oxygen coverageとは 意味・読み方・使い方

This method facilitates control of the oxygen content in the SRO, and is especially excellent in step coverage, thus allowing high-quality semiconductor devices to be manufactured.例文帳に追加

これにより、ＳＲＯで酸素含量の調節が容易であり、特に、ステップカバリッジに優れており、良質の半導体素子を製造できる。 - 特許庁

By suitably increasing or decreasing the amount of active oxygen or ozone generated in a vapor phase, step coverage can be controlled.例文帳に追加

本発明では、気相中に発生した活性酸素またはオゾン量を適宜増減させることにより、ステツプカバレツジをコントロールできる。 - 特許庁

Subsequently, a dielectric substance having a high dielectric constant and excellent step coverage characteristics can be formed by introducing an oxygen-containing compound into the chamber to let the core metal of the organometallic compound to chemically react with the oxygen of the oxygen-containing compound and removing the ligand from the core metal to form the metal oxide on the substrate.例文帳に追加

続いて、前記チャンバーに含酸素化合物を導入し、前記有機金属化合物の中心金属と前記含酸素化合物の酸素とを化学的に反応させ、前記中心金属から前記リガンドを分離させ前記基板上に金属酸化物を形成することにより、高誘電率を有し優れたステップカバレージ特性を有する誘電物質を形成することができる。 - 特許庁

The coverage of the surface of the semiconductor wafer with the very small water layer enables eliminating the effect of oxygen in the atmosphere, which causes the water mark, on the surface of the semiconductor wafer, thus making it possible to inhibit the formation of the water mark on the surface of the substrate.例文帳に追加

微小水分層で半導体ウェーハ表面を覆うことで、ウォーターマークの原因である雰囲気中の酸素の影響を半導体ウェーハ表面から排除でき、基板表面へのウォーターマークの形成を抑制することができる。 - 特許庁

To provide a film-forming apparatus which can improve coverage properties within a substrate in film formation, does not form a defective part originating in the foreign matter even when there is the foreign matter, can prevent the ingress of oxygen and moisture from the outer part, and can secure the reliability of a thin film.例文帳に追加

基板内の成膜のカバレッジ性を改善することができ、異物があった場合においても、この異物に起因する欠陥部が生じる虞が無く、外部からの酸素や水分の進入を防止することができ、薄膜の信頼性を確保することができる成膜装置を提供する。 - 特許庁