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gate markerとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 ゲートマーカ
「gate marker」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
A gate marker which represents the sample gate is included in 3D graphic data.例文帳に追加
３Ｄグラフィックデータには、サンプルゲートを示すゲートマーカーが含まれる。 - 特許庁
MARKER FOR ALIGNING NONTRANSPARENT GATE LAYERS, METHOD FOR MANUFACTURING SUCH MARKER, AND USE OF SUCH MARKER IN LITHOGRAPHIC APPARATUS例文帳に追加
不透明なゲート層の位置合わせ用マーカ、このようなマーカの製作方法、及びリソグラフィ機器でのこのようなマーカの使用 - 特許庁
The three-dimensional graphic data 16 include a gate marker 20 expressing a sample gate and an azimuth marker 18 expressing a beam azimuth.例文帳に追加
３Ｄグラフィックデータ１６には、サンプルゲートを表すゲートマーカー２０、ビーム方位を表す方位マーカー１８などが含まれる。 - 特許庁
A gate marker 130 is provided on each cursor line 120.例文帳に追加
各カーソルライン１２０上には、ゲートマーカ１３０が設けられている。 - 特許庁
METHOD OF FORMING MARKER FOR DOUBLE-GATE SOI PROCESSING AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
ダブルゲートＳＯＩ処理のためのマーカーの作成方法および半導体デバイス - 特許庁
The gate marker is expressed in, for example, a cylindrical shape and the length and the thickness of the same are determined according to the length and the thickness of the actual sample gate.例文帳に追加
ゲートマーカーは、例えば円柱の形状で表現され、その長さ及び太さは、実際のサンプルゲートの長さ及び太さに応じて定められる。 - 特許庁
To provide a method of forming a marker for double-gate SOI processing, which eliminates the disadvantages in the conventional technologies.例文帳に追加
従来技術における不都合を除去する、ダブルゲートＳＯＩ処理のためのマーカーの作成方法を提供する。 - 特許庁
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「gate marker」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 11件
MARKER FOR ALIGNMENT OF OPAQUE GATE LAYER, METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND USE OF SAME IN LITHOGRAPHY APPARATUS例文帳に追加
不透明なゲート層の位置合わせ用マーカ、このようなマーカの製作方法、及びリソグラフィ機器でのこのようなマーカの使用 - 特許庁
A marker 48 showing a blood stream direction is designated by a user so that it passes the center of the sample gate 46.例文帳に追加
そのサンプルゲート４６の中心を通過するように血流方向を表すマーカー４８がユーザーにより指定される。 - 特許庁
To provide a camera calibration device capable of easily installing a marker for calibration in the calibration of a stereo camera or the like attached to a gate of an automatic ticket gate or the like and reducing the time and labor of calibration work.例文帳に追加
自動改札機等のゲートに取り付けられたステレオカメラ等の校正で校正用マーカを簡単に設置でき、校正作業の手間を軽減きるようにしたカメラ校正装置を提供する。 - 特許庁
In a method of forming a marker MX for double-gate SOI processing on an SOI wafer, at least one marker has a diffracting structure in a first direction, and the diffracting structure is positioned so as to generate an asymmetrical diffraction pattern during use in an alignment and overlay detection system for detection in the first direction.例文帳に追加
ＳＯＩウエハ上でのダブルゲートＳＯＩ処理のためのマーカーＭＸの作成方法においては、少なくとも１つのマーカーは第１方向への回折構造を有し、回折構造は、第１方向における検出のために、配列及びオーバレイ検出システムで用いている間に、非対称的回折パターンを生成するよう配置される。 - 特許庁
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