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To provide a formation method of a damascene wiring for embedding a wiring material in a groove, formed in a substrate which can repair the seed layer of poor coverage, enables a wiring material to grow stably in electrolytic plating, and can restrain generation of troubles, such as voids.例文帳に追加
基板に形成された溝部に配線材料を埋め込むダマシン配線の形成方法であって、カバレッジの悪いシード層を修理することができ、電解めっき時に配線材料を安定的に成長させ、ボイド等の不具合発生を抑制することのできるダマシン配線の形成方法を提供する。 - 特許庁
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