liquid phase deposition methodとは 意味・読み方・使い方

An undercoat layer of a silicon oxide film is formed on the surface of a thermoplastic resin substrate by liquid-phase deposition method (LPD method).例文帳に追加

熱可塑性樹脂基材表面に、液相析出法（ＬＰＤ法）により酸化ケイ素膜からなるアンダーコート層を形成する。 - 特許庁

To provide a liquid phase deposition apparatus capable of forming a liquid material into a film on a surface to be treated of an object like a substrate in a liquid phase state to simply form a necessary region and, if necessary, capable of forming liquid materials of a different kind into a film at every part of the surface to be treated, and a liquid phase deposition method.例文帳に追加

基板のような対象物の被処理面に液材を液相状態で成膜して必要な部位を簡単に作成することができ、必要に応じて被処理面の部分ごとに異なる種類の液材を成膜できる液相成膜装置および液相成膜方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and a structure for feeding a vaporized reactant to a vapor phase deposition reactor such as an atomic layer deposition (ALD) reactor from a liquid source.例文帳に追加

液体ソースから原子層堆積（ＡＬＤ）反応炉などの気相堆積反応炉に気化反応物を供給する方法および構造を提供すること。 - 特許庁

In this manufacturing method of the thin-film metal oxide ion conductor used for the reducing gas sensor, a metal oxide thin film 2 constituting the metal oxide ion conductor is deposited by a liquid-phase deposition method.例文帳に追加

金属酸化物イオン伝導体を構成する金属酸化物薄膜２を液相析出法により析出させる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor thin film pattern based on liquid phase deposition reaction by irradiating laser light to a solid-liquid boundary surface, differing from a known vapor phase deposition method, a semiconductor thin film pattern and a crystalline semiconductor thin film pattern.例文帳に追加

従来の気相成長法とは異なる、固液界面へのレーザー光照射による液相成長反応に基づく半導体薄膜パターンの製造方法、半導体薄膜パターンおよび結晶性半導体薄膜パターンを提供する。 - 特許庁

In another embodiment, in the thin film production method to a metal powder sintered porous substrate, the liquid phase process is an MOD (Metal Organic Deposition) process or a sol-gel process.例文帳に追加

上記の液相法がＭＯＤ法、またはゾルゲル法であることを特徴とする金属粉末焼結多孔体基板への薄膜製造方法。 - 特許庁

An oxide-containing film containing at least one kind selected from the group comprising silicon, germanium, and tin is formed by a liquid phase method such as a liquid phase deposition method in a region coming in contact with an electrolyte out of the surfaces of the negative active material particles.例文帳に追加

この負極活物質粒子の表面のうち電解液と接する領域に、液相析出法などの液相法により、ケイ素，ゲルマニウムおよびスズからなる群のうちの少なくとも１種の酸化物を含む酸化物含有膜を形成する。 - 特許庁

The positive electrode active material is a thin membrane, formed of an oxide containing at least iron, as a main component, in vapor- or liquid-phase deposition on a substrate using a spattering, reactive deposition, vacuum deposition, chemical deposition, flame spraying or plating method.例文帳に追加

正極活物質が、スパッタリング法、反応性蒸着法、真空蒸着法、化学蒸着法、溶射法、またはめっき法などにより、気相または液相から基板上に堆積して形成した少なくとも鉄を含む酸化物を主成分とする薄膜であることを特徴としている。 - 特許庁