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spin etchingとは 意味・読み方・使い方
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「spin etching」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 51件
WAFER SPIN CHUCK AND ETCHING DEVICE EQUIPPED WITH SPIN CHUCK例文帳に追加
ウェハスピンチャックとスピンチャックを具備したエッチング装置 - 特許庁
SPIN ETCHING METHOD FOR SEMICONDUCTOR WAFER例文帳に追加
半導体ウエーハのスピンエッチング方法 - 特許庁
SPIN ETCHING APPARATUS FOR RECTANGULAR SUBSTRATE例文帳に追加
長方形基板のスピンエッチング装置 - 特許庁
In the sheet one-surface etching stage, a spin etching device 30 is used to spin-etch the diffused wafer.例文帳に追加
枚葉片面エッチング工程では、スピンエッチング装置30を用いて、拡散ウェーハがスピンエッチングされる。 - 特許庁
Then, the spin chuck starts its rotation, and prescribed cleaning by the spin etching is performed.例文帳に追加
次にスピンチャックが回転を開始し、スピンエッチングによる所定の洗浄が行われる。 - 特許庁
To detect invasion of an etching solution from a crack in a semiconductor wafer into a chuck of a spin etching apparatus (wet etching apparatus) and automatically stop operation of the spin etching apparatus.例文帳に追加
半導体ウェハーのクラックからスピンエッチング装置(ウェットエッチング装置)のチャックへエッチング液が滲入したことを検知し、スピンエッチング装置の稼動を自動的に停止する。 - 特許庁
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「spin etching」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 51件
METHOD OF FORMING EMBEDDED WIRING LAYER AND JET-TYPE SPIN-ETCHING APPARATUS例文帳に追加
埋込配線層の形成方法及び噴流式スピンエッチング装置 - 特許庁
To provide a spin etching method capable of preventing a cleaning processing solution to an object to be subjected to spin etching processing from going round the back surface of the object.例文帳に追加
スピンエッチング処理される被処理体への洗浄処理液の裏面回り込みを防止するスピンエッチング方法を提供する。 - 特許庁
A quantity of the etching E running around is controlled by a rotational speed of a spin chuck 1.例文帳に追加
エッチング液Eの回り込み量は、スピンチャック1の回転速度によって制御される。 - 特許庁
To provide a spin chuck which, more concretely, blocks a space between a rotating body and a fixed body of the spin chuck, and an etching device equipped with the spin chuck.例文帳に追加
本発明はスピンチャックに関するもので、より詳細にスピンチャックの回転体と固定体の間の空間を遮断するスピンチャックと前記スピンチャックを具備したエッチング装置に関するものである。 - 特許庁
Two etching members 2 and 3 are located at the sides of the wafer W held by the spin chuck 31.例文帳に追加
スピンチャック31に保持されたウエハWの側方には、2つのエッチング処理部材2,3が配されている。 - 特許庁
Etching treatment parts 3a to 3c are provided with spin bases 11 which almost horizontally hold and rotate substrates W, etching droplet jet devices 10 for jetting droplets of etching liquid toward the substrates W kept by the spin bases 11 and treatment liquid supply devices 26 for switching etching liquid and pure water and supplying them to the substrates W kept by the spin bases 11.例文帳に追加
エッチング処理部3a〜3cは、ウエハWをほぼ水平に保持して回転するスピンベース11と、スピンベース11に保持されたウエハWに向けてエッチング液の液滴を噴射するエッチング液滴噴射装置10と、スピンベース11に保持されたウエハWにエッチング液および純水を切り換えて供給可能な処理液供給装置26とを含んでいる。 - 特許庁
To suppress generation of a fine scratch and a defective part being generated at the top of an oxide plug due to chemical-mechanical polishing by depositing a spin-on glass layer on the chemically and mechanically polished oxide layer and etching back the spin-on glass layer and the oxide layer.例文帳に追加
浅いトレンチ絶縁構造を作る方法は、基板にトレンチを形成し、ついで酸化物マテリアルを前記トレンチ内と前記基板上にデポジットする。 - 特許庁
An etching liquid nozzle 307 in the shape of a straight line when viewed in a plane is disposed on the top surface of the spin base 302.例文帳に追加
スピンベース302の上面には、平面視で一文字形状のエッチング液ノズル307が配置されている。 - 特許庁
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スピンエッチング
日英・英日専門用語
2
gnu make
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3
svoc make
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5
ら抜き 作れる
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