partial etchingとは 意味・読み方・使い方

PARTIAL ETCHING FOR SURFACE MODIFICATION OR CONTROLLING OF DEPOSITION BY PULSE ION BEAM例文帳に追加

パルスイオンビームによる表面改質のための局所エッチングまたは堆積の制御 - 特許庁

The thickness of the beam part 31 of the suspension semi-product is reduced by partial etching.例文帳に追加

このサスペンション半製品のビーム部３１の厚さをパーシャルエッチングによって減少させる。 - 特許庁

To perform flat etching by preventing passing of a substrate layer (e.g. a gate oxide film 2) by generating an etching residue due to partial residue of a nature oxide film when etched or partially excess etching.例文帳に追加

エッチング時の自然酸化膜の部分的残存によるエッチング残渣の発生や部分的な過大エッチングによる下地層 (例、ゲート酸化膜２) の突抜けを防いで、平坦なエッチングを達成する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a partial etching glazed ceramic substrate that improves the print quality of a thermal printhead.例文帳に追加

サーマルプリントヘッドの印字画質を向上できる部分エッチンググレーズドセラミック基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

In step 104, flux of etching agent precursor gas is supplied to a partial portion of a substrate surface to be etched.例文帳に追加

ステップ１０４では、エッチングする基板表面の一部分に、エッチング剤前駆体ガスの流束を供給する。 - 特許庁

Thus, the quantity (partial pressure) of a fluorine radical increases in the hole and the speed of etching silicon is made high.例文帳に追加

そのためホール内においてエッチャントであるフッ素ラジカルの量（分圧）が増すことで、シリコンのエッチング速度が高くなる。 - 特許庁

To eliminate a partial etching residue of a metal film and a barrier film while a semiconductor film is left alone, by allowing a sample temperature to be a specified value when etching with plasma a metal film of a multi-layer film which comprises a metal film, a barrier film, and a semiconductor film.例文帳に追加

半導体素子の配線やゲート電極に用いられる金属と多結晶シリコンの多層膜を高精度、高選択に加工する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electron-beam excitation dry etching technique using a reaction gas having low toxicity and corrosiveness in the partial etching of a metallic material required in a fine machining technique.例文帳に追加

微細加工技術で必要な金属材料の局所的エッチングを毒性、腐食性の低い反応ガスを用いた電子ビーム励起ドライエッチング技術を提供する。 - 特許庁