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multiply-exposedとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 多重露光された
「multiply-exposed」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 7件
An angle finder is attached to the camera at the same position, in the same posture and in the same direction, and a grid image for composition is multiply exposed on a normal photographic image plane.例文帳に追加
同一位置、同一姿勢、同一向きの前記カメラにアングル・ファインダーを装着し、前記通常撮影画像面上に合成用グリッド画像を多重露光する。 - 特許庁
The stencil mask includes substantially identical mask patterns 21, 22 of on at least two unit exposure regions 11, 13 so that the mask patterns 21, 22 formed on unit exposure regions 11-14 are multiply exposed to the material to be exposed.例文帳に追加
本発明のステンシルマスクでは、各単位露光領域11〜14に形成されたマスクパターン21,22を被露光体に多重露光し得るように、略同一のマスクパターン21,22が少なくとも2つの単位露光領域11,13に形成されている。 - 特許庁
An end edge 12 of inner circumference of the opening 6 is multiply folded in the top face direction of the panel section 5 so as to form a folded section 7 in which the end edge 12 is stored in non-exposed condition and disposed in whole circumference of the opening 6.例文帳に追加
開口部6の内周の端縁12をパネル部5の上面側に複数折返してその端縁12が非露出状態で内部に収納された折返し部7を開口部6の全周に設ける。 - 特許庁
To obtain a light beam scanning optical apparatus in which variation in the lifetimes of respective light emitting sources are equalized and as a result, the lifetime of the light sources is extended, in a system in which a face to be scanned is multiply-exposed by multiple beams.例文帳に追加
マルチビームによって被走査面上を多重露光する方式において、各発光源の寿命のばらつきを均等化し、ひいては光源を長寿命化することのできる光ビーム走査光学装置を得る。 - 特許庁
In the light beam scanning optical apparatus, a plurality of light beams respectively output from the plurality of light emitting sources are scanned in one direction and a photoreceptor is scanned and exposed by the light beams, and the same pixel on the photoreceptor is multiply-exposed by a plurality of scans with the light beams output from a predetermined light emitting sources to form an image.例文帳に追加
複数の発光源からそれぞれ出力された複数の光ビームを一方向に走査して感光体上を走査露光し、かつ、複数回の走査で所定の発光源から出力される光ビームにて感光体上の同一画素を多重露光して画像を形成する光ビーム走査光学装置。 - 特許庁
The objective photoresist lattice pattern having high resolution that reaches the critical limit of the optical exposure method is obtained at a high speed by utilizing high solubility of the multiply exposed portions 10 in a developing solution or insolubility of the unexposed portions 13 in the developing solution.例文帳に追加
多重露光部10の現像液への高い溶解特性、または非感光部13の現像液への非溶解性を利用して、高速性とともに、光学露光法の限界に達する微細解像特性をもつ格子パターンが得られる。 - 特許庁
To provide an exposure device capable of reducing crosstalk, when light emitted from a plurality of light emitting elements arranged in a predetermined direction is condensed on a surface to be exposed by a plurality of multiply recorded holograms, to obtain a condensing point line, and to provide an image forming apparatus.例文帳に追加
所定方向に配列された複数の発光素子から射出される光を、多重記録された複数のホログラムにより被露光面に集光させて集光点列を得る場合に、クロストークを低減することができる露光装置及び画像形成装置を提供する。 - 特許庁
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