extreme ultraviolet raysとは 意味・読み方・使い方

To provide a gas jet nozzle for a laser plasma extreme ultraviolet rays light source.例文帳に追加

レーザープラズマ極紫外光源のためのガス噴射ノズルを提供する。 - 特許庁

To judge existence or nonexistence of a defect in an extreme ultraviolet rays (EUV) light mask blank.例文帳に追加

極紫外線（ＥＵＶ）光マスク・ブランクにおける欠陥の有無を判定する。 - 特許庁

To extremely lessen deformation due to thermal fluctuation even when X rays or extreme ultraviolet rays are radiated and prevent the intensity of irradiation of X rays or extreme ultraviolet rays from attenuating by providing a cooling means in a multilayer reflecting mirror that reflects X rays or extreme ultraviolet rays.例文帳に追加

本発明はＸ線や極紫外線を反射する多層膜反射鏡において、Ｘ線又は極紫外線の照射時でも熱変化による変形が非常に少なく、かつ冷却手段を設けたことによってＸ線や極紫外線の照射強度の減衰が生じないことを目的とする。 - 特許庁

To prevent pattern defects when extreme ultraviolet rays are used as exposure light.例文帳に追加

露光光に極紫外線を用いた場合のパターン不良を防止できるようにする。 - 特許庁

To provide a compound sensitive to radiation such as KrF excimer lasers, extreme ultraviolet rays, electron beams and X-rays.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザー、極端紫外線、電子線またはＸ線等の放射線に感応する化合物の提供。 - 特許庁

This optical device is used preferably as a reflector for lithography mask in extreme ultraviolet rays (EUV).例文帳に追加

本光学デバイスは、好ましくは極紫外線（ＥＵＶ）中における平版マスク用のリフレクターとして使用する。 - 特許庁

The reflection mask 20 comprises a reflection layer for reflecting extreme ultraviolet rays formed on a mask substrate, an extreme ultraviolet absorbing layer for absorbing extreme ultraviolet rays selectively formed on the reflection layer, and an infrared absorption layer formed at least on an area on which the extreme ultraviolet absorbing layer is not formed.例文帳に追加

反射型マスク２０は、マスク基板の上に形成された極紫外線を反射する反射層と、反射層の上に選択的に形成され極紫外線を吸収する極紫外線吸収層と、反射層の上における少なくとも極紫外線吸収層が形成されていない領域に形成された赤外線吸収層とを有している。 - 特許庁

To provide a mask for extreme ultraviolet rays exposure used for the EUV exposure which has stencil structure so as to solve the manufacturing difficulty of a reflection type EUV mask, and to provide an exposure method of extreme ultraviolet rays by using it.例文帳に追加

反射型ＥＵＶマスクの製造困難性を解消するために、ステンシル構造を有するＥＵＶ露光のための極端紫外線露光用マスク並びにそれを用いた極端紫外線の露光方法を提供する。 - 特許庁