solid-phase epitaxyとは 意味・読み方・使い方

Then, the composition of oxygen is also made to agree with stoichiometry by solid phase epitaxy in a high temperature and low oxygen partial pressure atmosphere and low-temperature reduction to produce a single crystal thin film having superconductivity.例文帳に追加

この後、高温、低酸素分圧雰囲気下での固相エピタキシーと低温還元により酸素の組成も化学量論組成に合わせて超伝導化した単結晶薄膜を作製する。 - 特許庁

To enable to grow a solid solution in a thermodynamically stable state, to enable to stably form the solid solution layer and the oxide superconductor layer by liquid phase epitaxy method, and to make the oxide superconductor of good quality grow with good yield.例文帳に追加

本発明は、固溶体層を熱力学的に安定させた状態で成長させることができ、液相エピタキシー法による固溶体層と酸化物超電導層の生成を安定的に行うことができ、歩留まりを良好として、良質の酸化物超電導層を生成させることを目的とする - 特許庁

In the second process, solid-phase epitaxy process of the second portion and the third portion wherein at least a part of the first portion is taken as a seed is induced by performing heating treatment for at least the second portion and the third portion.例文帳に追加

第２の工程において、少なくとも第２の部分および第３の部分に対して加熱処理を施すことにより、第１の部分の少なくとも一部をシードとする第２の部分及び第３の部分の固相エピタキシー過程を誘起する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a perovskite-type oxide single crystal structure, in which shapes of a microstructure are maintained and the structure is uniformly single-crystallized by inducing solid phase epitaxy to single-crystallize a precursor part to obtain a single crystal structure.例文帳に追加

固相エピタキシーを生じさせて前駆体部を単結晶化し単結晶構造体を得ることにより、微細構造体の形状を保持し均一に単結晶化してペロブスカイト型酸化物単結晶構造体を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a perovskite-type oxide single crystal having a desired composition by heat-treating a complex of a perovskite-type oxide precursor and a seed single crystal to induce solid phase epitaxy in the precursor by heat treating to form a single crystal.例文帳に追加

ペロブスカイト型酸化物の前駆体と種子単結晶との複合体を熱処理により前駆体に固相エピタキシーを生じさせて単結晶化することにより、所望の組成のペロブスカイト型酸化物単結晶を製造する方法を提供する。 - 特許庁

The semiconductor element comprises an epitaxial layer using a solid phase epitaxy process, a first metal layer on the epitaxial layer, a nitride barrier metal on the first metal layer, a second metal layer on the barrier metal and metal silicide formed between the epitaxial layer, and the first metal layer.例文帳に追加

固相エピタキシー工程を用いたエピタキシャル層と、前記エピタキシャル層上の第１金属層と、前記第１金属層上の窒化物系バリヤメタルと、前記バリヤメタル上の第２金属層と、前記エピタキシャル層と第１金属層との間に形成された金属シリサイドとを含む。 - 特許庁