sputtersとは 意味・読み方・使い方

To provide an arc welding method that suppresses occurrence of welding defects and that greatly reduces sputters, in performing welding in a single bevel groove.例文帳に追加

レ形開先内の溶接を行う際に、溶接欠陥の発生を抑制すると共にスパッタを大幅に低減させるアーク溶接方法を提供する。 - 特許庁

To protect a position sensor and set screw against sputters with a protection cover and to simply perform mounting of the protection cover in relating to the position sensor.例文帳に追加

位置センサ及び止め螺子を保護カバーでスパッタから保護すると共に、該保護カバーの取り付けを位置センサに関連付けて簡単に行うことができるようにする。 - 特許庁

The positive ions are collided with the discharge electrode 36 serving as the negative electrode and sputters the material of the discharge electrode 36 or vaporizes the material of the discharge electrode 36.例文帳に追加

この正イオンが負電極とされた放電電極３６に衝突し、放電電極３６の材料をスパッタするか、又は放電電極３６の材料を蒸発させる。 - 特許庁

To surely align the axis of an outer shell and the both axes of an inlet cone and an outlet cone and to avoid adverse effects due to sputters during arc welding.例文帳に追加

アウタシェルと、インレットコーンおよびアウトレットコーンとの両軸線を確実に合致させると共にアーク溶接中のスパッタによる弊害を回避し得るようにした触媒コンバータを提供する。 - 特許庁

To provide a laser welding method by which laser a welding can efficiently be performed while preventing occurrence of sputters and metal vapor by emitting a laser beam at lower energy density.例文帳に追加

より低いエネルギー密度でレーザー光を照射することでスパッタや金属蒸気の発生を防止しつつ、効率的にレーザー溶接を実施することが可能なレーザー溶接方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and the like capable of efficiently protecting a semiconductor chip from sputters at the time of laser welding by a relatively small quantity of resin and with a good workability, and having an excellent thermal diffusion property.例文帳に追加

良好な作業性で比較的少量の樹脂により効率的に半導体チップをレーザ溶接時のスパッタから保護することができる、熱拡散性に優れた半導体装置等の提供。 - 特許庁

To provide a battery arranged so that sputters produced by welding are prevented from entering an electrode assembly while keeping a channel for degasification in an abnormal condition, and to provide a vehicle with such battery and a battery-equipped device.例文帳に追加

異常時のガス抜け流路を確保しつつ、溶接で生じたスパッタを電極体に混入させるのを防止した電池、このような電池を搭載した車両及び電池搭載機器を提供する。 - 特許庁

The sputtering apparatus 1 sputters a target 8 by ions in plasma using a magnetron sputtering method, to form an ITO film originated from the target 8 on a glass substrate 5 attached to a rotating carrousel 4.例文帳に追加

スパッタリング装置１は、マグネトロンスパッタリング法を用いてターゲット８をプラズマ中のイオンによりスパッタリングし、回転するカルーセル４に取り付けられたガラス基板５にターゲット８によるＩＴＯ膜を形成する。 - 特許庁