intrinsic layerとは 意味・読み方・使い方

An intrinsic semiconductor layer is formed on the first anode/cathode layer.例文帳に追加

真性半導体層が第１陽極／陰極層上に形成されている。 - 特許庁

A barrier layer 7 is an intrinsic InAlAs layer with a thickness of, for example, 5 nm.例文帳に追加

バリア層７は、例えば厚さが５ｎｍの真性ＩｎＡｌＡｓ層である。 - 特許庁

The emitter (E) is equipped with an emitter layer 26 formed on the intrinsic base layer 22.例文帳に追加

エミッタ(Ｅ)は、真性ベース層２２上に設けられたエミッタ層２６を有する。 - 特許庁

The intrinsic channel layer 23 is provided with a recessed part 25 for embedding a gate means, and a gate diffusion layer 5 is embedded in the intrinsic channel layer 23.例文帳に追加

真性チャネル層２３には、ゲート手段埋め込み用の凹部２５が設けられ、ゲート拡散層５が真性チャネル層２３内に埋め込まれている。 - 特許庁

To provide a method for an intrinsic type microcrystalline silicon layer.例文帳に追加

真性微結晶シリコン層のための方法を提供すること。 - 特許庁

An oxide semiconductor layer which is intrinsic or substantially intrinsic and includes a crystalline region at a surface of the oxide semiconductor layer is used for the transistors.例文帳に追加

真性又は実質的に真性であって、表面に結晶領域を含む酸化物半導体層をトランジスタに用いる。 - 特許庁

Between the N-type impurity layer 30 and the intrinsic base layer 50, an epitaxially grown layer is formed, where the epitaxially grown layer is lower in impurity concentration than the N-type impurity layer 30 and the intrinsic base layer 50.例文帳に追加

Ｎ型不純物層３０と真性ベース層５０との間に、Ｎ型不純物層３０及び真性ベース層５０よりも不純物濃度が低いエピタキシャル成長層が形成されている。 - 特許庁

Then, the layer M intrinsic part 16 is added to the common part 31 in the layer M.例文帳に追加

そして、層Ｍにおいて共通部３１に層Ｍ固有部１６が付加される。 - 特許庁