integrated process modelとは 意味・読み方・使い方

INTEGRATED MODEL PREDICTION CONTROL AND OPTIMIZATION IN PROCESS CONTROL SYSTEM例文帳に追加

プロセス制御システムにおける統合型モデル予測制御および最適化 - 特許庁

A data model and a process model corresponding to a first business model are integrated into one graph based on a relation between elements of the models to generate a first extension process graph on data.例文帳に追加

第１の業務モデルに対応するデータモデルとプロセスモデルの要素間の関係に基づいて、これらを一つのグラフに統合して第１の拡張プロセスグラフをデータ上で生成する。 - 特許庁

Similarly, a data model and a process model corresponding to a second business model are integrated into one graph based on a relation between elements of the models to generate a second extension process graph on data.例文帳に追加

同様に、第２の業務モデルに対応するデータモデルとプロセスモデルの要素間の関係に基づいて、これらを一つのグラフに統合して第２の拡張プロセスグラフをデータ上で生成する。 - 特許庁

A macro procedure among business matters to be integrated can be developed in accordance with a business process model and a data model to be provided as business templates.例文帳に追加

本発明の業務テンプレートとして提供するビジネスプロセスモデルとデータモデルに従って、統合すべき業務間のマクロな手順を開発できる。 - 特許庁

It includes a process of forming the wax model W by dividing it into a first model piece 11 divided at a dividing plane passing the undercut part and at least one second model piece 12 forming the wax model W by being integrated with the first model piece 11, and forming the wax model W by integrating each model piece 11 and 12.例文帳に追加

前記ワックスモデルＷを、前記アンダーカット部を通る分割面で分割した第１のモデル片１１と、この第１のモデル片１１と一体化されることにより該ワックスモデルＷを形成する少なくとも一つの第２のモデル片１２とに分割して成形するとともに、各モデル片１１、１２を一体化することにより前記ワックスモデルＷを形成する工程を含む。 - 特許庁

To provide an integrated optimization and control method which integrates an optimization procedure with advanced control such as model predictive control in a process plant in which the number of control and auxiliary variables is larger than the number of manipulated variables.例文帳に追加

統合型最適化・制御技術は、制御変数と補助変数との全数が操作変数の数よりも大きいプロセスプラントにおいて、最適化プロシージャにモデル予測制御の如き高度制御を統合する。 - 特許庁

The method of designing a semiconductor integrated circuit includes the steps of: calculating the risk of occurrence of a problem for each place on the semiconductor integrated circuit to be designed, based on the result of process simulation performed using a previously designed layout pattern 204 and physical model 201; and correcting a design standard 203 according to the risk for each place and generating a compaction condition 206 for each place.例文帳に追加

本発明による半導体集積回路の設計方法は、事前に設計されたレイアウトパタン２０４と物理モデル２０１とを用いて行われるプロセスシミュレーションの結果に基づいて、設計対象となる半導体集積回路上の場所毎に、不具合の発生する危険度を算出するステップと、場所毎の危険度に応じて設計基準２０３を修正し、場所毎のコンパクション条件２０６を生成するステップとを具備する。 - 特許庁