styrene solubilityとは 意味・読み方・使い方

Combining 4-amino-6-hydroxypyrazolo(3,4-d)pyrimidine with a polymer such as a styrene-maleic acid copolymer, PEG, polyacrylic acid, and polyvinylacetic acid improves water solubility and retention in blood and allows the resulting anti-inflammatory agent to be more efficiently accumulated in a focus to thereby reduce side effect.例文帳に追加

４−アミノ−６−ハイドロキシピラゾロ（３，４−ｄ）ピリミジンは、さらに、スチレンマレイン酸コポリマーやＰＥＧ、アクリル酸、ビニル酢酸等の高分子化合物と結合することで水溶性と血中滞留性が向上し、なお且つ、病巣により効率よく集積することにより、副作用が減少することも特徴とする。 - 特許庁

The resist developer used at the time of irradiating a resist layer containing a polymer of α-chloro-acrylic ester and α-methyl styrene with energy beams so as to be exposed and developed includes a solvent A containing fluorocarbon, and a solvent B made of methyl isobutyl ketone and higher in solubility for the resist layer than the solvent A.例文帳に追加

α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いメチルイソブチルケトンからなる溶媒Ｂとを含む。 - 特許庁

The resist developer used at the time of irradiating a resist layer containing a polymer of α-chloro-acrylic ester and α-methyl styrene with energy beams so as to be exposed and developed includes a solvent A containing fluorocarbon, an alcohol solvent B higher in solubility for the resist layer than the solvent A, and a solvent C made of methyl isobutyl ketone.例文帳に追加

α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いアルコール溶媒Ｂと、メチルイソブチルケトンからなる溶媒Ｃとを含む。 - 特許庁

The resist developer used at the time of irradiating a resist layer containing a polymer of α-chloro-acrylic ester and α-methyl styrene with energy beams so as to be exposed and developed includes a solvent A containing fluorocarbon, and a solvent B higher in solubility for the resist layer than the solvent A and made of n-amyl acetate, or ethyl acetate or the admixture thereof.例文帳に追加

α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高い酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｂとを含む。 - 特許庁

The resist material contains a first high molecular compound which becomes a base resin of which the alkali solubility is increased by an acid and a second high molecular compound containing a repeating unit from substituted or unsubstituted styrene, hydroxystyrene or carboxystyrene and a repeating unit having at least one fluorine atom as a polymer additive.例文帳に追加

酸によってアルカリ溶解性が向上するベース樹脂となる第１の高分子化合物と、高分子添加剤として置換又は非置換のスチレン、ヒドロキシスチレン又はカルボキシスチレンからの繰り返し単位と少なくとも１個のフッ素原子を有する繰り返し単位とを含んでなる第２の高分子化合物とを含むレジスト材料、及び該レジスト材料を用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The resist developer used at the time of irradiating a resist layer containing a polymer of α-chloro-acrylic ester and α-methyl styrene with energy beams so as to be exposed and developed includes a solvent A containing fluorocarbon, an alcohol solvent B higher in solubility for the resist layer than the solvent A, and a solvent C made of n-amyl acetate or ethyl acetate or the admixture thereof.例文帳に追加

α−クロロアクリル酸エステルとα−メチルスチレンとの重合体を含むレジスト層にエネルギービームを照射して露光して、現像を行う際に用いられるレジスト現像剤であって、フルオロカーボンを含む溶媒Ａと、前記溶媒Ａよりも前記レジスト層に対する溶解度が高いアルコール溶媒Ｂと、酢酸−ｎ−アミル又は酢酸エチル又はそれらの混合物からなる溶媒Ｃとを含む。 - 特許庁

The electrostatic charge image developing toner contains at least a bonding resin, a colorant and a polyfunctional ester compound having (a) ≥5 ester bonds in one molecule, (b) a molecular weight of ≥2,000, (c) a solubility of ≥5 g/100 g styrene measured at 35°C and (d) an acid value of ≤2 mgKOH/g.例文帳に追加

少なくとも結着樹脂と着色剤と多官能エステル化合物とを含有する静電荷像現像用トナーにおいて、該多官能エステル化合物が、(a) 分子中に５個以上のエステル結合を有し、(b) 分子量が２０００以上、(c) ３５℃で測定したスチレン１００ｇに対する溶解量が５ｇ以上、かつ、(d) 酸価が２ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることを特徴とする静電荷像現像用トナー。 - 特許庁