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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 専門用語対訳辞書 > plasma hole structureの意味・解説 

plasma hole structureとは 意味・読み方・使い方

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Weblio専門用語対訳辞書での「plasma hole structure」の意味

plasma hole structure

プラズマホール構造
Weblio専門用語対訳辞書はプログラムで機械的に意味や英語表現を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。

「plasma hole structure」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 13



例文

To provide a mounting structure for a plasma ignition device, fixing the plasma ignition device in a mounting hole with injection holes of the plasma ignition device oriented to desired directions without using components separated from the plasma ignition device.例文帳に追加

プラズマ点火装置とは別体の部品を使用することなくプラズマ点火装置の噴孔を所望の方向へ向けてプラズマ点火装置を取り付け穴に固定することができるプラズマ点火装置の取り付け構造を提供する。 - 特許庁

In this structure, erosion accelerated by the plasma generated at both side end parts of the gas introduction hole 19a is prevented.例文帳に追加

この構造は、ガス導入孔19aの両側端部で生じるプラズマで促進されるエロージョンを防止する。 - 特許庁

This plasma CVD device has a hollow structure of plasma confinement electrode plate 5 for plasma isolation being provided with a plurality of holes, between a plasma generation region and a substrate processing region, and the plasma confinement electrode plate 5 is provided with a radical passage hole and a neutral gas passage hole, and plural sheets of gas diffusion plates 7 (11 and 12) having holes are provided inside the plasma confinement electrode plate.例文帳に追加

プラズマ生成領域と基板処理領域との間に、複数の孔が設けられたプラズマ分離用の中空構造のプラズマ閉込電極板5を有し、プラズマ閉込電極板5には、ラジカル通過孔と中性ガス通過孔が設けられ、プラズマ閉込電極板の内側には、孔を有するガス拡散板7(11,12)が複数枚設けられている。 - 特許庁

The discharge plasma is uniformly generated over the whole honeycomb structure and the decomposition efficiency is improved since discharge space is specified by the through-hole of the honeycomb structure.例文帳に追加

放電空間がハニカム構造体の貫通孔によって規定されるので、ハニカム構造体全体に亘って均一に放電プラズマを発生でき、有害物質の分解効率を向上できる。 - 特許庁

When the vapor is introduced through the penetrating hole, the organic vapor passes the arc plasma region so as to deposit the carbon nano-structure on the electrode and not to deposit on other part.例文帳に追加

貫通孔より導入すると、カーボンナノ構造体が電極から外れることなく堆積されるように有機蒸気がアークプラズマ領域を通過する。 - 特許庁

To provide a plasma type melting furnace of such a structure that the incineration ash and the splashing ash from incineration are melted upon mixing or individually using a plasma torch, capable of establishing a seal of the intra-furnace pressure and the electric insulation at the insert hole of the plasma torch safely and certainly.例文帳に追加

プラズマトーチを使用して焼却灰及び焼却飛灰を混合又は単独で溶融するプラズマ式溶融炉において、プラズマトーチの挿入口における炉内圧のシールと電気的絶縁とを安全かつ確実に行なうことができるプラズマ式溶融炉を提供する。 - 特許庁

例文

To provide a plasma etching method capable of forming a groove or a hole of which the bottom surface is smooth on a polymer material, such as PMMA and PC, or an ultrafine pillar structure on the bottom surface.例文帳に追加

PMMAやPCなどポリマー材料に、底面が平滑である溝や孔、もしくは底面に極微細な柱状構造を形成可能とするプラズマエッチング方法を提供する。 - 特許庁

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「plasma hole structure」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 13



例文

To provide a plasma-jet spark plug in which structure of a through-hole of a ground electrode is regulated to allow plasma produced in a cavity to act on ignition to air-fuel mixture at a maximum, thereby improving ignitability, and its ignition system.例文帳に追加

接地電極の連通孔の構造を規定して、キャビティにて形成されるプラズマが混合気への着火に対し最大限に作用するように構成することで着火性を向上することができるプラズマジェット点火プラグおよびその点火システムを提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor device having a borderless wiring structure forms a borderless via-hole in which two different types of metals are exposed in an aperture, wherein prior to the wet processing for stripping a resist mask used to form the via hole, ashing is done using plasma including H_2O.例文帳に追加

ボーダレス配線構造を有する半導体装置の製造方法において、開口内で2種類の異なる金属が露出するボーダレスビアホールを形成し、前記ビアホールの形成に用いたレジストマスクを剥離する際のウェット処理に先立って、H2Oを含むプラズマでアッシングする。 - 特許庁

In the chamber of an inductive coupling type plasma etching apparatus, selective etching is made to the second insulating film 105 by a first etching gas using a fluorocarbon gas having a ring structure as a main constituent, and an upper section 108a of the hole is formed.例文帳に追加

誘導結合型プラズマエッチング装置のチャンバー内において、第2の絶縁膜105に対して、環構造を有するフルオロカーボンガスを主成分とする第1のエッチングガスにより選択的エッチングを行なって、ホールの上部108aを形成する。 - 特許庁

In this baking furnace 20 for baking the substrate 21 on which a precursor of a structure of the plasma display panel is formed, a catalyst 30 is placed on an exhaust hole part 20a in the baking furnace 20.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの構造物の前駆体が形成された基板21を焼成するための焼成炉20において、焼成炉20内の排気孔部20aに触媒30を配設したことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの焼成炉20である。 - 特許庁

An interlayer insulation film 6 coating a ferroeelctric capacitor structure 1 formed by a platinum electrode layer 3, a PZT film 4, and an upper platinum electrode layer 5 is formed on a Si substrate 2 by a plasma CVD method to open a contact hole 6A.例文帳に追加

Si基板2上に白金電極層3、PZT膜4、上部白金電極層5をもつて形成された強誘電体キャパシタ構造1を覆って層間絶縁膜6をプラズマCVD法により形成し、コンタクトホール6Aを開口する。 - 特許庁

例文

A rest period is set between the upstream side electrode 8 and the downstream side electrode 9, and a high voltage V is applied intermittently to generate plasma in a spatial gap 12 between a through-hole 4a of the honeycomb structure body 4 and the honeycomb structure body 4.例文帳に追加

このハニカム構造体4のうち最も上流に配置されるハニカム構造体4−1の上流側に上流側電極8を配置し、最も下流に配置されるハニカム構造体4−4の下流側に下流側電極9を配置し、上流側電極8と下流側電極9との間に休止期間を設けて断続的に高電圧Vを印加し、ハニカム構造体4の貫通孔4aとハニカム構造体4間の空間ギャップ12にプラズマを発生させる。 - 特許庁

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