soft etchingとは 意味・読み方・使い方

The method for producing a soft magnetic material comprises a stage wherein soft magnetic powder comprising a plurality of soft magnetic particles is prepared; a stage wherein the soft magnetic powder is etched to remove the surface 10a of each soft magnetic particle 10; and a stage wherein, after the etching stage, the powdery soft magnetic powder is heat treated at 400 to 900°C.例文帳に追加

軟磁性材料の製造方法は、複数の軟磁性粒子１０を含む軟磁性粉末を準備する工程と、軟磁性粉末をエッチングすることによって、軟磁性粒子１０の表面１０ａを除去する工程と、エッチングする工程の後、粉末状の軟磁性粉末を４００℃以上９００℃以下の温度で熱処理をする工程とを備える。 - 特許庁

After that, the soft magnetic material only of the flat part is removed by an etching method having the anisotropy such as an ion milling so as to leave the soft magnetic material on the side surface of the dummy pattern.例文帳に追加

その後、イオンミリングなどの異方性をもつエッチング手法により、平坦部の軟磁性材料のみを除去し、ダミーパターン側面の軟磁性材料を残すようにする。 - 特許庁

A land on an insulating substrate is thinned by soft etching, thereby forming a gap between the land and an overresist type insulating layer.例文帳に追加

絶縁基板上のランドをソフトエッチングにより薄層化してオーバーレジストタイプの絶縁層との間に間隙を形成。 - 特許庁

Its soft etching operation has an action which removes and smoothes fine irregularities on the surface of a pattern part 2 on the board 1.例文帳に追加

このソフトエッチングは，プリント配線板１のパターン部２の表面の微細な凹凸を除去し，平滑化する作用がある。 - 特許庁

To manufacture a highly reliable thin film magnetic head by minimizing generation of an angle due to re-adhesion of a soft magnetic thin film when forming a magnetic core by etching a soft magnetic metal thin film.例文帳に追加

軟磁性金属薄膜をエッチングして磁性コアを形成する時に、軟磁性薄膜の再付着による角の発生を最少限に抑制し、信頼性の高い薄膜磁気ヘッドを製造する。 - 特許庁

To provide a magnetic recording medium which is inexpensive and has a high quality by patterning a soft magnetic layer without using etching.例文帳に追加

エッチングを用いること無く、軟磁性層のパターニングを行うことで、低コストで、高品質な磁気記録媒体を提供すること。 - 特許庁

As a result, by its soft etching operation, diffuse reflection is reduced when the pattern 2 is irradiated with light, and the luminance of the pattern 2 is increased.例文帳に追加

このためソフトエッチングにより，パターン部２に光を照射したときの乱反射が減少し，パターン部２での輝度が高くなる。 - 特許庁

At the time of the soft etching of a smear removing process performed prior to a catalyst bestowal process for chemical copper plating, after the via hole 13 is formed in the insulating layer 12 of a multilayer substrate by laser irradiation, aqueous solution including sulfuric acid and hydrogen peroxide is used as the soft etching liquid.例文帳に追加

多層基板の絶縁層12にレーザー照射によりビアホール13を形成した後、化学銅メッキのための触媒付与工程に先だって行われるスミア除去工程のソフトエッチの際に、ソフトエッチ液として硫酸及び過酸化水素を含む水溶液が使用される。 - 特許庁