laser annealとは 意味・読み方・使い方

A laser anneal device 10 is provided with a light splitting portion 14 for splitting one laser beam into four laser beams.例文帳に追加

レーザアニール装置１０は、１本のレーザ光を４本のレーザ光に分割する光分割部１４を備えている。 - 特許庁

LASER ANNEAL DEVICE AND MANUFACTURE OF THIN-FILM TRANSISTOR USING THE SAME例文帳に追加

レーザアニール装置及びこの装置を用いた薄膜トランジスタの製造方法 - 特許庁

The implanted p-type impurities are scattered by laser anneal.例文帳に追加

そして、注入されたｐ型不純物をレーザアニールにより拡散させる。 - 特許庁

To suppress abnormal operation of a thin-film device formed by laser anneal due to overheating.例文帳に追加

レーザアニールで形成した薄膜デバイスの過熱による異常動作を抑制する等。 - 特許庁

LASER ANNEAL APPARATUS, METHOD AND DEVICE FOR DETERMINING ENERGY OF LASER BEAM THEREFOR例文帳に追加

レーザアニール装置のレーザ光のエネルギー決定方法、レーザアニール装置のレーザ光のエネルギー決定装置及びレーザアニール装置 - 特許庁

To provide a laser emitting device such as a laser anneal device and a laser ablation device for executing laser emission while efficiently reducing the frequency or labor of maintenance.例文帳に追加

例えばレーザアニール装置、レーザアブレーション装置等のレーザ照射装置において、メンテナンスの頻度や手間を効率的に低減し得つつ、レーザ照射を実行可能にする。 - 特許庁

A laser anneal processing method radiates pulse laser beams on a non-single crystal semiconductor film to perform anneal processing, wherein the pulse laser beams are energy-controlled such that the maximum peak height of pulse waveform of the laser beams reach a given height.例文帳に追加

非単結晶半導体膜上にパルスレーザ光を照射してアニール処理を行うレーザアニール処理方法において、前記レーザ光のパルス波形の最大ピーク高さが所定の高さとなるように、前記パルスレーザ光のエネルギー制御を行う。 - 特許庁

CMOS DEVICE FABRICATION UTILIZING SELECTIVE LASER ANNEAL TO FORM RAISED SOURCE/DRAIN AREA例文帳に追加

選択的レーザ・アニールを利用して隆起状ソース／ドレイン区域を形成するＣＭＯＳデバイスの製作 - 特許庁