for MISとは 意味・読み方・使い方

A semiconductor random access memory device with the characteristics of having the matrix of memory cells (C11) that includes the first MIS element (QW11), the drain (3) or the source (4) of the first MIS element (QW11) and the second MIS element (QR11) formed above the first MIS element (QW11), gate input capacity information storage capacitor (CS11) for the second MIS element (QW11). In the matrix of the memory array, the drain of the said first MIS element (QW11) electrically connected to the drain of the second MIS element (QW11), … connecting so that the data line (D1) orthogonally to sense (S1) and word (W1) lines of the each memory cell of the array.発音を聞く 例文帳に追加

第１のMIS素子（Qｗ11）と、第１のMIS素子（Qｗ11）のソース及びドレインのいずれか一方の領域をゲートとして用いて前記第１のMIS素子（Qｗ11）の上に積み重ね形成された第２のMIS素子（QR11）と、この第２のMIS素子（QR11）のゲート入力容量である情報蓄積用のキャパシタ（Cｓ11）とを有したメモリセル（C11）をマトリックス状に配列したメモリアレイにおいて前記第１のMIS素子（Qｗ11）のドレインを第２のMIS素子（QＲ11）のドレインと電気的に結合して、……、データ線（D1）をメモリアレイの各メモリセル間にセンス線（S1）及びワード線（W1）に直交するように配線することを特徴とする半導体ランダムアクセスメモリ装置。 - 特許庁

The semiconductor integrated circuit device is equipped with a logic circuit including MIS transistors formed on a semiconductor substrate, wherein substrate bias control circuit is provided for balancing a first substrate bias voltage Vbp0, which is applied to a first conductive MIS transistor, and a second substrate bias voltage Vbn0, which is applied to a second conductive MIS transistor.例文帳に追加

半導体基体に形成されたMISトランジスタを含む論理回路を備える半導体集積回路において、第１導電型のMISトランジスタに印加する第１基板バイアス電圧Vbp0と第２導電型のMISトランジスタに印加する第２基板バイアスVbn0とをバランスさせる基板バイアス制御回路を設ける。 - 特許庁

MIS FIELD EFFECT TRANSISTOR AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加

ＭＩＳ型電界効果トランジスタおよびその製造方法 - 特許庁

To relax a penalty of performance for a TLB mis-hit by shortening the time needed for page retrieval, in the case of the TBL mis-hit.例文帳に追加

ＴＬＢミスヒット時のページ検索にかかる時間を短縮し、ＴＬＢミスヒット時の性能的ペナルティを緩和する。 - 特許庁

PROCESS FOR MANUFACTURING TERMINAL REGION OF TRENCH MIS DEVICE, SEMICONDUCTOR DIE INCLUDING MIS DEVICE, AND METHOD FOR FORMING THE SAME例文帳に追加

トレンチＭＩＳデバイスの終端領域の作製プロセスおよび、ＭＩＳデバイスを含む半導体ダイとその形成方法 - 特許庁

To provide an MIS-type FET which has low resistance, and is suitable for miniaturizing, easy to manufacture and proper for fine type whose gate length is approximately 0.2 μm or less and an SOI structure, and a method for manufacturing a semiconductor device of such an MIS-type FET or the like.例文帳に追加

低抵抗で、微細化に適し、製造が容易で、ゲート長が概ね0.2μm以下の微細な形式やSOI構造のものに好適なMIS型FET、及び、このようなMIS型FET等の半導体装置を製造する製造方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR EVALUATING DIELECTRIC BREAKDOWN CHARACTERISTIC OF MIS TYPE SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

ＭＩＳ型半導体装置の絶縁破壊特性評価方法 - 特許庁

In the semiconductor integrated circuit device equipped with a logic circuit including MIS (metal insulator semiconductor) transistors formed on a semiconductor substrate, a substrate bias control circuit is provided for balancing a first substrate bias voltage Vbp0 which is applied to a first conductive MIS transistor, and a second substrate bias voltage Vbn0 which is applied to a second conductive MIS transistor.例文帳に追加

半導体基体に形成されたMISトランジスタを含む論理回路を備える半導体集積回路において、第１導電型のMISトランジスタに印加する第１基板バイアス電圧Vbp0と第２導電型のMISトランジスタに印加する第２基板バイアスVbn0とをバランスさせる基板バイアス制御回路を設ける。 - 特許庁