surface oxide filmとは 意味・読み方・使い方

The surface roughness Ra at the light receiving surface of the titanium oxide film 4 is greater than the average particle size of titanium oxide powder used for the manufacture of the titanium oxide film 4.例文帳に追加

酸化チタン膜４の受光面における表面粗さＲａは、１〜１０μｍであるのが好ましい。 - 特許庁

To obtain a resist pattern without leaving resists on other parts than an oxide film on an oxide film around a main surface and an oxide film on a substrate peripheral surface.例文帳に追加

主面の周囲の酸化膜及び基板周面の酸化膜以外の部分にレジストが残存することのないレジストパターンを得る。 - 特許庁

Moreover, a screen oxide film 5 is formed on the surface of the flat section of the silicon 3 and the surface of the oxide film 4 (d).例文帳に追加

シリコン３の平坦部の表面と酸化膜４の表面にスクリーン酸化膜５を形成する（ｄ）。 - 特許庁

To provide a high-quality oxide film by smoothening the surface of the oxide film at high efficiency.例文帳に追加

高効率に酸化膜の表面を平滑化し、高品質な酸化膜を提供する。 - 特許庁

Some of the precursor-embedded oxide film is removed and makes it set lower than the upper surface of the silicon oxide film.例文帳に追加

前駆埋込み酸化膜を、シリコン窒化膜の上面より低い高さとして除去する。 - 特許庁

At this time, the surface of a field oxide film is also polished.例文帳に追加

その際、フィールド酸化膜の表面も研磨する。 - 特許庁

The laser annealing device includes, as preprocessing device, a surface oxide film removing device 1 which removes a surface oxide film of the amorphous silicon thin film and a surface oxide film forming device 2 which forms an oxide film of predetermined thickness on a surface of the amorphous silicon thin film.例文帳に追加

アモルファスシリコン薄膜の表面酸化膜を除去する表面酸化膜除去装置１と、アモルファスシリコン薄膜の表面に所定の厚さの酸化膜を形成する表面酸化膜形成装置２とを前処理装置として有する。 - 特許庁

Next, after the oxide film on a surface of the oxide-resistance film 4 formed in forming the gate oxide film 8 is removed, the oxide-resistance film 4 and the sacrificial oxide film 3 in a second element active region are removed.例文帳に追加

次いで、ゲート酸化膜８の形成時に形成された耐酸化膜４表面の酸化膜を除去した後、第２の素子活性領域内の耐酸化膜４及び犠牲酸化膜３を除去する。 - 特許庁