silicon metalとは 意味・読み方・使い方

METHOD FOR DEPOSITING METAL SILICON NITRIDE例文帳に追加

金属ケイ素窒化物の被着方法 - 特許庁

The second light-shieldale film 14 is the film that is primarily composed of a silicon-containing compound that can be etched by F-based dry etching, such as silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, silicon/transition-metal oxide, silicon/transition metal nitride or silicon/transition metal oxynitride.例文帳に追加

さらに、第２の遮光性膜１４はＦ系ドライエッチングが可能な珪素含有化合物を主成分とする、珪素や珪素と遷移金属の酸化物、窒化物、または酸化窒化物などの膜である。 - 特許庁

PURIFICATION OF HIGHLY PURE METAL SILICON例文帳に追加

高純度金属シリコンの精製方法 - 特許庁

METHOD FOR REPRODUCING SILICON WAFER WITH METAL FILM例文帳に追加

金属膜付シリコンウエハーの再生方法 - 特許庁

SILICON INGOT AND HEAVY METAL CONTAMINATION EVALUATING METHOD OF SILICON WAFER例文帳に追加

シリコンインゴット及びシリコンウェーハの重金属汚染評価方法 - 特許庁

To provide precursors suitable for forming metal silicon nitride base film, or metal silicon oxide or metal silicon oxynitride base film.例文帳に追加

金属窒化ケイ素ベース膜、金属酸化ケイ素又は金属酸窒化ケイ素ベース膜を形成させるために好適な前駆体の提供。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING METAL SILICON OXIDE, METHOD FOR PRODUCING METAL SILICON OXYNITRIDE AND METHOD FOR PRODUCING SILICON-DOPED METAL NITRIDE例文帳に追加

金属シリコンオキサイドの製造方法、金属シリコンオキシナイトライドの製造方法、およびシリコンドープされた金属ナイトライドの製造方法 - 特許庁

METHOD FOR ANALYZING METAL IMPURITIES OF SILICON WAFER例文帳に追加

シリコンウェハの金属不純物分析方法 - 特許庁