neutralization chamberとは 意味・読み方・使い方

After performing dry etching of a substrate which is electrostatically attracted onto a stage in a processing chamber, He gas is supplied as a neutralization gas into the processing chamber and plasmatized thus performing neutralization processing for reducing a residual electrostatic attraction force generated in a substrate by performing dry etching.例文帳に追加

処理室内のステージ上に静電吸着された基板に対してドライエッチング処理を実施した後、Ｈｅガスを除電用ガスとして処理室内に供給するとともに、Ｈｅガスをプラズマ化することで、ドライエッチング処理の実施により基板に生じた残留静電吸着力を減少させる除電処理を行う。 - 特許庁

After an acid liquid is passed through a raw water chamber 22 of a neutralization dialysis device 2 which is separated into the raw water chamber 22 and an alkali solution chamber 23 by an anion-exchange membrane 21, and an alkali solution is passed through the alkali solution chamber 23 to neutralize and desalinize the acid liquid, the neutralized and desalinized liquid is subject to biological treatment.例文帳に追加

アニオン交換膜２１によって原水室２２とアルカリ溶液室２３とに隔てられた中和透析装置２の原水室２２に酸性液を通水すると共に、アルカリ溶液室２３にアルカリ溶液を通水して該酸性液を中和及び脱塩した後、中和脱塩処理液を生物処理する。 - 特許庁

The neutral particle beam treatment device 10 comprises an ion generating means for generating ions in an ion generation chamber 14, an extraction means for extracting the ions in the ion generation chamber 14 to a neutralization chamber 16, and a neutralizing means for neutralizing the extracted ions to generate the neutral particle beam.例文帳に追加

中性粒子ビーム処理装置１０は、イオン生成室１４の内部にイオンを生成するイオン生成手段と、イオン生成室１４の内部のイオンを中性化室１６に引き出す引出手段と、引き出されたイオンを中性化して中性粒子ビームを生成する中性化手段とを備える。 - 特許庁

In the purification system, a neutralization reaction of the solid component such as the polymer in the polymer wax exfoliation waste liquids and the damping liquids is gradually and slowly progressed all over the whole of each damping chamber 17a, 17b.例文帳に追加

この浄化システムでは、ポリマーワックス剥離廃液中におけるポリマー等の固形分と緩衝液との中和反応が各緩衝室１７ａ、１７ｂの全体に亘って時間をかけて徐々に進行する。 - 特許庁

To reduce electric charges on the surface of a substrate accompanying ion beam irradiation, without deteriorating the vacuum level in a beam line or a substrate processing chamber, by generating a large number of low energy electrons and utilizing them for neutralization.例文帳に追加

ビームラインや基板処理室の真空度悪化を惹き起こすことなく、低エネルギーの電子を大量に発生させてそれを中和に利用して、イオンビーム照射に伴う基板表面の帯電を小さく抑えることができるようにする。 - 特許庁

This substrate discharging method for removing electric charges remaining in the substrate 20 in a vacuum comprises a process of removing the electric charges of the substrate 20 by leading an ionized gas for neutralization to the surface of the substrate 20 housed in an airtight cassette chamber 3.例文帳に追加

本発明は、真空中で基板２０に残留した電荷を除去する基板除電方法であって、気密なカセット室３に収納された基板２０の表面に、電離した除電用ガスを導くことによって基板２０の電荷を除去する工程を有する。 - 特許庁

It is possible to lower a ratio of pressure of out gas in a resist and reduce the effect of ion neutralization (or ionization) even when ion implantation on a wafer 2 having the resist is carried out by holding the pressure more than 1×10-4 Torr within a chamber 1 of the ion implantation apparatus.例文帳に追加

イオン注入装置のチャンバ１内の圧力を１×１０^−４Ｔｏｒｒ以上にすることにより、レジスト付きウエーハ２にイオン注入を行っても、レジストからのアウトガスの圧力の割合を低くすることができ、イオンビームの中性化（又はイオン化）に対する影響を少なく抑えることを特徴とする。 - 特許庁

Consequently, only when the drain water L flows into the drain port 23, the float valve 29 floats to open the drain port 23, so that the leakage of exhaust gas g can be positively prevented, and freezing of the drain water L retained in the neutralization chamber body 9 is economically prevented utilizing heat of exhaust gas flowing in the exhaust muffler body 13.例文帳に追加

これにより、ドレン水Ｌが排水口２３に流入した時のみフロート弁２９が浮上し、排水口２３が開口するため、確実な排気ガスｇの漏洩を防止できるとともに、排気マフラー本体１３内を流通する排気ガスｇの熱を利用して、中和室本体９内に滞留したドレン水Ｌの経済的な凍結防止を行える。 - 特許庁