pulsed radiationとは 意味・読み方・使い方

The exposure level of the radiation beam is made constant regardless of change in beam travel speed by forming the radiation beam into a pulsed beam and controlling its pulse interval and pulse width in concert with a surface moving speed of the radiation beam on the curable liquid composition.例文帳に追加

放射ビームをパルス状のビームとし、液状硬化性組成物の表面上での放射ビームの走査速度に合わせて放射ビームのパルス間隔とパルス幅を制御することにより、放射ビームの移動速度の増減にかかわらず、放射ビームの露光レベルが一定になるようにする。 - 特許庁

The invention relates to a method and apparatus for forming three-dimensional objects from a medium solidifiable when subjected to a beam of pulsed radiation, wherein the pulses of radiation are generated when the beam is directed to desired pulsing locations on a target surface of the medium.例文帳に追加

パルス放射線のビームに曝されたときに硬化可能な媒体から三次元物体を形成する方法および装置であって、ビームがこの媒体の標的表面上の所望のパルス位置に向けられたときに放射線のパルスが発生する。 - 特許庁

Preferably, the laser beam is a nano-second pulsed laser beam, and the radiation conditions of the laser beam are preferably 2.0×10^3 to 4.0×10^3 mJ/m^2/pulse, 2 to 20 Hz, and the number of pulses of 200 to 20,000.例文帳に追加

レーザーは、ナノ秒パルスレーザーが望ましく、レーザーの照射条件は、２．０×１０^３〜４．０×１０^３ｍＪ／ｍ^２／ｐｕｌｓｅ、２〜２０Ｈｚ、かつ、パルス数２００〜２００００ｐｕｌｓｅｓが望ましい。 - 特許庁

In order to reduce the stress on the radiation source of an incandescent lamp for an optical sensor apparatus in pulsed operation, and to increase its lifetime without excessively increasing the size and production costs, the radiation source 102 comprises: the incandescent lamp 101 which emits a broadband light spectrum; and a semiconductor switch V1 switching a connection of the incandescent lamp 101 to a supply voltage Vs.例文帳に追加

パルス動作の光センサ装置用の白熱灯を通る放射源のストレスを低減し、寸法及び製品コストを過度に増加することなく、耐用年数を延ばすために、放射源１０２は、広帯域光スペクトルを放出する白熱ランプ１０１と、白熱ランプ１０１と供給電圧Ｖ_sとの接続を切り替える半導体スイッチＶ1とを有する。 - 特許庁

The apparatus includes a pulsed, semiconductor laser light source having more than 1000 spatial modes and capable of emitting one or more pulses of radiation with a temporal pulse length between 1 nanosecond and 1 microsecond, a workpiece stage for supporting the workpiece, and an illumination optical system having an exposure field.例文帳に追加

この装置は、１０００より多い空間モードを有し、かつ１ナノセカンドと１マイクロセカンドの間の時間パルス長を伴う１つ以上の放射パルスを放出し得る、パルス化した半導体光源、ワークピースを支持するためのワークピースステージ、および露光領域を有する照明光学系を備える。 - 特許庁

To provide a method for generating X-rays or EUV radiation via laser plasma emission, in which at least one target (17) is generated in a chamber, and at least one pulsed laser beam (3) is focused on the target (17) in the chamber.例文帳に追加

レーザプラズマ放射によりＸ線放射線または極紫外線放射線を発生するための方法であって、少なくとも１つのターゲット（１７）をチャンバ内で発生させるとともに、少なくとも１つのパルスレーザビーム（３）をチャンバ内でターゲット（１７）に集光させる方法を提供する。 - 特許庁

Pulsed electromagnetic radiation having a wavelength spectrum selected for a peak wavelength near to or matching a peak absorption wavelength of the nanoparticulates selectively heats the nanoparticulates resulting in selective and increased thermomechanical damage to the biologic body or cells without affecting any surrounding medium or normal cells or tissues.例文帳に追加

ナノ微粒子のピーク吸収波長に近いかまたは一致するピーク波長を選択された波長スペクトルを持つパルス電磁放射が、ナノ微粒子を選択的に加熱し、周囲媒質または正常細胞または組織のいずれにも影響せずに、生物体または細胞に対する選択的なおよび増大した熱機械的損傷を結果として生じる。 - 特許庁

To provide a method and a unit for stabilizing an output average of radiation emitted from a pulsed radioactive source (1) which enables a reliable regulation even when there is no sufficiently reliable operation variable for influencing an emitted pulse energy.例文帳に追加

本発明は放射線源の放出される放射線の平均出力を安定化するための方法及び装置に関しており、その課題は、放出パルスエネルギに影響を与える為の十分に信頼できる操作変数がない場合でも信頼できる調整が出来る、パルス放射線源（１）の平均放出放射線出力を安定化させる為の新たな可能性を見出すことである。 - 特許庁