memory B cellとは 意味・読み方・使い方

A sending-out point A and a receiving point B of a signal are wired across a memory cell region.例文帳に追加

信号の送出点Ａと受信点Ｂとの間にメモリセル領域を横切って配線を行う。 - 特許庁

This device has a memory cell array 11 having at least three memory cells A, B and C for storing data and a majority decision circuit for selecting data in the memory cell, which is not affected by a software error, according to a majority decision concerning the stored contents of the respective memory cells A, B and C.例文帳に追加

データを格納する少なくとも３つ以上のメモリセルＡ，Ｂ，Ｃを備えたメモリセルアレイ１１と、メモリセルＡ，Ｂ，Ｃの各々の記憶内容について多数決をとってソフトエラーを被っていないメモリセルのデータを選択する多数決回路とを有する。 - 特許庁

The memory cell array region has a plurality of sector regions 0, 1, etc., divided in the second direction B.例文帳に追加

前記メモリセルアレイ領域は、第２の方向Ｂで分割された複数のセクタ領域０，１，…を有する。 - 特許庁

To provide a semiconductor storage device in which, even when the row address of port A matches that of port B, both ports of the word lines of a memory cell belonging to its row is prevented from being opened and the memory cell is accessed independently from the port A and port B.例文帳に追加

ＡポートとＢポートのロウアドレスが一致した場合においても、そのロウに属するメモリセルのワード線が両ポートとも開くのを防止しつつ、ＡポートおよびＢポートからメモリセルに独立にアクセスする。 - 特許庁

A memory cell is formed into which N-channel and P-channel transistors A, B, having different conduction types from each other, are fitted alternately.例文帳に追加

異なる導電型のＮチャネルトランジスタＡとＰチャネルトランジスタＢとを交互に嵌めたメモリセルを形成する。 - 特許庁

A test method of the nonvolatile semiconductor memory device has a (A) step for performing erasion of the memory cell with a FN system, and a (B) step for performing rewriting of the memory cell with the FN system after the (A) step.例文帳に追加

本発明に係る不揮発性半導体記憶装置のテスト方法は、（Ａ）ＦＮ方式でメモリセルの消去を行うステップと、（Ｂ）上記（Ａ）ステップの後、ＦＮ方式でメモリセルの書き戻しを行うステップとを有する。 - 特許庁

A semiconductor memory is provided with a memory cell array A 140, a block selector group A 145, a memory cell array B 150, a block selector group B 155, boosting circuits 120A, 120B, lines 130A, 130B to be boosted, and a boosting control circuit 110 controlling the boosting circuits 120A, 120B.例文帳に追加

本発明の半導体記憶装置は、メモリセルアレイＡ１４０と、ブロックセレクタ群Ａ１４５と、メモリセルアレイＢ１５０と、ブロックセレクタ群Ｂ１５５と、昇圧回路１２０Ａ、１２０Ｂと、被昇圧ライン１３０Ａ、１３０Ｂと、昇圧回路１２０Ａ、１２０Ｂを制御する昇圧制御回路１１０と、を備えている。 - 特許庁

Consequently, the influence of an proximity effect is absorbed in this portion, and the influence of the proximity effect does not attain to a memory element in a memory cell array area B as is the case with a DRAM adopting a conventional half cell.例文帳に追加

従って、この部分で近接効果の影響が吸収され、従来のハーフセルを採用したＤＲＡＭと同様に、メモリセルアレイ領域Ａ内の記憶素子には近接効果の影響は及ばない。 - 特許庁