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space plasmaとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 宇宙空間プラズマ
「space plasma」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 620件
particles in space exist in the form of a plasma発音を聞く 例文帳に追加
空間の微粒子が、プラズマの形で存在する - 日本語WordNet
To realize plasma production having high plasma space volume ratio over a plasma reactor volume and plasma production having high power efficiency.例文帳に追加
プラズマリアクター容積に対するプラズマ空間容積率の高いプラズマ生成、さらには電力効率の高いプラズマ生成を実現する。 - 特許庁
In plasma treating, the space T is reduced to increase the plasma density, so that the etching rate is increased.例文帳に追加
プラズマ処理時には間隔Ｔを小さくしてプラズマ密度を高くし、エッチングレートを上げる。 - 特許庁
The process gas of the supply source 2 of a normal pressure plasma etching apparatus M is converted to the plasma gas within a plasma discharge space 1a, and this plasma is blown to a processing object W.例文帳に追加
常圧プラズマエッチング装置Ｍの供給源２のプロセスガスをプラズマ放電空間１ａにてプラズマ化し、被処理物Ｗに吹付ける。 - 特許庁
To provide a plasma generation device having a wide plasma generation space and being capable of performing plasma treatment continuously and uniformly, as well.例文帳に追加
プラズマ生成空間が広く、プラズマ処理を連続かつ均一に行うことができるプラズマ生成装置を提供する。 - 特許庁
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「space plasma」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 620件
A surface layer treatment apparatus 1 is provided with a plasma torch T generating the plasma arc P in a space between the cast slab H and the plasma torch T.例文帳に追加
表層処理装置１は、鋳鋼片Ｈとの間にプラズマアークＰを発生させるプラズマトーチＴを備える。 - 特許庁
To provide a plasma treatment device capable of generating plasma evenly in a treatment space.例文帳に追加
処理空間においてプラズマを均一に立てることが可能なプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
PIPE FOR PUMPING SPACE BETWEEN TWO TILEE IN PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加
プラズマディスプレイで二つのタイル間の空間をポンピングするための管 - 特許庁
A plasma space under approximate normal pressure is formed by a pair of electrodes.例文帳に追加
一対の電極にて略常圧のプラズマ空間を形成する。 - 特許庁
Compatibility between ensuring of uniformity of plasma distribution and prevention of gas inflow from the plasma processing space to the plasma producing spaces can be established.例文帳に追加
プラズマ分布の均一性確保とプラズマ処理空間からプラズマ発生空間へのガス流入阻止の両立が図れる。 - 特許庁
The plasma processing device 59 makes different the position of a strong plasma processing space to a substrate 61 in a first plasma processing chamber CB1 and the position of the strong plasma processing space to the substrate 61 in a second plasma processing chamber CB2.例文帳に追加
プラズマ処理装置５９は、第１プラズマ処理チャンバーＣＢ１での基板６１に対する強プラズマ処理空間の位置と、第２プラズマ処理チャンバーＣＢ２での基板６１に対する強プラズマ処理空間の位置と、をずらす。 - 特許庁
The oxygen-containing plasma is held in the treatment space for a prescribed length of time.例文帳に追加
酸素含有プラズマは、処理空間内で所定時間維持される。 - 特許庁
A vacuum chamber 1 has a plasma generating space 11 inside.例文帳に追加
真空チャンバ１は、内部にプラズマ発生空間１１を有している。 - 特許庁
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