molecular beam epitaxial growthとは 意味・読み方・使い方

CLEANING METHOD FOR MOLECULAR BEAM EPITAXIAL GROWTH SYSTEM, MOLECULAR BEAM EPITAXIAL GROWTH SYSTEM, SUBSTRATE PRODUCED BY THE SYSTEM, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR例文帳に追加

分子線エピタキシャル成長装置のクリーニング方法、分子線エピタキシャル成長装置、その装置により製造された基板およびその製造方法 - 特許庁

HYDROGEN RADICAL GENERATOR AND MOLECULAR BEAM EPITAXIAL GROWTH SYSTEM EQUIPPED THEREWITH例文帳に追加

水素ラジカル発生装置およびそれを備えた分子線エピタキシャル成長装置 - 特許庁

MOLECULAR BEAM EPITAXIAL GROWTH APPARATUS, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR ELEMENT USING THE SAME例文帳に追加

分子線エピタキシャル成長装置およびそれを用いた半導体素子の製造方法 - 特許庁

To raise operation rates by cleaning efficiently a molecular beam epitaxial growth device.例文帳に追加

分子線エピタキシャル成長装置のクリーニングを効率良く行うことで稼働率を向上させる。 - 特許庁

In the molecular beam epitaxial growth system, a hydrogen radical generator 10 and a molecular beam cell 23 are installed independently.例文帳に追加

本発明の分子線エピタキシャル成長装置は、水素ラジカル発生装置１０および分子線セル２３が、それぞれ独立して設けられている。 - 特許庁

Moreover, an uneven structure high in aspect ratio or a trench structure is buried with an epitaxial layer 5 by the selective epitaxial growth utilizing the rectilinear propagation property of the molecular beam by molecular beam epitaxy or the anisotropic growth effect by a vapor phase growth (CVD) method or a liquid phase growth (LPE) method.例文帳に追加

また、分子線エピタキシーによる分子線の直進性または、気相成長（ＣＶＤ）法および液相成長（ＬＰＥ）法による異方性成長効果を利用した選択エピタキシャル成長により、アスペクト比の高い凹凸構造またはトレンチ構造をエピタキシャル層５で埋め込む。 - 特許庁

The process device 1 is a vacuum device, such as a vapor deposition device, a molecular beam epitaxial device or an ion beam sputtering device, or a thin-film growth device, such as an organic-metal gas-phase growth device or a liquid phase epitaxial device, or a surface treatment device, etc.例文帳に追加

プロセス装置１は、蒸着装置、分子ビームエピタキシャル装置、イオンビームスパッタ装置等の真空装置や、有機金属気相成長装置、液相エピタキシャル装置等の薄膜成長装置、表面加工装置等である。 - 特許庁

To provide an MBE(molecular beam epitaxial) apparatus, which can increase the used rate of a molecular beam material, enhance crystallization and stabilize the growth conditions of a growth layer, and to provide a method for manufacturing a semiconductor element using the apparatus.例文帳に追加

分子線材料の利用率を向上でき、結晶性を高めることができて、しかも、成長層の成長条件を安定させることができるMBE装置およびそれを用いた半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁