領域に位置するように現像剤規制ロール５０が配置されている。 - 特許庁

Driving of the driving elements 14a-d during the gripping sequence is performed, in such a way that the drive elements 14a-d have a velocity with a significant tangential component.例文帳に追加

把持シーケンス中の駆動素子１４ａ〜ｄの駆動が、駆動素子１４ａ〜ｄが有意な接線成分を有する速度となるように行われることを特徴とする。 - 特許庁

In the substrate processing device, a horizontal component in a contact direction of the processing liquid at a position, where the processing liquid emitted from the nozzle 34 comes into contact with the substrate 9, is directed to a tangential direction of rotation of the substrate 9 at a contact position, or is inclined outward in a radial direction from the tangential direction.例文帳に追加

基板処理装置では、ノズル３４から吐出された処理液が基板９に接触する位置における処理液の接触方向の水平成分が、接触位置における基板９の回転の接線方向を向く、または、当該接線方向から径方向外側に傾斜する。 - 特許庁