potassium acid fluorideとは 意味・読み方・使い方

As the fluoride, hydrofluoric acid, sodium fluoride, potassium fluoride and ammonium fluoride are used, as the phosphoric acid, orthophosphoric acid, metaphosphoric acid, polyphosphoric acid or the like are used, and, as the other component, hydrogen peroxide may be incorporated therein.例文帳に追加

フッ化物としてはフッ酸、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化アンモニウム、リン酸としてはオルトリン酸、メタリン酸、ポリリン酸等が用いられ、その他の成分として過酸化水素を含んでも良い。 - 特許庁

This method for producing the fluorinated vinyl ether involves converting the acid fluoride group of the fluorinated acid fluoride compound into a potassium salt and then subjecting the converted compound to a pyrolysis reaction in a solvent-free state.例文帳に追加

フッ素化酸フルオリド化合物の酸フルオリド基をまずカリウム塩に変換してから無溶媒で熱分解反応を行う製造方法である。 - 特許庁

The method for recovering high-purity tantalum comprises steps of: dissolving tantalum scrap, such as tantalum chips, by means of hydrofluoric acid or mixed acid of hydrofluoric acid and nitric acid and removing an undissolved residue; adding a potassium-containing salt to precipitate a tantalum fluoride potassium crystal; and further subjecting this tantalum fluoride potassium crystal to sodium reduction to obtain metal tantalum powder.例文帳に追加

タンタル切粉等のタンタルスクラップをフッ化水素酸又はフッ化水素酸と硝酸との混酸で溶解し、未溶解残渣を除去した後、カリウム含有塩を添加しフッ化タンタルカリウム結晶を析出させ、さらにこのフッ化タンタルカリウム結晶をナトリウム還元して金属タンタル粉を得ることを特徴とする高純度タンタルの回収方法。 - 特許庁

The etchant composition of a metal oxide film consists of a solution containing (A) 5-20 mass% of 2-hydroxy ethane sulfonic acid or its salt in terms of 2-hydroxy ethane sulfonic acid, and (B) 0.05-5 mass% of at least one kind of fluoride compound selected from hydrogen fluoride, ammonium fluoride, potassium fluoride, sodium fluoride and lithium fluoride.例文帳に追加

（Ａ）２−ヒドロキシエタンスルホン酸又はその塩を、２−ヒドロキシエタンスルホン酸換算で５〜２０質量％と、（Ｂ）フッ化水素、フッ化アンモニウム、フッ化カリウム、フッ化ナトリウム及びフッ化リチウムから選ばれる少なくとも１種類のフッ化化合物０．０５〜５質量％とを含む水溶液からなることを特徴とする金属酸化物被膜のエッチング液組成物。 - 特許庁

The aluminum extruded material is matted by dipping a degreased aluminum extruded material in a warming treatment bath with potassium fluoride and hydrofluoric acid at the concentration of 0.15-0.3 mol/L respectively and at a bath temperature of 50-70°C to cause an aluminum melting reaction of hydrofluoric acid and a potassium cryolite-producing reaction by melted aluminum and potassium fluoride.例文帳に追加

フッ化カリウム及びフッ酸濃度をそれぞれ０．１５〜０．３ｍｏｌ／Ｌ、浴温を５０〜７０℃とする加温処理浴に、脱脂処理したアルミ押出材を浸漬処理して、フッ酸のアルミ溶解反応及び溶解アルミとフッ化カリウムによるカリウム氷晶石生成反応を施すことによって、アルミ押出材のマット処理とする。 - 特許庁

The invention relates to the method for producing the optically active 2-fluorocarboxylic acid ester, in particular methyl (R)-2-fluoropropionate, from (S)-2-sulfonyloxycarboxylic acid ester and potassium fluoride.例文帳に追加

本発明は、（Ｓ）−２−スルホニルオキシカルボン酸エステルおよびフッ化カリウムからの、光学活性な２−フルオロカルボン酸エステル、特に（Ｒ）−２−フルオロプロピオン酸メチルの製造方法に関する。 - 特許庁

The semiconductor manufacturing apparatus component is cleaned, without damaging the base materials of the components, by using a cleaning composition containing at least one kind selected from among sodium fluoride, potassium fluoride, lithium fluoride and ammonium fluoride, and citric acid.例文帳に追加

フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、フッ化リチウム及びフッ化アンモニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種のフッ化物及びクエン酸を含んでなる洗浄用組成物を用いて、構成部品の基材にダメージを与えることなく半導体製造装置用部品を洗浄する。 - 特許庁