pre-etchingとは 意味・読み方・使い方

The method of controlling dimensions of structures formed on the substrate using the etching process includes a step 204 of measuring pre-etching dimensions of the respective elements of a patterned etching mask, a step 206 of adjusting the process recipe of the etching process using the results of the pre-etch measurements, and a step 208 of adjusting the process recipe of the etching process, using the patterned etch mask.例文帳に追加

エッチングプロセスを用いて基板上に形成された構造物の寸法を制御する方法がパターン化されたエッチングマスクのそれぞれの素子のエッチング前の寸法を測定するステップ２０４、前記エッチング前の測定結果を用いてエッチングプロセスのプロセスレシピを調整するステップ２０６及びパターン化されたエッチングマスクを用いてエッチングプロセスを行い、プロセスレシピを調整するステップ２０８を有する。 - 特許庁

Degreasing and pre-etching are performed first on a resin base material surface serving as the drive shaft to secure the adhesion of a plating material.例文帳に追加

鍍金材の密着性を確保するために先ず駆動軸となる樹脂母材の表面を脱脂、プリエッチングを行う。 - 特許庁

A pre-treating method for etching a semiconductor wafer includes a process of applying acid that is one main component of a mixed acid, and functions as a relaxing agent on the surface of the semiconductor wafer before etching P4 is carried out by the use of the mixed acid.例文帳に追加

混酸エッチングＰ_４を行う前に、半導体ウェーハの表面に混酸の１主成分であり緩和剤の働きをする酸を塗布する半導体ウェーハエッチングの前処理方法。 - 特許庁

By etching in a pre-etching process, a least-adhesive layer having poor affinity with respect to the adhesive agent of an adhesive tape is formed uniformly on the surface of a resist pattern on a wafer W.例文帳に追加

前工程におけるエッチングによってウエハＷ上のレジストパターンの表面には、粘着テープの粘着剤との親和性の悪い難粘着層が不均一に形成される。 - 特許庁

Then, a pre-etching process through which all the area of the non-doped region 132 of the polysilicon layer 13 is removed as thick as prescribed is carried out before the dry etching process is carried out.例文帳に追加

そこで、上記ドライエッチング工程の前に、予めポリシリコン層１３におけるノンドープ領域１３２の全域を所定厚さ分除去しておくプリエッチング工程を設けている。 - 特許庁

To provide an apparatus equipped with a practical constitution, which is capable of preventing plasma from being diffused, and carry out a pre-etching process.例文帳に追加

プラズマの拡散を防止し、前工程エッチングのような処理を行うのに実用的な構成を備えた装置を提供する。 - 特許庁

In addition, before the main etching step, a pre-etching step is performed by supplying a third amount of high-frequency power which is larger than the first amount of high-frequency power to the stage electrode 14 so as to change the etching gas inside the vacuum chamber 11 into the plasma state.例文帳に追加

加えて、このメインエッチング工程の前に、ステージ電極１４に第一の電力量よりも大きい第三の電力量で高周波電力を供給して、真空槽１１内のエッチングガスをプラズマにするプレエッチング工程を行う。 - 特許庁

Specified metal 4 is plasma-etched as a pre-processing before the start of etching when the exposure stage of specified metal affecting the fluctuation of the etching rate is included, and a surface where specified metal is not exposed is etched in the initial stage of etching from the start of plasma etching to the end.例文帳に追加

プラズマエッチングの開始から終了までの間に、エッチングレートの変動に影響を与える特定金属の露出段階が含まれ、且つ、エッチング初期には特定金属が露出していない表面に対してエッチングを行う際に、エッチングの開始前の前処理として、特定金属４をプラズマエッチングする。 - 特許庁