plasma etching processとは 意味・読み方・使い方

CONTROL METHOD OF PLASMA ETCHING PROCESS DEVICE AND TRIMMING AMOUNT CONTROL SYSTEM例文帳に追加

プラズマエッチング処理装置の制御方法およびトリミング量制御システム - 特許庁

A plasma etching apparatus 1 comprises a process chamber 2 and an evacuation system P which is connected to the process chamber 2.例文帳に追加

プラズマエッチング装置１は、処理室２と、処理室２に接続された排気装置Ｐとを備える。 - 特許庁

To provide a plasma etching method in which process control is facilitated and etching rate is highly uniform over the surface to be etched.例文帳に追加

プロセス制御が容易で、エッチングレートの面内均一性の優れたプラズマエッチング方法を提供する。 - 特許庁

The process gas of the supply source 2 of a normal pressure plasma etching apparatus M is converted to the plasma gas within a plasma discharge space 1a, and this plasma is blown to a processing object W.例文帳に追加

常圧プラズマエッチング装置Ｍの供給源２のプロセスガスをプラズマ放電空間１ａにてプラズマ化し、被処理物Ｗに吹付ける。 - 特許庁

To provide a process for controlling a substrate processing operation such as a plasma etching operation.例文帳に追加

プラズマエッチング動作などの基板処理動作を制御するプロセスを提供する。 - 特許庁

DEVICE FOR PREVENTING PLASMA FROM ETCHING WAFER CLAMP IN SEMICONDUCTOR PROCESS例文帳に追加

半導体工程においてプラズマのウエハークランプに対するエッチングを予防する装置 - 特許庁

In a process S108, plasma ashing for removing etching residues is started.例文帳に追加

工程Ｓ１０８では、エッチング残さを除去するためのプラズマアッシングを開始する。 - 特許庁

The pre-cleaning process includes a wet etching cleaning process, before reactive plasma treatment is performed.例文帳に追加

事前クリーニング工程には、反応性プラズマ処理が行われる前のウェットエッチング洗浄工程も含まれる。 - 特許庁